「d-process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for producing the feed comprises a hydrolysis process (B) of hydrolyzing only baked bread 2 excluding raw dough among discarded bread 1, an alcoholic fermentation process (C) of subjecting a hydrolyzed liquid 4 to alcoholic fermentation and a dough mixing process (D) of mixing raw dough 3 with an alcohol-containing liquid 5 subjected to alcoholic fermentation to make the product half-liquid.例文帳に追加

廃棄パン１のうちナマ生地を除く焼パン２のみを加水分解する加水分解工程（Ｂ）と、加水分解液４をアルコール発酵させるアルコール発酵工程（Ｃ）と、アルコール発酵したアルコール含有液５にナマ生地３を混合して半リキッド化する生地混合工程（Ｄ）とを備える。 - 特許庁

The material of the coloring elements 59r, 59g and 59b is discharged into a plurality of display dot areas D while leaving space equivalent to at least one display dot area D, and further a first process to dry the discharged material of the coloring elements is performed.例文帳に追加

少なくとも１つの表示ドット領域Ｄ分の間隔を開けて複数の表示ドット領域Ｄ内に着色要素５９ｒ，ｇ，ｂの材料を吐出し、さらに、吐出された着色要素材料を乾燥する１回目のプロセスを実行する。 - 特許庁

Further, a voltage command value regulator 28 performs a voltage regulation process about the d-axis voltage command value Vd* and the q-axis voltage command value Vq*, with the d-axis maximum voltage-commanding value Vd_max and the q-axis maximum voltage-commanding value Vq_max as regulated values.例文帳に追加

そして、電圧指令値制限部２８は、そのｄ軸電圧指令最大値Ｖd_max及びｑ軸電圧指令最大値Ｖq_maxを制限値として、ｄ軸電圧指令値Ｖd*及びｑ軸電圧指令値Ｖq*についての電圧制限処理を実行する。 - 特許庁

A control unit 20 for controlling the pressurized bending side rotating holder 12 so as to suitably give the compressed stress and/or the bending stress according to the variation of L/D degree by sensing the L/D in the process of forming axial enlargement, is further provided.例文帳に追加

軸肥大成形過程におけるＬ／Ｄをセンシングして、Ｌ／Ｄの大きさの変化に応じて適度な圧縮応力および／または曲げ応力を付与するように加圧・曲げ側回転ホルダ１２を制御する制御部２０をさらに備えている。 - 特許庁

In this process, the controller 14 inputs a signal Vin for maximizing an output voltage of the D/A converter 16 to the D/A converter 16, when analyzing energy of the electron spectroscope 7 is maximized to 30 eV as a maximum energy in the Eonset analysis.例文帳に追加

その際、制御装置１４は、電子分光器７の分析エネルギーを、Ｅonset分析における最大の３０ｅＶとするときには、ＤＡコンバータ１６の出力電圧を最大とするための信号ＶinをＤＡコンバータ１６に入力する。 - 特許庁

(6) In the application of the provisions of Art. 8 paragraph (1) letter d) of the Law, the presentation of information per se, characterized only by the content thereof is not patentable, but the information carrier or the process for transmitting the information may be patentable.例文帳に追加

(6) 本法第 8条第 1段落(d)の規定の適用上，その内容のみによって特徴付けられる情報それ自体の提示は特許を受けることができないが，ただし，情報媒体又は情報を伝達する方法は特許を受けることができる。 - 特許庁

The process controller 11 performs film forming by calculating (Ii/Ie) upon film forming, obtaining D/R by using the calibration curve of a film formation rate, controlling a mass flow controller 5 based on the obtained D/R, and controlling the flow rate of the delivery gas.例文帳に追加

プロセスコントローラ１１は成膜時に（Ｉｉ／Ｉｅ）を算出し、前記成膜速度検量線を用いてＤ／Ｒを求め、求めたＤ／Ｒに基づいてマスフローコントローラ５を制御し、搬送ガスの流量を制御して、成膜処理を行う。 - 特許庁

