「depth development」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a photoresist composition to be used for the manufacture a semiconductor, superior in uniform coating and small in pattern defect after development and wide in focal depth.例文帳に追加

半導体製造に使用されるフォトレジストであって、塗布均一性に優れ、現像後のパターン欠陥が少なく、且つ焦点深度の広い組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a novel film for a car capable of expressing a hue having depth by enabling the development of a desired color, hard to damage and excellent in weatherability.例文帳に追加

所望の色の発現を可能にしてより深みのある色彩を表現することができるとともに、傷つきにくく耐候性にも優れた新規な自動車用フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a large depth of focus and ensures small LWR and MEEF, excellent pattern collapse resistance and excellent development defect control property.例文帳に追加

焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition as a chemically amplified resist that is excellent in depth of focus, LWR (Line Width Roughness), and MEEF (Mask Error Enhancement Factor), and excellent also in preventing the occurrence of a defect in development.例文帳に追加

焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An original plate for a mold in which a concavo-convex pattern with modulated depth is formed is produced by subjecting an inorganic resist containing an incomplete oxide of a transition metal to pattern exposure and development.例文帳に追加

遷移金属の不完全酸化物を含む無機レジストのパターン露光及び現像によって、深さの変調された凹凸パターンが形成された金型用の原盤を作製する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in resolution and focal depth and suppressing occurrence of scum and development defects, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

解像性、焦点深度に優れ、スカムや現像欠陥の発生を抑制したポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a development roller for achieving uniform depth of groove in a groove pattern and to provide a developing device and an image forming device capable of eliminating unevenness in shading and achieving high quality of image.例文帳に追加

溝パターンの溝深さが均一とされた現像ローラの製造方法と、濃淡ムラが解消されて高画質が得られる現像装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which has a high level of resolution, a good pattern shape and a satisfactory depth of focus, and at the same time, has no significant defects after the development and has excellent plasma etching resistance.例文帳に追加

高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

Mr. Kuroda has served as Director-General of the International Bureau and Vice Minister of Finance for International Affairs, and thus has extensive experience in the field of international financial affairs, including development policies. He also has broad and in-depth knowledge of the Asia-Pacific region. Therefore, I believe Mr. Kuroda is a most qualified candidate for President of the Asian Development Bank.例文帳に追加

黒田氏は、財務省国際局長、財務官を歴任するなど、開発問題を含め国際金融の経験が豊富であり、また、アジア諸国の状況にも精通していることから、ADB総裁には最適任の人物であると考えている。 - 財務省

The carrier for electrostatic latent image development comprises a core material, a resin layer covering the core material, and a concave portion 32 which is open on the surface of the resin layer and has a depth of 100 nm or more and not more than a depth corresponding to the thickness of the resin layer and a circle-equivalent diameter of 90 nm or more and 150 nm or less in the opening portion.例文帳に追加

芯材と、前記芯材を被覆する樹脂層と、前記樹脂層の表面で開口し、深さが１００ｎｍ以上且つ前記樹脂層の厚さ以下であり、開口部分の円相当径が９０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である凹部３２と、を有する静電潜像現像用キャリア。 - 特許庁

For this regulation, prebake temperature and conditions in development processing after pattern exposure are set so that undercut parts having a proper depth and length are formed in a thin film material layer before post-bake.例文帳に追加

この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 - 特許庁

This program will continue to attract more and more attention, as it fosters advanced human resources that are strongly committed to manufacturing, have in-depth understanding of Japanese corporate culture, and are capable of supporting the development of Japan's manufacturing.例文帳に追加

ものづくりへの意識が高く、日本の企業文化の見識も深い、ニッポンのものづくりの発展を担う高度人材を育成する本構想の今後の動向がますます注目される。 - 経済産業省

That is, the opening width of the slot of a development sleeve 4 surface is set to be 0.1 (mm) to 0.2 (mm), an average in depth is set to be 0.1 (mm) to 0.2 (mm), and a groove pitch is set to be 0.4 (mm) to 0.6 (mm).例文帳に追加

即ち、現像スリーブ４表面の溝の開口幅を０．１[ｍｍ]以上０．２［ｍｍ］以下、深さの平均を０．１[ｍｍ]以上０．２［ｍｍ］以下、溝ピッチを０．４［ｍｍ］以上、０．６［ｍｍ］以下に設定する。 - 特許庁

