「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a curable resin composition capable of forming cured films having high flatness and being preferably used to form protective films for optical devices having high transparency and surface hardness, excellent in heat and pressure resistance, acid resistance, alkali resistance and spattering resistance and having good patterning characteristics of wired electrodes, and excellent in preservation stability.例文帳に追加

平坦性の高い硬化膜を形成することができ、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性に優れ、配線電極のパターニング特性が良好な光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いることができ、保存安定性に優れる硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film.例文帳に追加

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing semiconductor device to perform patterning by partially removing an insulation film formed on a semiconductor wafer such as the marking of an ID number given to the semiconductor wafer, the insulation film is removed by irradiating a DUV laser which is aligned in the wavelength to the absorbing end of the insulation material forming the insulation film.例文帳に追加

半導体ウェハに付されるＩＤ番号のマーキング等の半導体ウェハに形成された絶縁膜を部分的に除去してパターニングを行なう半導体装置の製造方法において、前記絶縁膜を構成する絶縁材料の吸収端に波長を合せたＤＵＶレーザの照射によって前記絶縁膜の除去を行なう。 - 特許庁

According to this structure, the area of notches for release from the gripper 5 of the electrostatic chuck d2 can be made small, and as it is unnecessary to notch the center part of the electrostatic chuck, the attraction of the electrostatic chuck can be improved, deformation of the wafer 7 when it is attached and lowering of the patterning accuracy and inspection accuracy caused by the above-mentioned deformation can be prevented.例文帳に追加

この構成により、静電チャック１２のグリッパ６からの逃げ用切り欠き４の面積を小さくでき、特に静電チャック１２の中央部１４を切り欠く必要が無いので、静電チャック１２の吸着能力が向上し、吸着時のウエハ７の変形とそれに起因する描画精度または検査精度の低下を防止できる。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of: forming an etching mask 9 having a predetermined pattern formed on a member 3 to be processed; impregnating the etching mask 9 with a predetermined material 12; and patterning the member 3 to be processed using the etching mask 9 impregnated with the predetermined material 12.例文帳に追加

被加工部材３上に所定のパターンが形成されたエッチングマスク９を形成する工程と、前記エッチングマスク９に所定の物質１２を含浸させる工程と、前記所定の物質１２を含浸した前記エッチングマスク９を用い、前記被加工部材３をパターニングする工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide: a method for forming a solder layer in which the solder layer is formed on a surface of a terminal with high patterning precision even when terminals have high density without using a large-scale device; a method for connection between the terminals that uses the solder layer formed by the method for forming the solder layer; a semiconductor device having high reliability; and an electronic apparatus.例文帳に追加

大掛かりな装置を用いることなく、高密度な端子であっても高いパターニング精度で端子の表面に半田層を形成することができる半田層の形成方法、かかる半田層の形成方法により形成された半田層を用いた端子間の接続方法、信頼性の高い半導体装置、および、電子機器を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the partition of the biochip 100 including a substrate 10 and the partition 20 for partitioning its surface includes a first film formation process for forming a first film on the substrate 10 by using the radiation-sensitive composition containing a color former (A), and a partition forming process for forming the partition 20 by patterning the first film by a lithography method.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、カラーフォーマー（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板１０上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして隔壁２０を形成する隔壁形成工程と、を備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing an active matrix substrate used for a reflective liquid crystal display device, projections 701, 702 to roughen the surface of the pixel electrode (reflection electrode) to scatter light are formed by patterning by using the same photo mask used for the formation of TFTs to form the recesses and the projections on the surface of the pixel electrode 169.例文帳に追加