This D/A converter is constituted, including four data hold parts 10-1 to 10-4, four step function generation parts 11-1 to 11-4 an addition part 12, a D/A conversion part 14, two integrating process parts 16 and 18, and a timing control part 20.例文帳に追加

Ｄ／Ａ変換器は、４つのデータ保持部１０−１〜１０−４、４つの階段関数発生部１１−１〜１１−４、加算部１２、Ｄ／Ａ変換部１４、２つの積分処理部１６、１８、タイミング制御部２０を含んで構成されている。 - 特許庁

The manufacturing method of the indication plate 100 comprises: a resin film arrangement process (b) which the resin film 102 is located on the tabular base material 101(a); a resin film cutting process (c) performing cutting of the surface of the resin film; and a resin film polishing process (d) which polishes the surface of the cutting process performed resin film.例文帳に追加

本発明の表示板１００の製造方法は、板状の基材１０１（ａ）上に樹脂膜１０２を配置する樹脂膜配置工程（ｂ）と、前記樹脂膜の表面に切削加工を施す樹脂膜切削工程（ｃ）と、切削加工が施された前記樹脂膜の表面を研磨する樹脂膜研磨工程（ｄ）とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The rotary molding machine for manufacturing the nuclear fuel pellet is provided with the powder scattering preventing device provided with a receiving mechanism receiving the nuclear fuel powder remaining on a table 3 and in a raking process A, a precompressing process B, a molding process C and a mounting process D, and a sucking mechanism sucking and removing the nuclear fuel powder.例文帳に追加

核燃料ペレット製造用回転式成型機に於いて、掻込工程Ａ、予備圧縮工程Ｂ、成型工程Ｃ、載置工程Ｄ及びテーブル３上の残存する核燃料粉末を受ける受け機構と、この核燃料粉末を吸引除去する吸引機構とを備えた粉末飛散防止装置１２を設ける構成としたものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the porous filter 1 includes (A) a process of molding a source material of the porous filter body, (B) a process of calcining the molded source material to form the base body of the porous filter, (C) a process of depositing membranes on the porous filter and (D) a process of sealing the passages on the end faces of the porous filter.例文帳に追加

（Ａ）多孔質フィルター基体の原料を成形する工程と、（Ｂ）成形された原料を焼成して、多孔質フィルター基体を形成する工程と、（Ｃ）多孔質フィルター基体に成膜する工程と、（Ｄ）多孔質フィルターの端面において流通路を封止する工程とを備えることを特徴とする多孔質フィルター１の製造方法である。 - 特許庁

A distortion compensating part 405-1, for determining the electric power threshold value, executes a distortion compensating process, based on each power series computing process according to each range of a plurality of electric power ranges to a feedback signal obtained from an A/D 113.例文帳に追加

電力閾値決定用歪補償部４０５−１は、Ａ／Ｄ１１３から得られるフィードバック信号に対しその複数の電力範囲の各々に応じた各べき級数演算処理による歪補償処理を実行する。 - 特許庁

When a processing time needed for correction calculation that corrects a measurement error of a process variable detected by a sensor part 27 is defined as T1, an A/D converter 13 converts the process variable into a digital value in each sampling cycle Ts (Ts<T1).例文帳に追加

Ａ／Ｄ変換器１３は、センサ部２７で検出されるプロセス変量の計測誤差を補正する補正演算に要する処理時間をＴ１としたとき、サンプリング周期Ｔｓ（Ｔｓ＜Ｔ１）ごとにプロセス変量をデジタル値に変換する。 - 特許庁

Then, the material of the coloring elements 59r, 59g and 59b is discharged into the display dot area D into which the material is not discharged as the droplets in the first process, and further a second process to dry the discharged material of the coloring elements is performed.例文帳に追加

次に、１回目のプロセスで液滴吐出されなかった表示ドット領域Ｄ内に着色要素５９ｒ，ｇ，ｂの材料を吐出し、さらに、吐出された着色要素材料を乾燥する２回目のプロセスを実行する。 - 特許庁

