1153万例文収録!

「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > cleaning processに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

cleaning processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2302



例文

In the immersion lithography system, areas that an immersion medium comes into contact with during an exposure process is cleaned using the cleaning fluid containing the ether-based solvent, alcohol-based solvent, and semi-water type solvent when a predetermined period has elapsed after a plurality of wafers each having a photoresist film formed are exposed in the immersion lithography process using the immersion medium.例文帳に追加

液浸リソグラフィシステムで、フォトレジスト膜が形成された複数のウェーハを、液浸媒体を利用する液浸リソグラフィ工程によって露光した後、所定の周期が経過したとき、露光工程中に液浸媒体が接触した領域をエーテル系溶剤と、アルコール系溶剤と、準水系溶剤とを含む洗浄液を使用して洗浄する。 - 特許庁

To provide a method which can clean the heat treatment tube of a semiconductor substrate heat treatment device, which is used in the heat treatment process such as the oxidation and diffusion process, etc., of a semiconductor substrate, reducing the quantity of metallic contamination efficiently without raising its cost, and a metal contamination getter substrate and a regenerative metal contamination getter substrate used in that cleaning method.例文帳に追加

半導体基板の酸化、拡散工程等の熱処理工程で用いられる半導体基板熱処理装置の熱処理チューブをコストアップすることなく効率よく金属汚染量を減少させ清浄できる方法及びその清浄化方法に用いられる金属汚染ゲッター基板及び再生金属汚染ゲッター基板を提供する。 - 特許庁

After the flaking process, the substrate (W) is carried to the cleaning processing chamber 4 and pump 30 is driven to feed the surface of the substrate (W) with pure water dissolved with carbon dioxide and stored in a pure water feed source 29.例文帳に追加

剥離処理が終ると基板Wは洗浄処理室4へ搬送され、ポンプ30が駆動されて純水供給源29内に貯溜されている二酸化炭素を溶存させた純水がノズル24から基板Wの表面に供給される。 - 特許庁

To improve resistance characteristics of a gas barrier layer against an etching liquid and a cleaning liquid in a process after a gas barrier layer film forming in an organic EL element composed of sequentially laminating a color filter layer, the gas barrier layer, and an organic EL structure on a substrate.例文帳に追加

基板上にカラーフィルタ層、ガスバリア層、および有機EL構造体を順次積層してなる有機EL素子において、ガスバリア層成膜後の後工程におけるエッチング液や洗浄液に対するガスバリア層の耐性を向上させる。 - 特許庁

例文

In the case of detecting toner residuals inside a toner container from the density of a plurality of patch images, the cleaning process of the patch image formed in advance is carried out for two or more times in a period after detecting the patch image and before forming the patch image of the next time.例文帳に追加

複数個のパッチ画像の濃度からトナー容器内のトナー残検を行う場合、パッチ画像を検知してから次回のパッチ画像を形成するまでの間に、先に形成したパッチ画像のクリーニング工程を複数回実行する構成とした。 - 特許庁


例文

To provide a cleaning device, achieving high removing performance and restraining the occurrence of abnormal image, abnormal sound and noise due to vibration of a plate-like elastic member and a holding member, and an image forming apparatus and a process cartridge including the device.例文帳に追加

高い除去性能が得られ、且つ、板状弾性部材及び保持部材の振動による異常画像、異音及び騒音などの発生を抑制できるクリーニング装置、並びに、これを備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

A stainless steel stock is cold-worked, is subjected to immersion degreasing so as to be immersed into an alkali liquid or the like, is thereafter degreased by mechanical grinding using a blast process of spraying abrasive grains, felt cleaning or the like or electrolytic polishing, and is successively heat-treated.例文帳に追加

ステンレス素鋼を冷間加工し、アルカリ液等に浸漬する浸漬脱脂を施した後、砥粒を吹き付けるブラスト法やフェルトクリーニング等を用いる機械研削による脱脂または電解研磨による脱脂を行い、続いて熱処理を行う。 - 特許庁

