「d-process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

This method comprises a first exposing process for exposing the substrate 12 via the mask 10 under the condition that a part of region including a defect D of the mask 10 is shielded from the light, and a second exposing process for drawing in direct a pattern with the exposure to the region on the substrate 12 corresponding to a part of region shielded in the first exposing process.例文帳に追加

この方法は、マスク１０の欠陥Ｄを含む一部領域を遮光した状態で、マスク１０を介して基板１２に対して露光を行う第１の露光工程と、第１の露光工程において遮光された一部領域に対応する基板１２上の領域に、直接露光により描画を行う第２の露光工程と、を備える。 - 特許庁

(b) a process of mixing the mixed dispersion uniformly, (c) a process of spray-drying the uniform dispersion, (d) a baking process (primary baking process), (i) a process of causing an aqueous solution of an active metal ingredient compound to be absorbed and (j) a baking process (secondary baking process).例文帳に追加

（ａ）金属酸化物微粒子分散液と金属酸化物ゲルとを混合し、金属酸化物微粒子分散液の形分としての重量（Ｗｐ）と金属酸化物ゲルの固形分としての重量（Ｗｇ）との重量比（Ｗｇ）／（Ｗｐ）が０．１〜４．５の範囲にあり、濃度が固形分として５〜３０重量％の範囲にある混合分散液を調製する工程（ｂ）混合分散液を均一混合処理する工程（ｃ）均一混合分散液を噴霧乾燥する工程（ｄ）焼成する工程(一次焼成工程)（ｉ）活性金属成分化合物水溶液を吸収させる工程（ｊ）焼成する工程(二次焼成工程) - 特許庁

In a multi-control processing process 33, voice data after the extension processing are selected in accordance with the setting of an operation control and state display processing process 34 and output to a D/A conversion + voice playback processing section 23 together with playback information instructing contents of playback by speakers 15a, 15b.例文帳に追加

マルチ制御処理プロセス３３は、伸長処理後の音声データを操作制御・状態表示処理プロセス３４の設定に従って選択し、スピーカ１５ａ、１５ｂによる再生内容を指示する再生情報と共にＤ／Ａ変換＋音声再生処理部２３へ出力する。 - 特許庁

This method for producing the carboxymethylinulin metal salt comprises a process for alkali-treating inulin with an alkali metal compound in an amount of 0.5 to 10 moles per mole of the D-fructose unit of the inulin in a water-containing organic solvent and a process for etherizing the alkali-treated inulin with a carboxymethyl-etherizing agent.例文帳に追加

含水有機溶媒中でイヌリンをイヌリンのＤ−フルクトース単位１モル当たり０．５〜１０モルのアルカリ金属化合物でアルカリ処理する工程、および該アルカリ処理されたイヌリンにカルボキシメチルエーテル化剤を添加してエーテル化する工程からなるカルボキシメチルイヌリン金属塩の製造方法である。 - 特許庁

This purification method for the crude polyether (a) produced in the presence of the alkaline catalyst comprises a process subjecting a neutralized polyether (a') having 0-0.015 mgKOH/g of acid value and 5.2-6.5 of pH to a treating process comprising absorption and/or treatment with a filtration aid (d).例文帳に追加

アルカリ性触媒の存在下に合成された粗製ポリエーテル（ａ）の精製法において、酸価が０〜０．０１５ｍｇＫＯＨ／ｇでｐＨが５．２〜６．５の中和ポリエーテル（ａ’）を、吸着および／または濾過助剤（ｄ）で処理する工程を含むことを特徴とするポリエーテルの精製法。 - 特許庁

This image forming method includes an ink discharge process for discharging ink, which includes (a) a pigment, (b) water, (c) a water-soluble solvent, and (d) polymer fine particles, to a medium for recording, and a deposit removal process for removing ink deposits from the nozzle surface of a head discharging the ink.例文帳に追加