To reduce the depth dimension of a coating and developing system performing the steps of forming an antireflection film to a substrate, forming a resist film, and performing development to the substrate after exposure.例文帳に追加

基板に対して反射防止膜を形成する工程、レジスト膜を形成する工程、露光後の基板に対して現像を行う工程を実施する塗布、現像装置において、装置の奥行き寸法を抑えること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist excelling particularly in depth of focus (DOF) and capability of substantially decreasing development defects, while maintaining excellent basic performance as a resist.例文帳に追加

レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

While not at the centre of the crisis, financial sectors in some emerging economies need to be developed further so that they can provide the depth and breadth of services required to promote and sustain high rates of economic growth and development. 例文帳に追加

危機の中心ではないが，幾つかの新興国の金融セクターは，高い経済成長率及び開発を促進し，維持するために必要な深度・幅のあるサービスを提供できるように，更に発展する必要がある。 - 財務省

To provide a method for cutting a laminate sheet suppressing the development of cracks and improving yield rate by sharing the burden of the depth of cut for cutting laminate sheet with a pair of cutting blade disposed interposing the laminate sheet.例文帳に追加

積層板を切断するその切込量を、積層板を挟んで配置された一対の切断刃で分担することによって、クラックの発生を抑制して歩留まりが向上する積層板の切断方法を提供する。 - 特許庁

As a result, since an adequate hardness and an adequate toughness are given from the surface to a necessary depth position of the ball 3, the generation and the development of a surface damage and a rolling fatigue crack of the ball 3 is made possible to suppress.例文帳に追加

これにより、玉３の表面から所要深さ位置までが適度な硬度と靭性を持つようになるので、玉３の表面損傷や転がり疲労亀裂の発生、進展を抑制できるようになる。 - 特許庁

When development is performed by using alkaline developing solution after exposure to light, a region which is exposed to light with the pattern 3b having L/S equal to or rougher than the resolution limit is formed in a shape having a comb tooth type section by narrow trenches 5 with depth not getting to the substrate 1.例文帳に追加

露光後、アルカリ性現像液で現像すると、解像限界以下のＬ／Ｓのパターン３ｂにより露光された領域は、基板１に達しない深さの狭い溝５によって断面櫛歯状に形成される。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide the coating liquid for the positive resist good in sensitivity, resolution, heat resistance, focal depth characteristic, the sectional form of a resist pattern, stability during time left unused, and dependence on a substrate, especially restrained from occurrence of defects after development.例文帳に追加

感度、解像性、耐熱性、焦点深度幅特性、レジストパターン断面形状、引置経時安定性及び基板依存性などのレジスト特性が良好である上、特に現像後のディフェクトの発生を抑制するポジ型レジスト塗布液を提供する。 - 特許庁

By implementing predetermined wiring, form assembly, and concrete placement, the skeleton of the foundation of the undermost story is constructed, and while development of concrete strength is awaited with a skeleton load borne by the embedding- lowering apparatus 20, the earth-retained space 5 is excavated to a depth sufficient for embedding the skeleton 12.例文帳に追加

所定の配筋、型枠組立、コンクリート打設を行って最下層基礎部の躯体を構築し、沈設降下装置２０で躯体荷重を支持した状態でコンクリート強度の発現を待つ間に躯体１２の沈設範囲深さの掘削を行う。 - 特許庁

To accurately measure a flaw depth in an initial stage so as to evaluate safety, flaw development based on initial flaw detection, and a remaining lifetime of a pressure vessel, a structural body, and the like in an operation plant.例文帳に追加

欠陥深さを初期の段階で精度良く測定することができ、運転プラントにおける圧力容器や構造物等の健全性の評価、初期欠陥検出による欠陥の進展評価、残存寿命の推定を行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is enhanced in resolving power, reduced in residue on development and improved in process admissibility such as a margin for exposure and a focal depth in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、現像残査が低減し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The carrier for electrostatic latent image development includes a core material, a resin layer coating the core material, and concaves that are open on the surface of the resin layer and have a depth of 50 nm or more and not more than the thickness of the resin layer and a circle-equivalent diameter of the opening of 3.5 μm or more and 12 μm or less.例文帳に追加