To provide a resin-coating galvanized steel sheet which is not only excellent in coating suitability, workability, and various profiles such as electric conductivity but also exhibits corrosion resistance which is excellent after an alkaline cleaning process, and which has a resin-coating excellent also in tape peeling resistance.例文帳に追加

塗装性、加工性、導電性等の各種特性に優れるだけでなく、アルカリ脱脂工程後においても優れた耐食性を示し、かつ、耐テープ剥離性にも優れた樹脂皮膜を有する樹脂被覆溶融亜鉛系めっき鋼板を提供する。 - 特許庁

As a result, in the cleaning process of the first frame, foreign objects between the side section and the junction section can be removed, so that deterioration in the high-voltage quality in a color cathode-ray tube can be avoided and the welding failure in the first frame can be prevented.例文帳に追加

これにより、第1フレームの洗浄工程において、側面部と接合部との間の異物を除去することができるので、カラー陰極線管の高圧品質の劣化を抑制することができ、また第1フレームの溶接不良を防止できる。 - 特許庁

例文

By calling up the information relating to contamination of the reticle during storage and transfer included in the information relating to the reticle 1, the reticle 1 in a contaminated state that may cause a pattern defect can be prevented from being used in an exposure process by cleaning the reticle.例文帳に追加

このレチクル1に係る情報に含めた保管,移動時のレチクル汚染に関する情報を呼び出すことで、レチクル洗浄を行って、パターン欠陥に結びつく汚染状態のレチクル1を露光処理に使用することを防止できる。 - 特許庁

例文

To control excessive etching process within a reactor during dry cleaning while controlling the accumulated film thickness in the down-stream side of a processing region for the purpose of forming a film within the reactor of a double structure including a vertical internal pipe and an external pipe.例文帳に追加

縦型の内管及び外管を含む二重構造の反応容器内を用いて成膜を行うにあたって、処理領域の下流側の累積膜厚を抑制してドライクリーニング時における反応容器内の過剰なエッチングを抑えること。 - 特許庁

To provide a method and device, which can improve cleaning efficiency in a saponification treatment process for performing sufficient washing even if a conveying speed is increased and can prevent deterioration in display quality of an optical compensation sheet, for manufacturing an alkali-saponified polymer film.例文帳に追加

鹸化処理工程における洗浄効率を上げることにより搬送速度を大きくしても十分な洗浄を行うことができ、光学補償シートの表示品質を低下させないアルカリ鹸化処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device constituted so that the occurrence of an afterimage, filming on an intermediate transfer medium, toner scattering and the mixture of color may be prevented by stabilizing the unstable electrified polarity of toner left on the intermediate transfer medium after a transfer process and enhancing the performance of a cleaning device.例文帳に追加

中間転写媒体上の転写残トナーの不安定な帯電極性を安定させてクリーニング装置の性能を上げ、残像の発生や中間転写媒体のフィルミング、トナー飛散、混色の防止をした画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element by which, when an inter-layer insulating film using an O_3-TEOS is etched to form a contact, loss in a cleaning process for a lower part of the inter-layer insulating film not densified is prevented.例文帳に追加

O_3−TEOSを用いた層間絶縁膜をエッチングしてコンタクトを形成するとき、緻密化されていない層間絶縁膜の下部のクリーニング工程における損失を防止することが可能な半導体素子の製造方法の提供。 - 特許庁

To equalize the concentration of fluorine in a plurality of films formed, in a fluoridation silicon oxide film forming process, by a high-density plasma CVD method even if the frequency of the cleaning and precoating of a reaction chamber are decreased as low as possible.例文帳に追加

高密度プラズマCVD法によるフッ素添加シリコン酸化膜形成工程において、反応室のクリーニングあるいはプリコートの実施頻度を可能な限り減らしても、複数枚の形成膜におけるフッ素濃度を均一化できるようにする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, along with a process cartridge, capable of suppressing chipping of an elastic layer of a developing roller with an inexpensive constitution to thereby suppress the occurrence of a failure due to a cleaning blade, concerning the image forming apparatus employing a contact developing system.例文帳に追加