（ａ）顔料、（ｂ）水、（ｃ）水溶性溶剤及び（ｄ）ポリマー微粒子を含むインクを被記録媒体上に吐出するインク吐出工程と、前記インクを吐出するヘッドのノズル面からインク固着物を除去する固着物除去工程と、を有し、前記インクが下記式（１）を満たす画像形成方法。 - 特許庁

To digital signal data after A/D conversion of this biological information detecting apparatus, a process for multiplying a plurality of pieces of continuous data by a superposition coefficient to acquire an average value is executed, and the average value is defined as a noise process value equivalent to a central data position of the plurality of continuous pieces of data.例文帳に追加

生体情報検出装置のＡ／Ｄ変換後デジタル信号データに対して、その連続する複数個データへ重畳係数を乗算して平均値を取得する処理を実施し、この平均値を連続複数個データの中央データ位置に相当するノイズ処理値とする。 - 特許庁

After a registered user is confirmed through an authenticating process D of AUTHSV 3 with a password inputted by the user, a request to change a password is accepted from an allowed user and a password changing process C is performed to set a new password and holds the old password.例文帳に追加

そして、ユーザーから要求されたパスワードをＡＵＴＨＳＶ３の認証処理Ｄによって、登録ユーザーの確認処理後、許可を受けたユーザーに対してパスワードの変更要求を受付、パスワード変更処理Ｃにより、新パスワードの設定と旧パスワードの保持を行う。 - 特許庁

A shaping process S3 for expanding the wound body B between bead cores C and C to bond the same to a tread ring D is included and the expansion of the wound body B in the shaping process S3 is performed by the application of low inner pressure of 100 kPa or less and the pressurization due to the expansion of an expand drum 3 of which the diameter can be expanded and contracted.例文帳に追加

ビードコアＣ、Ｃ間において巻回体Ｂを膨出させトレッドリングＤに貼着するシェーピング工程Ｓ３を含み、このシェーピング工程Ｓ３における巻回体Ｂの膨出は、１００ｋＰａ以下の低内圧の付加と、拡縮径可能なエキスパンドドラム３の拡径による押圧とによって行う。 - 特許庁

When it is decided that an input level APL is lower than a last reference level APLla, as shown in section (d) by a reference value, a process of using the input level APL as an output level APLad and a process (Flag=1) of setting a status flag F indicating fine variation are carried out.例文帳に追加

区間ｄのように、入力レベルＡＰＬが直前の参照レベルＡＰＬｌaより基準値だけ低いと判断されたときは、その入力レベルＡＰＬが出力レベルＡＰＬａdとして使用する処理と、微少変動を示す状態フラグＦをセットする処理（Flag＝１）が行われる。 - 特許庁

The method is characterized by decomposing a plastic A containing an unsaturated polyester resin and an inorganic material with the use of subcritical water (process 1), and by filtrating the obtained decomposition liquid B at ≥40°C and ≤100°C to separate into a solution C, an inorganic filler and other solid contents D (process 2).例文帳に追加

不飽和ポリエステル樹脂と無機物を含有するプラスチックＡを亜臨界水によって分解処理し（工程１）、得られた分解液Ｂを４０℃以上１００℃以下で濾過して（工程２）、溶液Ｃと、無機充填剤及びその他の固形分Ｄと、に分離することを特徴とする。 - 特許庁

In an S/D extension region forming process which is carried out after a gate electrode 4 is formed, a PMOS region is covered with a resist 5, As or P ion implanted into an NMOS region at a low acceleration speed.例文帳に追加

ゲート電極４が形成された後のＳ／Ｄエクステンション領域形成工程において、ｐＭＯＳ領域をレジスト５で覆い、ｎＭＯＳ領域にＡｓまたはＰの低加速注入を行う。 - 特許庁

A control process P10 controls the motion of a control object D (part) and according to the work quantity of the moved part, the accumulated work quantity of the part in the part table T1 is renewed.例文帳に追加

制御プロセスＰ１０は、制御対象Ｄ（部品）の動作を制御するとともに、動作させた部品の動作量に応じて、部品テーブルＴ１における部品の累積動作量を更新する。 - 特許庁