This method has (c) an anisotropic dry etching process of forming a predetermined pattern recess 20 by piercing the tunnel barrier layer 15 of a tunnel junction film 10a, and (d) an isotropic dry etching process of removing a sidewall deposit (22) of the recess 20.例文帳に追加

（ｃ）トンネル接合膜１０ａのトンネルバリア層１５を貫通して、所定パターンの凹部２０を形成する異方性ドライエッチング工程と、（ｄ）凹部２０の側壁付着物（２２）を除去する等方性ドライエッチング工程とを有する。 - 特許庁

At the time, the display control board D skips a process of outputting an error signal even if receiving symbol control commands because a power supply return flag 23d is on.例文帳に追加

その際、表示用制御基板Ｄは、図柄制御のコマンドを受信しても電源復帰フラグ２３ｄがオンされているので、エラー信号を出力する処理がスキップされる。 - 特許庁

Then, the metal wire material 11 is cut at a polishing process D, and the glass front surface is polished and processed so that the front surface of the integrated plywood 17 may be made to expose the end surface.例文帳に追加

次に、研磨工程Ｄで金属線材１１を切断し、その端面を合体合板１７の表面に露呈させるようガラス表面を研磨処理する。 - 特許庁

The rinsing composition contains respective constituents of (a), (b), (c) and (d), and is constituted so as to be used for rinse applied on the surface of the silicon wafer after the grinding process.例文帳に追加

リンス用組成物には、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の各成分が含有され、前記研磨工程後のシリコンウエハ表面に施されるリンスに用いられるように構成されている。 - 特許庁

A coating 51 of the intermediate body 53 is finally baked in a final baking process "Fig.5(d) and (e)" to obtain an outer shaft 35 including a coating 39 formed of a final baked body.例文帳に追加

内軸製造用中間体５３の被膜５１を本焼成工程〔図５（ｄ），（ｅ）〕で本焼成して、本焼成体からなる被膜３９を有する外軸３５を得る。 - 特許庁

A first vascular region 71 of a surface vascular region including the pixel for which the vascular depth D is determined as the surface is subjected to a suppression process for reducing the contrast.例文帳に追加

血管深さＤが表層と判定された画素を含む表層血管領域の第１血管領域７１に対して、コントラストを低下させる抑制処理を施す。 - 特許庁

In this case, a resistance and a switch composing the D/A conversion circuit 160 are composed of a TFT formed by using a manufacturing process common with the TFT 116.例文帳に追加

ここで、Ｄ／Ａ変換回路１６０を構成する抵抗およびスイッチは、ＴＦＴ１１６と共通の製造プロセスを用いて形成されたＴＦＴから構成される。 - 特許庁

When an conversion object signal is input, the filter process based on the coefficient obtained is conducted for correction to the digital signal train outputted from the A/D converter.例文帳に追加

変換対象信号が入力されたときにＡ／Ｄ変換器が出力するデジタル信号列に対し、前記得られた係数によるフィルタ処理を行い補正する。 - 特許庁

The DAC 142 outputs an analog signal obtained from the D/A conversion to an analog mixer 124, which performs a mixing process of the analog signal and outputs the resulting signal.例文帳に追加

ＤＡＣ１４２は、Ｄ／Ａ変換して得たアナログ信号をＡＦＥ１２０のアナログミキサ１２４に出力し、アナログミキサ１２４はこのアナログ信号をミキシング処理して出力する。 - 特許庁

At the time, the display control board D skips a process of outputting an error signal if receives symbol control commands because a power supply return flag 23d is on.例文帳に追加

その際、表示用制御基板Ｄは、図柄制御のコマンドを受信しても電源復帰フラグ２３ｄがオンされているので、エラー信号を出力する処理がスキップされる。 - 特許庁

Out of a (A+B) signal and a (C+D) signal for detecting a radial push-pull signal, the multiplying process is carried out for the (A+B) signal by a specific coefficient k.例文帳に追加