接触現像方式を採用する画像形成装置において、安価な構成によって現像ローラの弾性層の削れを抑え、クリーニングブレードによる不具合の発生を抑制することが可能な画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The wash water sticking to the carrying part 2 advancing on a travel passage b is removed by a moisture removing means 4 by separating the carrying part 2 and an egg E stuck with the wash water by a separating means 3 and a separating plate 9 by passing through the cleaning process.例文帳に追加

洗浄工程を通過し、洗浄水が付着した搬送部2と鶏卵Eを離間手段3と離間板9によって離間させ、走行路bを進む搬送部2に付着している洗浄水を、水分除去手段4で除去する。 - 特許庁

To provide a cleaning material having high capability of removing fine foreign matter attached to an object to be cleaned such as an electronic part or the like, easy to be peeled because of decreased residue of a glue, and convenient to be used in the process of producing an electronic part or the like.例文帳に追加

電子部品等の被清掃物に付着した微小異物の除去性能が高く、糊残りが低減されてかつ剥離が容易であり、電子機器等の製造工程において使い勝手のよいクリーニング材を提供することを目的とする。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device excellent in element characteristics with a better yield by removing a resist by wet cleaning and by sufficiently removing particles and metal impurities without damaging a micro pattern after dry etching in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィ工程のドライエッチング後において、ウェット洗浄によりレジストを除去するとともに、微細パターンにダメージを与えることなくパーティクルや金属不純物を十分に除去し、素子特性に優れた半導体装置を歩留まりよく製造する。 - 特許庁

To provide an improving method in field cleaning of deposition by-products in a low-temperature plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) chamber where the thermal budgets of a process require the minimization of the temperature rise of a susceptor and in the hardware in the chamber.例文帳に追加

プロセスの熱割当量がサセプタの温度上昇の最小化を必要とする低温プラズマ化学気相成長(PECVD)チャンバ及び該チャンバ内のハードウェア内の堆積副生物の現場クリーニングにおける改善方法を提供する。 - 特許庁

To produce low melting point glass for a magnetic head whose productive efficiency can remarkably be improved since breakage, chipping or cracks are hard to occur during cutting and grinding works in the production process of the magnetic head, and it is hard to be affected by a cleaning solution.例文帳に追加

磁気ヘッドの製造工程中の切断・研削加工中に割れ、欠け、或いはクラックが発生しにくく、また洗浄液に侵されにくいために、生産効率を著しく向上させることが可能な磁気ヘッド用低融点ガラスを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor with which a stable image with high picture quality can be obtained even for repeated use and a cleaning blade is hardly buckled, to provide a method for forming an image by using the photoreceptor, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge having the above photoreceptor.例文帳に追加

繰り返し使用しても高画質で安定した画像が得られ、且つクリーニングブレードのめくれが発生しにくい電子写真感光体、該感光体を用いる画像形成方法、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供。 - 特許庁

To provide an acrylic adhesive composition which enables to form an adhesive layer exhibiting excellent adhesion to a coating film, which is likely to cause adhesion failure due to bleeding of a surface modifying agent or the like, without requiring a cleaning process or the like.例文帳に追加

表面調整剤等のブリードにより接着不良を生じやすい塗膜に対しても、洗浄処理等を行うことなく、優れた接着性を発揮できる粘着剤層を形成しうるアクリル系粘着剤組成物を提供する。 - 特許庁

In a cleaning factory 100, based on laundry information recorded in the IC tag 3, the laundry 4 is automatically distributed to one of treatment process parts 106-110, and is delivered to the agent 10 via sorting work parts 121-125.例文帳に追加

クリーニング工場100では、ICタグ3に記録されているクリーニング物情報に基づいて、クリーニング物4が何れかの処理工程部106〜110へ自動的に振り分けられ、仕分け作業部121〜125を経て取次店10に配送される。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor, a method for forming electrophotographic images, a device for electrophotographic image formation and a process cartridge in which the torque of a cleaning blade can be effectively decreased and good characteristics without image flowing in a high temperature and high humidity environment can be obtained.例文帳に追加