A cylindrical face 10a and a conical face 10b are formed in the grinding wheel 10, and in the former half process, the work piece 9 is passed through it as indicated by an arrow d to be subjected to through feed grinding.例文帳に追加

かつ、研削砥石１０に円柱面１０ａと円錐面１０ｂとを形成しておき、前半の工程では被加工物９を矢印ｄのように通し送りしてスルーフィード研削を行なう。 - 特許庁

The isotropic etching (third process) is performed again and this needle-like body 31 constituted of a conical tip part 31a having a desired tapered shape and a column part 31b continued from it is manufactured (d).例文帳に追加

再び等方性エッチング（第３工程）を行って、所望のテーパ形状を有する円錐状の先端部３１ａとそれに連なる円柱部３１ｂとで構成される針状体３１を作製する（ｄ）。 - 特許庁

Then, as shown in Fig.6(d), half cut processing using a blade 102 is executed for a portion where a lateral section bar 13 is formed in parallel to the lateral section bar 13 from an upper mold material 24 side (mold separating process).例文帳に追加

次に、図６（ｄ）に示されるように、上方のモールド材２４側から、横セクションバー１３のある箇所を、横セクションバー１３と平行に、ブレード１０２を用いたハーフカット加工を行う（モールド分離工程）。 - 特許庁

In the step S13, when the number of remaining trackings is equal to or more than the threshold value D and less than C, the process is determined not normal when predetermined conditions are established, and time learning processing is executed.例文帳に追加

ステップＳ１３において、残りトラッキング本数が閾値Ｄ本以上Ｃ本未満である場合には、所定条件の場合に正常ではないと判定して、時間学習処理を実行する。 - 特許庁

After types of devices of which a power system is composed, and setting conditions are inputted in a step 107, if the display of a curve is commanded (103: C and 113: D), the process is transferred to a step 115.例文帳に追加

ステップ１０７にて、電力系統を構成するデバイスの機種や設定条件が入力された後、曲線の表示が指示されると（１０３：Ｃ，１１３：Ｄ）ステップ１１５へ移行する。 - 特許庁

In a vulcanization process (see, Fig.2(c) and (d)) performed in this state, a part of the heated tooth cloth sheet 24 and a part of the body material 32 are respectively impregnated into a surface of the tooth cloth jacket 28.例文帳に追加

この状態で行われる加硫工程（図２（ｃ）、（ｄ）参照）において、加熱された歯布処理シート２４の一部と本体材料３２の一部を、それぞれ歯布ジャケット２８の表面に含浸させる。 - 特許庁

To provide an A/D conversion circuit in a TAD system whose characteristics are stable for suppressing the influence of any working error or fine dust relatively increasing according to the microfabrication of a CMOS manufacturing process.例文帳に追加

ＣＭＯＳ製造プロセスの微細化に伴って相対的に増大する加工誤差や微細ゴミの影響を抑制し、特性の安定したＴＡＤ方式のＡ／Ｄ変換回路を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing di-D-fructofuranose-1,2':2,3' dianhydride III crystal (hereinafter referred to as DFA III), free from sugars and various impurities, especially even odor, except the DFA III.例文帳に追加

ジフルクトース・ジアンヒドリドＩＩＩ（ｄｉ−Ｄ−ｆｒｕｃｔｏｆｒａｎｏｓｅ−１，２'；２，３'ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ、以下、ＤＦＡ ＩＩＩという）以外の糖及び各種不純物、特に臭いまでも除去したＤＦＡ ＩＩＩ結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

In an inspection process, an inspecting device 8 obtains conversion error voltage ΔV from ideal voltage Vr and output voltage Vo to the external digital data S1 and digitizes it by an A/D converter 12.例文帳に追加

検査工程において、検査装置８は、外部ディジタルデータＳ１に対する理想電圧Ｖｒと出力電圧Ｖｏとから変換誤差電圧ΔＶを求め、それをＡ／Ｄ変換器１２によりディジタル化する。 - 特許庁