ラジアルプッシュプル信号を検出するための（Ａ＋Ｂ）信号及び（Ｃ＋Ｄ）信号のうち、（Ａ＋Ｂ）信号に対して所定の係数ｋを乗算処理する。 - 特許庁

When pieces of processing (A to D) 11 to 14 process respective lock objects (a to n) 21 to 2n, exclusive operation is needed in the unit of object instances (a to n) 31 to 3n.例文帳に追加

処理（Ａ〜Ｄ）１１〜１４が各ロックオブジェクト（ａ〜ｎ）２１〜２ｎに対して処理を行う場合、オブジェクトインスタンス（ａ〜ｎ）３１〜３ｎ単位で排他的動作が必要となる。 - 特許庁

In the side wall rubber 2 molding process having a stepped part D for absorbing the thickness of the tread reinforcing ply 4 is molded on each of the end parts 2A.例文帳に追加

サイドウォールゴム成形工程は、前記端部分２Ａに前記トレッド補強プライ４の厚さを吸収する段差部Ｄを有するサイドウォールゴム２を成形することを特徴とする。 - 特許庁

Even when the oxide film of a metal strong in a coupling force with oxygen is formed on the upper surface of the wiring material film 5, the oxide of the metal can be removed in the process (d).例文帳に追加

配線材料膜５の上面に酸素との結合力が強い金属の酸化膜が形成される場合でも、当該金属の酸化物は工程（ｄ）で除去できる。 - 特許庁

Until the distance between the second posture sensor 9 and the side panel 4 is the set distance d, the second sensor 9 is tilted having the first detecting point 8a as a fulcrum to, in a second range finding process.例文帳に追加

第２測距工程では、第１検出点８ａを支点として第２姿勢センサ９とサイドパネル４との距離が設定距離ｄとなるまで傾動させる。 - 特許庁

When the R bending processing is carried out, every value of feeding pitches of the right and left back gauges, push-in quantities of right and left D axis, and crowing pressures is adjusted for every process.例文帳に追加

Ｒ曲げ加工を行う場合は、左右のバックゲージの送りピッチ、左右のＤ軸の追い込み量、クラウニング圧力などの各値が工程毎に調整される。 - 特許庁

In the method of producing an Mg alloy, to an Mg raw material in the process of heating or the molten metal M of Mg, the molten metal m of an element for an Mg alloy is added as droplets d.例文帳に追加

加熱途中のＭｇ原料またはＭｇの溶湯Ｍに対して、Ｍｇ合金用元素の溶湯ｍを液滴ｄとして添加する、Ｍｇ合金の製造方法。 - 特許庁

An oil repellent process is applied to the depth sections B of the lubricant reservoir holes Q21, Q22 and the depth section D of the lubricant reservoir hole Q23 so that bubbles can be easily retained.例文帳に追加

これらの潤滑油溜穴Ｑ２１、Ｑ２２の奥部Ｂおよび潤滑油溜穴Ｑ２３の奥部Ｄには撥油処理を施して、気泡を滞留させ易くした。 - 特許庁

In the transfer process, first, an image information recording part (d) is conveyed and stopped at a transfer start position N by driving a drive motor M1 for a transfer film supply spool 47.例文帳に追加

転写の際に、まず転写フィルムの供給スプール４７の駆動モータＭ１を駆動して画像情報記録部ｄを転写開始位置Ｎにまで搬送して停止させる。 - 特許庁

In the period from when the grooves are buried until the top face of the convex portion is covered and flattened (3.D), the process is carried out under reduced pressure while controlling the V/III ratio to be low (by reducing the supplying amount of ammonia to 1/5).例文帳に追加

溝部が埋まり、凸部の上面がほぼ覆われて平坦化する（３．Ｄ）までは、減圧で、Ｖ／III比を低く（アンモニアの供給量を１／５と）した。 - 特許庁

In the process (d), the bottom end of the heat radiating fin is put in the recess of the common support, and next, the solder alloy is heated to couple many heat radiating fins with the common support.例文帳に追加