クリーニングブレードトルクを効果的に低減でき、高温高湿下での画像流れのない良好な特性が得られる電子写真感光体、電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置、及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In the apparatus, a boss part 19 for an arm fulcrum is constituted outside a storing chamber for a cleaning process means and at the tip part of the part 19, a recessed part 21 is formed, and a protruding part 20 that is formed on an arm component 6 is inserted to the boss part 19 together with an arm supporting pin 16.例文帳に追加

クリーニングプロセス手段収納室の外側にアーム支点ボス部19を構成して先端部には凹部21が形成され、アーム部品6に凸部20が形成されて、アーム支点ピン16とともにアーム支点ボス部19へ挿入する。 - 特許庁

To provide a method for producing Fischer Tropsch (FT) synthetic crude oil, inhibiting the reduction of cleaning efficiency in a magnetic separating process and improving the separation efficiency of the magnetic particles by decreasing the concentration of the magnetic particles contained in the FT synthetic crude oil.例文帳に追加

フィッシャー・トロプシュ合成粗油に含まれる磁性粒子の濃度を低減することで、磁気分離工程の洗浄効率の低下を抑制し、磁性粒子の分離効率を高めた、フィッシャー・トロプシュ合成粗油の製造方法を提供する。 - 特許庁

The developing device (process part 5) includes: the development roller 56 configured to rotate while carrying the liquid toner obtained by mixing the toner particles with a carrier liquid; and a cleaning blade 58A configured to slide-contact with the development roller 56 to scrape off the liquid toner carried on the development roller 56.例文帳に追加

現像装置(プロセス部5)は、キャリア液にトナー粒子を混合させてなる液体トナーを担持しながら回転する現像ローラ56と、現像ローラ56と摺接して、現像ローラ56上の液体トナーを掻き取るクリーニングブレード58Aと、を有している。 - 特許庁

To provide an aluminum removing device which is high in maintainability by facilitating the cleaning of a filtration device and the exchange of a filter in the aluminum removing device for removing aluminum from an aged liquid of a secondary electrolytic colored liquid bath in an alumite treatment process.例文帳に追加

アルマイト処理工程の二次電解着色液浴の老化液からアルミニウムを除去するアルミニウム除去装置において、濾過装置の洗浄やフィルターの交換が容易に行なえてメンテナンス性が高いアルミニウム除去装置を提供する。 - 特許庁

By improving polymer adhesion, the plasma-sprayed component surfaces can reduce the level of particle contamination in the process chamber, thereby improving yields and reducing a down-time required for cleaning and/or replacing the chamber component.例文帳に追加

ポリマーの付着を向上させることによって、プラズマ溶射構成部品の面は、処理チャンバ内のパーティクル汚染レベルを低下し、それによって歩留まりを改善し、チャンバ構成部品を洗浄及び/又は取り替えるのに必要な停止時間を減らすことができる。 - 特許庁

To provide electrostatic charge image developing toner indicating a cleaning characteristic stable for a long period while maintaining low temperature fixability, and an electrostatic charge image developing developer, an electrostatic charge image developing developer cartridge and an image forming apparatus and a process cartridge, using the same.例文帳に追加

低温定着性を維持しつつ、長期安定なクリーニング特性を示す、静電荷像現像用トナー、並びに、これを用いた静電荷像現像用現像剤、静電荷像現像用現像剤カートリッジ、画像形成装置、及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning silicon wafers capable of permanently preventing free carbon from being discharged from a boat that is used for the heat treatment process of the silicon wafer and is made of silicon carbide, and stably supplying a high-quality silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウエハの熱処理工程に用いられる炭化ケイ素製ボートからの遊離カーボンの放出を永続的に防止することができ、高品質のシリコンウエハを安定的に供給することができるシリコンウエハの清浄化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent composition for a silicon wafer, having good cleaning performance to coolants, abrasive-grains or silicon powders and also being capable of making a wafer surface allowing formation of good texture in a subsequent etching process.例文帳に追加

クーラント、砥粒、あるいはシリコン粉に対する優れた洗浄性能を有し、かつ、その後のエッチング工程において良好なテクスチャーを形成することができるウェハ表面を作り上げることができるシリコンウェハ用表面処理剤組成物を提供する。 - 特許庁