The process for producing an acrylic emulsion comprises polymerizing, in the presence of (A) a resin emulsion having an average particle size of 0.3-10 μm, (B) a polyvinyl alcohol-based resin and (C) a polymerization initiator, (D) an acrylic monomer.例文帳に追加

平均粒子径が０．３〜１０μｍである樹脂エマルジョン（Ａ）、ポリビニルアルコール系樹脂（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）の存在下で、アクリル系単量体（Ｄ）を重合するアクリル系エマルジョンの製造方法。 - 特許庁

Since the inside of the display panel 1 and the exhaust pipe 2 is decompressed by an exhaust process, the glass softened and fused by heating is drawn into the exhaust tube 2, and chokes the exhaust tube 2 (b-d).例文帳に追加

ディスプレイパネル１および排気管２の内部は排気工程により減圧されているので、加熱により軟化・溶融したガラスが排気管２の内側に引き込まれ、排気管２を塞ぐ（ｂ〜ｄ）。 - 特許庁

A plurality of bays composed of a plurality of devices D, PH, E, and T used for the same process and bay stockers Bw11 containing intra-bay transporting mechanisms are radially connected to the central stocker C.例文帳に追加

同一工程を行なう複数の装置Ｄ，ＰＨ，Ｅ，Ｔと、内部にベイ内搬送機構を有するベイストッカＢｗ１１とよりなる複数のベイを、中央ストッカＣに放射状に接続する。 - 特許庁

Analog signal processing sections 43A, 43B process the analog signal ASO for each section of the object so that two or more different digital signals DS1, DS2 are output from the A/D converter.例文帳に追加

アナログ信号処理部４３Ａ，４３Ｂは、被検査対象物の各部分について、Ａ／Ｄ変換部から異なる２以上のデジタル信号ＤＳ１，ＤＳ２が出るように、アナログ信号ＡＳ０を処理する。 - 特許庁

To achieve scale inhibition under such conditions that calcium oxalate scale may be formed in a lower pH condition, just as the step D at which chlorine dioxide is used as a bleaching agent in the process for producing paper or pulp.例文帳に追加

紙・パルプ製造工程の漂白行程の二酸化塩素を用いたＤ段のように、低いｐＨでシュウ酸カルシウムのスケール化が生じる条件下において、スケールを防止できるようにする。 - 特許庁

A subgraph extraction means 2 pays attention to judgement action in the process procedure data D, divides flow according to the judgement action, and extracts the flow from start to end as subgraph data.例文帳に追加

部分グラフ抽出手段２は、処理手順データＤ中の判断アクションに着目して、当該判断アクションによって流れを分割し、開始から終了までの流れを部分グラフデータとして抽出する。 - 特許庁

A rotary drum D is used in a process for producing malted rice and the stirring of the raw material S for producing malted rice is carried out by drop of a raw material layer from an inclined surface by rotation of the rotary drum main body 1.例文帳に追加

製麹工程において回転ドラムＤが用いられ、前記製麹原料Ｓの攪拌が、回転ドラム本体１の回転による原料層の傾斜面からの落下により行われる。 - 特許庁

In the notifying sound output process, a speaker driving circuit 43 is controlled by a CPU 31 to output notifying sounds A-D according to the kind of the small award hitting flag from a speaker 39.例文帳に追加

この報知音出力処理では、スピーカ駆動回路４３がＣＰＵ３１によって制御され、スピーカ３９から小当たり入賞当選フラグの種類に応じた報知音Ａ〜Ｄが出力させられる。 - 特許庁

Subsequently, the mold release agent S is supplied from a process liquid supply section 120 to the clearance 116, and the mold release agent S is diffused only onto the pattern region D_1 by capillary phenomenon (Figs. 12(b)-(d)).例文帳に追加

その後、処理液供給部１２０から隙間１１６に離型剤Ｓを供給し、当該離型剤Ｓを毛細管現象によってパターン領域Ｄ_１上にのみ拡散させる（図１２（ｂ）〜（ｄ））。 - 特許庁