本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for microarray 100, equipped with a substrate 10, a bulkhead 20 partitioning surface of the substrate 10 and an area 30 partitioned by the bulkhead, includes the process to form the first film by using the composition containing compound (A) such as C.I. pigment red 254, and the process to form the bulkhead through patterning of the first film.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０と隔壁により区画された領域３０とを有するマイクロアレイ用基板１００の製造方法において、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４等の化合物（Ａ）を含む組成物を用いて第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes: a step of sequentially forming a metal-containing film 108 and polysilicon film 109; a step of patterning the metal-containing film and polysilicon film to be shaped to the resistive element; and a step of forming a hollow region 119 under the polysilicon film by removing a portion of the metal-containing film.例文帳に追加

基板上に金属含有膜１０８及びポリシリコン膜１０９を順次形成する工程と、前記金属含有膜及び前記ポリシリコン膜を抵抗素子形状にパターニングする工程と、前記金属含有膜の少なくとも一部分を除去することにより、前記ポリシリコン膜の下に中空領域１１９を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrooptical device includes the steps of: forming the conductive layer (9) of the light-reflective conductive material; forming a protective film (19) on the conductive layer; forming resist (60) on the protective film and performing patterning of the resist; and etching the protective film and conductive layer using the patterned resist as a mask.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジストをマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。 - 特許庁

To achieve the object, there are provided a cell culture patterning substrate comprising, a substrate material provided with a convex portion, and a cell culture region, which is a region for culturing a cell, formed on a surface of the substrate material, wherein the cell culture region is partitioned with the convex portion of the substrate material provided with the convex portion.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、凸部を有する基材と、前記基材表面に形成された細胞を培養する領域である細胞培養領域とを有し、前記細胞培養領域が、凸部を有する基材の前記凸部によって区画されていることを特徴とする細胞培養用パターニング基板を提供する。 - 特許庁

When the temperatures of a shield plate assembly 130 and the patterning slit sheet 150 are sufficiently low, the vapor deposition substances 115 radiated to no-desired directions are all absorbed to the face of the shield board assembly 130 to retain a high vacuum, thereby the straight travelling properties of the vapor deposition substances can be secured without generating collision between the vapor deposition substances.例文帳に追加

遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０との温度が十分に低ければ、所望しない方向に放射される蒸着物質１１５は、いずれも遮断板アセンブリ１３０面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生せずに、蒸着物質の直進性を確保することができる。 - 特許庁

The fabric type semiconductor device package comprises a fabric printed circuit substrate having a woven fabric and a first lead part formed by patterning a conductive material on the woven fabric; a semiconductor device having an electrode part connected to the lead part of the fabric printed circuit substrate; and a molding that seals the fabric printed circuit substrate and the semiconductor device.例文帳に追加

布製半導体素子のパッケージは、織布と、前記織布上に導電材をパターニングして形成された第１リード部と、を有する布製印刷回路基板と、前記布製印刷回路基板のリード部に接続された電極部を有する半導体素子と、前記布製印刷回路基板と、前記半導体素子とを密封する成形部（molding）と、を含む。 - 特許庁

The tree classification method and pruning method are such that garden trees are classified in five categories from the viewpoint of a tree form, and shown as tree forms made by patterning peculiar features for each classification, based on each physiological ecology for each classification, and the pruning method backed up from the physiological ecology.例文帳に追加

課題を解決するために、樹形という観点から庭木を5つに分類して、分類毎に其々の生理生態と生理生態から裏付けされた剪定方法に基づいて、分類毎に特徴的な形態をパターン化した樹形とて現したことを特徴とする樹木の分類法と剪定のメソッドを提供して課題解決を図るものである。 - 特許庁

On a substrate used for a production process of a large liquid crystal display, a probe card capable of the simultaneous collective contact to the entire chips on a wafer in high accuracy and low cost is disposed by patterning the following components using photolithography technique or the like: a contact pad with wafer and required wiring; a correction capacity for frequency characteristic improvement; and a signal switching thin-film transistor, and the like.例文帳に追加

大型液晶ディスプレイの製造工程で採用されている基板上に、ウエハーとのコンタクトパッドと必要な配線、周波数特性改善用の補正容量、信号切り替え薄膜トランジスター等をフォトリソグラフ技術等でパターンニングすることにより、高精度且つ低コストのウエハー全チップ一括同時コンタクトが可能なプローブカードを作成する。 - 特許庁