工程(ｄ)で、放熱フィンの底端を共通支持体の凹所に入れ、次いで鑞合金を加熱して多数の放熱フィンを共通支持体と結合させる。 - 特許庁

To obtain a steroid derivative as an intermediate for producing various kinds of vitamin D derivatives useful for the therapy of chronic renal failure, hypoparathyroidism, etc., by way of a process where a palladium compound is made to act on a specific epoxy compound.例文帳に追加

種々のビタミンＤ誘導体を製造するための中間体として有用なステロイド誘導体の製造方法およびその中間体を提供する。 - 特許庁

An atmosphere temperature during heating in a dense layer D formation process is 80 to 100°C and is lower than a softening point temperature of resin to be a molding material of the pipe joint 20.例文帳に追加

また、緻密層Ｄ形成工程における加熱処理時の雰囲気温度は８０〜１００℃であり、パイプ継ぎ手２０の成型材質である樹脂の軟化点温度より低い。 - 特許庁

An image input unit 1 converts analog signals read from an original with a CCD sensor to digital signals, using an A/D converter (not shown), and executes a shading process.例文帳に追加

画像入力装置１は、ＣＣＤセンサにより原稿を読み取ったアナログ信号をＡ／Ｄコンバータ（図示せず）によりデジタル信号に変換し、シェーディング処理を行う。 - 特許庁

The preparation process comprises the steps of pulverizing Agaricus Blazei Murill into microparticles of from 20 μm to 1 μm with a pulverizer, pressing them, and extracting a β-D-glucan into a liquid by means of a hot water extraction method.例文帳に追加

アガリクスブラゼイを粉砕装置で２０μから１μの微粒子に粉砕して、加圧し、熱水抽出法でβ−Ｄ−グルカンを液中に抽出する。 - 特許庁

To provide a device which can utilize drawing/ironing process for processing a product with large H/D ratio requiring high-level circularity.例文帳に追加

高い真円度を要求され、Ｈ／Ｄ比の大きい製品の加工にあたり、絞りしごき加工を利用することができるようにした絞りしごき加工装置を提供する。 - 特許庁

Also disclosed is a process for producing D-N-carbamoyl-α-amino acids from 5-substituted hydantoins using a hydantoinase produced from a transformed microorganism transformed with the recombinant DNAs.例文帳に追加

該組換体ＤＮＡとで形質転換した微生物の生産するヒダントイナーゼを用いる、５−置換ヒダントインよりＤ−Ｎ−カルバモイル−α−アミノ酸の製造方法。 - 特許庁

Subsequently, an impurity implanting process is performed, and the source region S and the drain region D of the thin film transistor are formed by selectively implanting impurities.例文帳に追加

続いて注入工程を行い、半導体薄膜２に不純物を選択的に注入して薄膜トランジスタのソース領域Ｓ及びドレイン領域Ｄを形成する。 - 特許庁

The process comprises a step of introducing (a) a conjugated diene monomer, (b) a lanthanide compound, (c) an alkylating agent, (d) a halogen-containing compound, and (e) a dihydrocarbyl ether.例文帳に追加

また、該方法は、（ａ）共役ジエン単量体、（ｂ）ランタニド化合物、（ｃ）アルキル化剤、（ｄ）ハロゲン含有化合物、及び（ｅ）ジヒドロカルビルエーテルを導入する工程を含む。 - 特許庁

The computing means 46 gives a stop process starting position (a position backward from the aimed position by a moving distance d) in accordance with α and β to a motor controlling means 45.例文帳に追加

演算手段４６はα及びβに応じた停止処理開始位置（目標位置から移動距離ｄだけ遡った位置）をモータ制御手段４５に与える。 - 特許庁

Next, the supporting stage 11 is rotated at high speed, whereby the water remaining on the surface of the wafer WF is shaken off by centrifugal force thereby drying the wafer WF ((d) high-speed rotation process).例文帳に追加

次に、支持台１１を高速回転させ、ウェハＷＦ表面に残った水は遠心力により振り切られウェハＷＦを乾燥させる（（ｄ）高速回転工程）。 - 特許庁