External auditors should note that if they, as is generally expected, have obtained certain audit evidence in the process of the Financial Statement Audit, they may use such audit evidence for a to d above. 例文帳に追加

上記 a.～ｄ.に関しては、財務諸表監査の実施過程において一定の監査証拠を入手しているのが一般的と考えられ、その場合には、その利用が可能であることに留意する。 - 金融庁

The cooling medium supplied into the space A is led to spaces B to D via clearances between spindle bolts 60 and bolt holes 62, and in this process, warms and cools the rotor disks 50a to 50d.例文帳に追加

空間Ａに供給された冷却媒体は、スピンドルボルト６０とボルト孔６２との隙間を通って空間Ｂ、ＣおよびＤへ導かれ、その過程でローターディスク５０ａ〜５０ｄを暖機・冷却する。 - 特許庁

When a storage device 13A having only an analog input terminal Ain is connected, MPEG audio data is subjected to a decoding process and further D/A conversion, and the resultant data is output from Aout.例文帳に追加

アナログ入力端子Ａｉｎのみを有しているストレージデバイス１３Ａが接続された場合には、ＭＰＥＧオーディオデータがデコード処理を施され、さらにＤ／Ａ変換されて、Ａｏｕｔから出力される。 - 特許庁

To provide a process of making an α-anomer enriched 2-deoxy-2,2-difluoro-D-ribofunanosyl sulfonate, which is useful as an intermediate in the preparation of a β-nucleoside, such as an anti-tumor agent or gemcitabine.例文帳に追加

抗腫瘍剤、ゲムシタビンのようなβ−ヌクレオシドの製造における中間体として有用である、α−アノマーが濃厚な２−デオキシ−２,２−ジフロロ−Ｄ−リボフラノシルスルホネートの製造方法の提供。 - 特許庁

Since a part specified in each of applications Al to An is regarded as an XML document D preparation process and the XML signatures giving/verifying function is shared, the convenience of a signature can be improved.例文帳に追加

これにより、アプリケーションＡ１〜Ａｎ毎に特化した部分をＸＭＬ文書Ｄ作成のプロセスのみとし、ＸＭＬ署名Ｓの付与・検証機能を共通化させ、利便性を向上させる。 - 特許庁

In upsetting work shown in (C) out of these, excessive thicknesses are gathered in a gap 28 between a pair of upsetting dies 27a, 27b to form a protruded portion which is crushed in a handling process shown in (D).例文帳に追加

このうち、（Ｃ）に示した据え込み加工で、余肉を１対の据え込みダイス２７ａ、２７ｂ間の隙間２８に集めて突条部とし、（Ｄ）に示した扱き加工工程でこの突条部を押し潰す。 - 特許庁

In a head sub-field SF1, a voltage LP using row electrodes Y1-Yn as an anode side and using column electrodes D as a cathode side is applied across both side electrodes immediately after an addressing process, and thereby a micro light-emitting process LL which makes micro light-emitting discharge occur between the row electrodes Y1-Yn and column electrodes D in a display cell in the lighting mode is performed.例文帳に追加

先頭のサブフィールドＳＦ１では、アドレス行程の直後に、一方の行電極Ｙ１〜Ｙｎを陽極側とし且つ列電極Ｄを陰極側とした電圧ＬＰを両電極間に印加することにより、点灯モードの状態にある表示セル内の一方の行電極Ｙ１〜Ｙｎ及び列電極Ｄ間で微小発光放電を生起させる微小発光行程ＬＬを実行する。 - 特許庁

The particles are produced by undergoing a process of producing a dispersion phase including the water-swellable clay mineral (B), the monomer including (meth)acrylamides, and water (C), mixing the dispersion phase with a continuous phase including a hydrophobic dispersion medium (D) and a surfactant (E), and then performing reversed phase suspension polymerization of the monomer to produce a W/O emulsion.例文帳に追加