芯材と、前記芯材を被覆する樹脂層と、前記樹脂層の表面で開口し、深さが５０ｎｍ以上且つ前記樹脂層の厚さ以下であり、開口部分の円相当径が３．５μｍ以上１２μｍ以下である凹部と、を有する静電潜像現像用キャリア。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as margin for exposure and focal depth and less liable to cause development defects in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善され、現像欠陥の発生も少ないポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a spark plug in which generation of spatter can be reduced, and shortage of welding due to insufficient melting depth at the welding part and development of oxidized scale due to long time use are eliminated, and a spark plug which has durability at the ignition part that has not been realized by the conventional method.例文帳に追加

スパッタの発生を少なくでき、かつ溶接部の溶け込み深さの不足によって、溶接強度が不足したり、また長時間の使用により酸化スケールが進展したりするおそれの少ないスパークプラグの製造方法と、従来の方法では実現できなかった発火部耐久性を具備したスパークプラグとを提供する。 - 特許庁

When supervisors have recognized an issue of supervisory concern regarding the development of control environments by agency/brokerage services providers, through daily supervisory administration or the reporting of problematic conduct, they shall identify and keep track of the status of voluntary improvement made by the agency/brokerage services providers by holding in-depth hearings and, when necessary, requiring the submission of reports based on Article 56-2(1) of the FIEA. 例文帳に追加

日常の監督事務や、事故届出等を通じて把握された代理・媒介業者の態勢整備に関する課題については、深度あるヒアリングを行うことや、必要に応じて金商法第56条の２第１項の規定に基づく報告を求めることを通じて、代理・媒介業者における自主的な改善状況を把握することとする。 - 金融庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

However, where there is likelihood that customers’ interests would be unduly harmed, irrespective of the status of the development of a conflict of interest management system, supervisors shall hold an in-depth hearing if it seems necessary and appropriate to do so in order to protect public interests and investors, and shall require the submission of a report under Article 56-2(1) or (3) of the FIEA. 例文帳に追加

ただし、証券会社等による利益相反管理体制の整備状況に関わらず、顧客の利益が不当に害されるおそれがあると認められる場合であって、公益又は投資者保護のため必要かつ適当であると認めるときは、深度あるヒアリングを行い、必要な場合には、金商法第 56条の２第１項又は第３項の規定に基づく報告を求めることとする。 - 金融庁

From the viewpoint of the FSA as a market watchdog, it is a welcome development in that the participation of a diverse range of investors adds depth to the market and reinvigorates trading, although the underlying premise is that the transparency and fairness of the market should be maintained so as to protect investors and that market rules should be properly followed. 例文帳に追加

市場を見ている金融庁の立場からいたしましても、市場全体の透明性・公正性ということが、投資家保護の観点から保たれるということが大前提でございますけれども、その前提の上に立って多様な市場参加者、多様な投資主体が日本の市場に参加をし、もちろん今のようなルール遵守が前提でございますけれども、そういった多様な投資家の参加によって市場が厚みを持って活発に取引が行われるということは歓迎すべきことだと思っております。 - 金融庁

In Japan as well, then-Deputy Governor Yutaka Yamaguchi of the Bank of Japan pointed out regarding the current financial system wherein globalization and diffusion of IT are progressing, that the depth and ample liquidity of markets created by technological innovation and globalization in normal times could be immediately lost in times of a financial crisis accompanied by enormous stress, and there is an inherent risk that it would further amplify the crisis.He also added, “Under such circumstances, we should not suppress, by regulation, the development of technology and innovation in the market. Rather, we should strive to provide a supportive market infrastructure, including regulation and supervision, market practices, disclosure, and accounting methods, in a broad context and to make it more robust. The systematic improvement of market infrastructure will contribute to reducing the risk of financial crises, which is the most serious uncertainty.” 13例文帳に追加

また、我が国においても、日本銀行の山口副総裁（当時）は、グローバル化・IT化の進む現在の金融システムに対して、「技術革新とグローバル化によって平時にもたらされている市場の厚みあるいは潤沢な流動性は、大きなストレスを受ける金融危機時には瞬時に失われ、そのことが危機を増幅させるリスクを孕んでいる。」と指摘した上で、「こうした状況の中で我々がまず為すべきことは、規制によって技術の展開や市場の革新を抑え込もうとすることではなく、規制・監督、市場慣行、ディスクロージャー、会計制度等々が含まれる広い意味での市場インフラを整備し頑健なものにしていくことであり、これらを体系的に改善していくことは金融危機のリスクという不確実性の最たるものを減らすことに貢献する。」と指摘している13。 - 経済産業省