By improving the polymer adhesion, the plasma sprayed component surfaces can reduce the levels of particle contamination in the process chamber, thereby improving yields and reducing down-time required for cleaning and/or replacing chamber components.例文帳に追加

ポリマーの付着を向上させることによって、プラズマ溶射構成部品の面は、処理チャンバ内のパーティクル汚染レベルが低下し、それによって歩留まりを改善し、チャンバ構成部品を洗浄及び/又は取り替えるのに必要な停止時間を減らすことができる。 - 特許庁

To provide a cationic electrodeposition coating composition containing an anti-foaming agent which shows an excellent cost performance without deteriorating the appearance of the coated film and a process for inhibiting the foaming of electrodeposition baths or ultrafiltrate for cleaning using such anti-foaming agent.例文帳に追加

塗膜外観に異常を与えず、かつコストパフォーマンスに優れている消泡剤を含有するカチオン電着塗料組成物を提供し、更には、そのような消泡剤を用いて電着浴や洗浄用UF濾液の発泡を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

In a wire cleaning process, ultraviolet rays are radiated to a surface of the wire 11 from a light emitting part 24 for a predetermined period in an ozone supplying device 25, while ozone-containing gas is supplied from an ozone generating device 27 to the ozone supplying device 25.例文帳に追加

ワイヤ洗浄工程においては、オゾン発生装置27からオゾン供給部25にオゾン含有ガスを供給しながら、このオゾン供給部25内で光照射部24より紫外線をワイヤ11の表面に所定時間、照射する。 - 特許庁

The came gear 111 is manually rotationally turned by a manual operation part 116 to move the extraction mechanism 37 and the extraction raw material supply/discharge mechanism 38 so as to improve maintenance in the occurrence of the trouble such as stopping in the middle of the beverage extraction process and in the cleaning.例文帳に追加

手動操作部116でカムギヤ111を手動回動させ、抽出機構37および抽出原料供給排出機構38を動かし、飲料抽出工程途中で止まるなどの不具合の発生時や清掃時などでのメンテナンス性を向上させる。 - 特許庁

To provide a cleaning tool for steamers which can simply and quickly clean the inner peripheral surface of a mesh cylinder in the steamer, can reduce the work load on a worker, and can improve the work efficiency of a process of steaming tea leaves.例文帳に追加

蒸機における網胴の内周面を簡単かつ短時間に清掃することができ、作業者の作業負担を軽減することができるとともに茶の葉の蒸熱工程の作業効率を向上させることができる蒸機用清掃用具を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent dry process spacer scattering device by which the frequencies of cleaning and exchange of a scattering pipe can be suppressed and a foreign matter defect on a liquid crystal substrate can be reduced by suppressing accumulation or flocculation of spacers onto the inner wall of the scattering pipe.例文帳に追加

散布配管内壁へのスペーサの堆積、あるいはスペーサの凝集を抑えることで、 散布配管の清掃・交換頻度を抑え、かつ液晶基板の異物不良を低減可能な優れた乾式液晶スペーサ散布装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pipe-cleaning mechanism for an MOCVD apparatus to keep an effective cross-sectional area of exhaust piping constant at all times, by transferring a product produced in the exhaust piping to an area which is not affected by a process, without the need for removing the exhaust piping.例文帳に追加

MOCVD装置において、排気配管を取り外すことなく、排気配管の生成物をプロセスの影響のない領域まで移動させ、排気配管の有効な断面積を常に一定に保持する配管清掃機構を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus has the process cartridge 6 set so that at least two components out of an image carrier 11 on the surface of which an electrostatic latent image is formed, an electrifying means, a developing means, a transfer means, a cleaning means and a toner container in which toner is stored can be attached/detached.例文帳に追加

表面に静電潜像が形成される像担持体11、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、トナーを収容するトナー容器の内の少なくとも2つの部品を着脱可能としたプロセスカートリッジ6とを有する。 - 特許庁

In the pretreatment method in the biological cleaning of the sewage containing organic pollutants, the sewage, before being introduced into the activated sludge treatment process, is exposed to a magnetic field.例文帳に追加