この粒子は、水膨潤性粘土鉱物(B)と(メタ)アクリルアミド類を含むモノマーと水(C)を含む分散相を製造し、該分散相を疎水性分散媒(D)及び界面活性剤(E)を含む連続相と混合し、次いで該モノマーを逆相懸濁重合させることによりW/O型エマルジョンを製造する工程を経て製造される。 - 特許庁

A speed control part (62) controls the engine (2) so as to keep the idling speed of the engine (2) at speed for D range (Nd) set as a target speed with a target speed operation part (60) when the shift range of the automatic transmission (4) is kept in the D range during the forcible regeneration process of a filter (42).例文帳に追加

フィルタ（４２）の強制再生処理を行う際に、自動変速機（４）のシフトレンジがＤレンジである場合、エンジン（２）のアイドル回転数が目標回転数演算部（６０）により目標回転数として設定されたＤレンジ用回転数（Ｎｄ）となるよう、回転数制御部（６２）がエンジン２を制御する。 - 特許庁

In the production process for an epitaxial wafer 20 in which a single crystal thin film 22 is grown on a silicon single crystal substrate 21 placed on the counterbored part 11 of a susceptor 10 by gaseous phase deposition, the depth D of the counterbored part 11 on which the silicon single crystal substrate 21 is placed is selected according to the thickness d of the silicon single crystal substrate 21.例文帳に追加

サセプタ１０が備える座ぐり部１１に載置されたシリコン単結晶基板２１上にシリコン単結晶薄膜２２を気相成長させるエピタキシャルウェーハ２０の製造方法において、シリコン単結晶基板２１の厚さｄに応じてシリコン単結晶基板２１を載置させる座ぐり部１１の深さＤを選択する。 - 特許庁

This gas-sealing mechanism 11 is used in a processing chamber 1 in the manufacturing process of a printed wiring board, and the processing chamber 1 sprays chemical D to printed wiring board material C so as to perform chemical treatment, and also herein, a chemical vessel 2 for letting flow down, recovering, and storing the sprayed chemical D is made below.例文帳に追加

このガス封止機構１１は、プリント配線基板の製造工程の処理室１において用いられ、処理室１は、プリント配線基板材Ｃに対し薬液Ｄを噴射して化学処理を行うと共に、噴射された薬液Ｄを流下，回収，貯留せしめる薬液槽２が下部に形成されている。 - 特許庁

This method for positioning a workpiece at the focal point of laser beam includes (a) a process 102 for generating laser beam, (b) a process 130 for focusing laser beam and forming plasma which causes plasma radiation, (c) a process for positioning the focal point responsive to plasma radiation, and (d) a process 132 for translating the surface of workpiece to the above position of focus.例文帳に追加

レーザー機械切削するために加工物の表面を適切な位置に配置する方法であって、上記方法は、以下：（ａ）レーザー光線を発生させる工程１０２；（ｂ）該レーザー光線を焦点に集中させて、プラズマ放射を発生させるプラズマを形成する工程１３０；（ｃ）該プラズマ放射に対して応答性の該焦点の位置を決定する工程；および（ｄ）該加工物の該表面を、該焦点の該位置に移動させる工程１３２、を包含する方法を提供する。 - 特許庁

In the re-encoding process, a transition of a VBV buffer duty value is so controlled and implemented that the transition starts from one at a position of (a) and finishes until the VBV buffer duty value at a position of (d).例文帳に追加

この再符号化は、ＶＢＶバッファ占有値の推移が、ａの位置でのＶＢＶバッファ占有値から開始されて、ｄの位置でのＶＢＶバッファ占有値までで終了するように制御されて実行される。 - 特許庁

In the heat treatment process, the temperature of the heater 433 is controlled to a predetermined temperature based on the temperature condition, and then the setters A-D are carried into the heat treating furnace 43 and heated for a fixed time.例文帳に追加

熱処理工程では、当該温度条件に基づいてヒータ４３３の温度を所定温度に制御した後に、熱処理炉４３内にセッタＡ〜Ｄを搬入して、当該セッタＡ〜Ｄを一定時間加熱する。 - 特許庁