The method of manufacturing a gallium nitride compound semiconductor element having a p-type gallium nitride semiconductor layer doped with Mg comprises irradiating the surface of the p-type gallium nitride semiconductor layer with ultrasonic waves in at least one treating liquid among strong acids and strong alkalis to pretreat the surface of the layer before resist coating for p-type patterning.例文帳に追加

マグネシウムがドープされたｐ型窒化ガリウム系半導体層を有する窒化ガリウム系化合物半導体素子の製造方法において、ｐ型パターニングのためのレジスト塗布の前に、強酸及び強アルカリの少なくとも１つの処理液中で超音波を照射しながらｐ型窒化ガリウム系化合物半導体層の表面を前処理する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive laminate which improves pattern alignment accuracy of a plurality of transparent conductive films by suppressing a dimensional change due to heat applied during a post process by conducting crystallization of a transparent conductive layer in a short time and a heat contraction processing of a substrate prior to patterning and joining of the conductive layer.例文帳に追加

短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a thin film transistor, which has the process of applying a precursor solution to form an oxide semiconductor thin film, forms the oxide semiconductor thin film by using a liquid jet apparatus for jetting charged droplets in patterning a precursor thin film formed by the application of the precursor solution.例文帳に追加

前駆体溶液を塗布して酸化物半導体の薄膜を形成する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 該前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜のパターニングに帯電させた液滴を吐出する液体吐出装置により酸化物半導体の薄膜を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

To provide a zinc oxide-based transparent conductive film-forming material usable for a target for film formation of a transparent conductive film which holds conductivity endurable for pracrtical use, has weather resistance, and has a suitable etching rate in patterning, a method for manufacturing the same, a target using the same, and a method for forming zinc oxide-based transparent conductive film.例文帳に追加

実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

When such the metal mask 11 is used, at least a part in the relief 12a is filled with a stress relaxation layer material during patterning of the stress relaxation layer 5, so that a projecting part 14 projecting outside from an intersection O between extension lines X-X and Y-Y of adjoining two sides is formed at four corners of the stress relaxation layer 5.例文帳に追加

このメタルマスク１１を用いると、応力緩和層５のパターニング時に逃げ部１２ａ内の少なくとも一部に応力緩和層材料が充填されるので、応力緩和層５の四隅部分に、隣接する２辺の延長線Ｘ−Ｘ及びＹ−Ｙの交点Ｏよりも外側に突出する突出部１４が形成される。 - 特許庁

This production method of the graphene conductive film includes: a first step of providing a metallic substrate having a first surface and a second surface facing the first surface; a second step of growing a graphene structure on the first surface of the metallic substrate; and a third step of patterning the metallic substrate by etching to form an electrode.例文帳に追加

本発明のグラフェン導電膜の製造方法は、第一表面及び該第一表面に対向する第二表面を有する金属基材を提供する第一ステップと、前記金属基材の第一表面にグラフェン構造体を成長させる第二ステップと、エッチングによって、前記金属基材をパターニングして電極を形成させる第三ステップと、を含む。 - 特許庁

To obtain an alkali negative development type photosensitive resin composition less liable to swell in alkali development and excellent in properties of a pattern, adhesiveness to a substrate, crosslinking efficiency, reactivity and compatibility after development, to produce a pattern by polyimide patterning by development with an inexpensive aqueous alkali solution and to provide electronic parts each having the pattern and excellent in reliability.例文帳に追加

本発明は、アルカリ現像時の膨潤が少なく現像後のパターン性、基盤接着性、架橋効率、反応性、相溶性に優れるアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、ポリイミドパターン加工を安価なアルカリ水溶液現像にて行えるパターンの製造法、前記パターンを有する信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which fine patterning with a metal oxide can directly be carried out on a substrate by treatment at ordinary temperature or treatment at a relatively low temperature and to inexpensively provide various high density electronic devices having a high degree of integration, a high functional optical element and a photocatalytic member to markets by utilizing the pattern forming method.例文帳に追加

常温処理或いは比較的低温での処理により基板上に直接金属酸化物による微細形状のパターニングを行うことを可能としたパターン形成方法を提供し、また、このパターン形成方法を利用することで、高密度、高集積度の各種電子デバイス、高機能の光学素子、光触媒性部材を安価に市場に提供する。 - 特許庁

By using a sputtering target 14, containing silicon and having a hardness of 900 HV or more in Vickers' hardness, a thin film for forming the mask pattern on a substrate 1 is formed by sputtering, and the high-quality mask blank that suppresses generating of defects is manufactured; and further, the transfer mask is manufactured by patterning the thin film.例文帳に追加

シリコンを含有するスパッタリングターゲット１４であって、ターゲットの硬度が、ビッカース硬さで９００ＨＶ以上であるスパッタリングターゲットを用いて、基板１上にマスクパターンを形成するための薄膜をスパッタリング法で形成し、欠陥発生を抑えた高品位のマスクブランクを製造し、さらに、薄膜をパターニングすることで転写マスクを製造した。 - 特許庁

To solve the issues of the limits in thinning of interlaminar thickness and copper foil and the necessity, etc., of the step of roughing the surface of an adhesive layer incorporated in prior art, to provide sheet material for printed wiring boards which can be thinned and formed with fine patterning, and has durability, and to provide a multilayer printed circuit board using it.例文帳に追加

従来技術が有していた層間厚みや銅箔の薄化の限界、および、接着剤層表面を粗化する工程の必要性等の問題点を解決し、薄化が可能であり、かつファインパターン化が容易であるとともに、耐久性を有するプリント配線板用シート材料およびそれを用いた多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

The method for producing the group III-V compound crystal is comprised of a step to deposit a metal film 2 on a substrate 1, a step to heat-treat the metal film 2 at an atmosphere where a patterning compound exists and a step to grow the group III-V compound crystal 4 on the heat-treated metal film 2.例文帳に追加

基板１上に金属膜２を堆積する工程と、前記金属膜２をパターニングする化合物の存在雰囲気下で熱処理する工程と、前記熱処理後の金属膜２上にＩＩＩ−Ｖ族化合物結晶４を成長させる工程とを備えることを特徴とするＩＩＩ−Ｖ族化合物結晶の製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing an active matrix substrate to be used for a reflective liquid crystal display device, projections 701, 702 to roughen the surface of the pixel electrode (reflection electrode) to scatter light are formed by patterning by using the same photomask used for the formation of TFTs(thin film transistors) to form recessed and projections on the surface of the pixel electrode 169.例文帳に追加

本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁

A photoresist pattern 35 is formed so that an aperture width of an aperture 35K is gradually narrowed as the aperture approaches a seed layer 12 by exposing a photoresist film to light while a reflection suppressing layer 31 is formed in an area F1 to perform patterning and then a precursor magnetic pole partial layer 13AZ is formed in the aperture 35K of the photoresist pattern 35.例文帳に追加

領域Ｆ１に反射抑制層３１を形成した状態においてフォトレジスト膜を露光してパターニングすることにより、開口３５Ｋの開口幅がシード層１２に近づくにしたがって次第に狭まるようにフォトレジストパターン３５を形成したのち、そのフォトレジストパターン３５の開口３５Ｋに前駆磁極部分層１３ＡＺを形成する。 - 特許庁

The process (a) of forming an electrode made of inorganic oxide as a continuous layer among the plurality of electroluminescent elements, and a process (b) of irradiating light on the electrode made of the inorganic oxide and making an electric resistance of all or a part of areas where light irradiation is carried out higher than before the irradiation and carrying out patterning.例文帳に追加

（ａ）該無機酸化物からなる電極を複数の電界発光素子間で連続した層として形成する工程 （ｂ）酸化性ガス雰囲気中で該無機酸化物からなる電極に対して光照射を行い、光照射を行った領域の全域又は一部の電気抵抗を光照射前に比して高くしたパターニングする工程 - 特許庁

A patterning substrate dryer using a hot-water bringing-down method includes a plurality of drying tanks by which washed substrates are dried successively in each drying tank and a mechanism by which hot water is supplied via piping that connect drying tanks from a drying tank where the subject substrate is brought down and is under drying to the next drying tank at which drying will be performed subsequently.例文帳に追加

温水引き下げ方式を用いたパターニング基板乾燥装置において、複数の乾燥槽を具備し、それぞれの乾燥槽にて被洗浄基板の乾燥を逐次行い、且つ、乾燥槽同士をつないでいる配管を介して引き下げ乾燥中の乾燥槽から次に乾燥を行う乾燥槽の方へ温水を供給する機構を持つ。 - 特許庁

To obtain an artificial marble having a novel and varied color pattern, which can be obtained by effect through changing a formed patterning effect by controlling the curing speed of at least one of a gel coat layer or a pattern layer in forming the gel coat layer and the pattern layer to change the formed pattern, and enhanced in design effect and grade properties not obtained in a conventional product.例文帳に追加

ゲルコート層及び柄付け模様層を形成する際に、ゲルコート層又は柄付け模様層の少なくとも一方の硬化速度をコントロールして、形成した柄付け模様を変化させることにより、斬新で変化に富んだ色柄付け模様を得ることができ、従来品にはない意匠性やデザイン性、品位性を高めた人造大理石を得る。 - 特許庁

The method of manufacturing a liquid ejection head includes a step of forming and patterning a mask 52 containing chromium on another side surface of a channel formation substrate 10 with a piezoelectric actuator 300 formed on its one side surface, and a step of forming a liquid channel 12, etc. by anisotropically etching the channel formation substrate 10 from the another surface side via the mask 52.例文帳に追加

圧電アクチュエーター３００が一方面に形成された流路形成基板１０の他方面にクロムが含有されたマスク５２を形成すると共にパターニングする工程と、前記流路形成基板１０を他方面側から前記マスク５２を介して異方性エッチングすることにより、液体流路１２等を形成する工程と、を具備する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent and a resist composition for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating due to the freezing process and the formation of the second resist pattern and resist composition and to provide a pattern formation process by use of them.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、レジスト組成物およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the lower panel for the plasma display panel includes a process for preparing a base substrate, a process for forming a material layer for a barrier rib on the base substrate, a process for forming the barrier rib pattern by irradiating the X-ray on the material layer for the barrier rib, a process for developing and patterning the material layer for the barrier rib.例文帳に追加

基底基板を準備する工程と、基底基板上に隔壁用素材層を形成する工程と、隔壁用素材層上にＸ線を照射することによって隔壁パターンを形成する工程と、隔壁用素材層を現像してパターン化する工程と、を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用下部パネルの製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide an effective manufacturing method of a highly efficient semiconductor device which can use even ArF (argon fluoride) excimer laser light as exposure light in patterning, can control the thickening amount of a resist pattern to be fixed even if conditions such as temperature and atmosphere change, and has a fine wiring pattern or the like beyond exposure limit in a light source of an exposure device.例文帳に追加

パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンの厚肉化量を温度、雰囲気等の条件が変化しても一定にコントロールすることができ、露光装置の光源における露光限界を超えて微細な配線パターン等を有する高性能な半導体装置の効率的な製法方法の提供。 - 特許庁

This artificial marble 1 obtained by injecting a resin composition 2 obtained by being blended with additives such as a filler, a patterning material, an inner releasing agent, and a hardening agent, into a casting mold to be formed and hardened, is formed by using a material obtained by adding and mixing aluminosilicate balloon B into the resin composition 2.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤等の添加物を配合した樹脂組成物２を得て、この樹脂組成物２を注型用金型に注入して成型硬化させて得られる人造大理石１において、樹脂組成物２中にアルミノ・シリケート・バルーンＢを添加配合したものを用いて成るものである。 - 特許庁

The step includes a step to pattern the organic insulating film 33, a step to apply plasma to the substrate including the organic insulating film 33, a step to form contact holes 26, 27 throughout the inorganic insulating film 32, a step to deposit the transparent conductive film on the interlayer insulating film, and a step to form the transparent electrodes 71, 72 by patterning the transparent conductive film.例文帳に追加

その工程は、有機絶縁膜３３をパターン形成する工程と、有機絶縁膜３３を含む基板にプラズマ処理を施す工程と、無機絶縁膜３２にコンタクトホール２６，２７を開口する工程と、層間絶縁膜上に透明導電膜を堆積する工程と、透明導電膜をパターニングして透明電極７１、７２を形成する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a zinc oxide-based transparent conductive film-forming material usable for a target for film formation of a transparent conductive film which holds conductivity endurable for practical use, has weatherability, and has a suitable etching rate in patterning, a method for manufacturing the same, a target using the same, and a method for forming a zinc oxide-based transparent conductive film.例文帳に追加

実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

In a producing method of a magnetic head by forming an element part having prescribed characteristics through a deposition process of depositing on the surface of the substrate 10 and an etching process of patterning the film formed by the deposition process, the circumference of a region, where each element part on the substrate 10 is formed, is surrounded by an electrically conductive film and worked.例文帳に追加

基板１０の表面に成膜する成膜工程と、成膜工程によって形成された膜をパターンニングするエッチング工程を経て所要の特性を有する素子部を形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記基板１０上の各々の素子部が形成される領域の周囲を導体膜で包囲して加工する。 - 特許庁

This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加

表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部１８を有する電子線放出素子１０を用意する工程と、電圧を印加して錐体部１８から電子線１９を放出させて、電子線感応性のレジスト層２２を暴露する工程と、レジスト層２２の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

This patterning base plate has the base material and a cell adhesion inhibiting layer, wherein the cell adhesion inhibiting layer is formed on the base material and contains a cell adhesion inhibiting material having cell adhesion inhibiting properties of inhibiting adhesion to the cells and denatured by action of a photocatalyst due to energy irradiation.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、細胞と接着することを阻害する細胞接着阻害性を有しかつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により変性される細胞接着阻害材料を含有する細胞接着阻害層とを有することを特徴とするパターニング用基板を提供する。 - 特許庁

The color filter 10 comprising patterning a hydrophobic black matrix 13 on a light transmissive and hydrophilic glass substrate 11, coating and forming a plurality of colored pixels 14 respectively transmitting visible light of a plurality of colors in the apertures of the black matrix 13, and forming thick film parts and thin film parts within the same colored pixels 14, and the method for manufacturing the same are provided.例文帳に追加

光透過性で親水性のガラス基板１１の上に疎水性のブラックマトリクス１３をパターニングし、該ブラックマトリクス１３の開孔に異なる色の可視光をそれぞれ透過する複数の着色画素１４を塗工形成し、同一の着色画素１４内に厚膜部と薄膜部とを形成してなるカラーフィルタ１０およびその製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an array substrate comprising the steps of simultaneously patterning a three-layer metal film (Mo/Al/Mo) and multilayer nonmetallic film (SiNx/aSi:H/n+-type a-Si:H), by using one mask pattern capable of forming a stepwise cut of a film covering the multilayer film pattern and sufficiently preventing a fault due to the cut.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、三層金属膜（Mo／Al／Mo）及び多層非金属膜（ＳｉＮｘ／ａ-Ｓｉ:Ｈ／ｎ^+ａ-Ｓｉ:Ｈ）を一括してパターニングする工程を含むアレイ基板の製造方法において、多層膜パターンを覆う膜についての段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