有機汚濁物質を含有する汚水の生物浄化における前処理法であって、上記汚水を活性汚泥処理工程に導入する前に、上記汚水を磁界に接触させることを特徴とする汚水の生物浄化における前処理法。 - 特許庁

To facilitate handling of multiple optical fibers respectively connected to each of ferrules when holding multiple ferrules with optical fibers, and to hold each of ferrules with excellent workability at low cost without generating a trouble in handling thereof during the cleaning work in a grinding process.例文帳に追加

多数の光ファイバ付きフェルールを保持したとき、各フェルールにそれぞれ連なる多数の光ファイバの取り扱いが容易で、研磨工程の清掃作業中の取り扱いも煩わしさがなく、各フェルールを作業性よく低コストで保持する。 - 特許庁

To provide an image forming method, an image forming apparatus, a process cartridge and an electrophotographic photoreceptor realizing good image quality, preventing peeling at the end of the coating layer of a photoreceptor, toner filming, the occurrence of a black spot or the like, and faulty cleaning, and realizing excellent durability.例文帳に追加

画質が良く感光体塗布層端部の剥がれがない、トナーフィルミングが無い、黒ポチ等が無く、クリーニング不良を生じない、耐久性がよい画像形成方法と画像形成装置及びプロセスカートリッジと、電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the photographic polyester support, the support is treated by a process for preventing blocking using water cleaning after a plasma processing when polyester films are continuously carried and processed by discharged plasma processing under air pressure of 65,000-110,000 Pa.例文帳に追加

連続搬送しているポリエステルフィルムを65,000〜110,000Paの気圧下でガス中放電プラズマ処理する際、プラズマ処理した後に、水洗によるブロッキング防止工程を経ることを特徴とする写真用ポリエステル支持体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic device, including a process of selectively forming a cured film, that eliminates the need for cleaning, lightens an environmental load, and can selectively form an opening on an electrode surface and protect a specified surface.例文帳に追加

洗浄の必要がなく、環境負荷を低減するとともに、電極表面に選択的に開口部を形成することや特定の表面を保護可能な選択的に硬化皮膜を形成する工程を含む電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Organic substances and foreign substances are removed by mounting a plasma ashing apparatus 200, which covers the wafer holder 7 when cleaning and generates a plasma on the exposure system used in the photolithographic process for semiconductor manufacturing, and then by plasma- ashing the wafer holder.例文帳に追加

半導体製造のホトリソグラフィ工程で使用される露光装置に、ウェーハホルダ7のクリーニング時にウェーハホルダを覆ってプラズマを発生させるプラズマアッシング装置200を装着して、ウェーハホルダをプラズマアッシングすることにより、有機物・異物を除去する。 - 特許庁

The ionized air generating device is operated to blow the ionized air on a label face of a disk immediately before the disk is loaded to the label printer unit or right after the action of conveying the disk is started, thereby performing a process of removing electric charges from the label face and cleaning the label face.例文帳に追加

ラベルプリンタにディスクを載置する直前、或はディスク搬送動作を開始した直後にイオン化空気発生器を動作させ、イオン化空気をディスクのラベル面に吹き付けることにより、ラベル面の除電清浄処理が行われる。 - 特許庁

To provide a wiring structure of a semiconductor device and a method of forming the same which prevent a first contact pad from being damaged by a cleaning fluid in the formation of a second contact plug to be connected to the lower electrode of a capacitor in a downstream process.例文帳に追加

後工程における、キャパシタの下部電極と接続されるべき第2コンタクトプラグの形成の際の洗浄液による第1コンタクトパッドの損傷を防止できる、半導体装置の配線構造物及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

To prevent the sticking of a conductive film for absorbing laser beams and to improve a COD level and surge breakdown voltage at the time of plasma-cleaning an end face as the preprocessing of a process of coating the resonator end face of a semiconductor laser with a dielectric film.例文帳に追加

半導体レーザの共振器端面を誘電体膜でコーティングする工程の前処理として前記端面をプラズマクリーニングする際に、レーザ光を吸収する導電性膜の付着を防止し、CODレベルやサージ耐圧の向上を図る。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS