「dummy pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

In the color filter 1 obtained by successively forming a plurality of color pixel patterns 3 with color materials on a transparent substrate, a frame like dummy pattern 4 surrounding the color pixel pattern area is formed of the color material for one color pixel pattern 3 at the same time as the formation of one color pixel pattern 3 in the color pixel patterns 3.例文帳に追加

透明基板上に、色材にて順次複数色のカラー画素パターン３を形成したカラーフィルター１において、前記カラー画素パターン３のうちの一色分のカラー画素パターン３を形成する際、前記一色分のカラー画素パターン３の色材にて、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターン４を同時に形成したことを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁

In the color filter which is constituted by successively forming color pixel patterns of more than one colors with coloring materials on a transparent substrate, when the color pixel pattern of one color among the color pixel patterns is formed, a picture frame-shaped dummy pattern surrounding a color pixel pattern region is simultaneously formed with the coloring material of the color pixel pattern of one color.例文帳に追加

透明基板上に、色材にて順次複数色のカラー画素パターンを形成したカラーフィルターにおいて、前記カラー画素パターンのうちの一色分のカラー画素パターンを形成する際、前記一色分のカラー画素パターンの色材にて、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターンを同時に形成したことを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁

A dummy metal pattern 6 made of a plurality of dummy metals 5 is formed only at an arrangement region of the connection wiring 3 or within a range corresponding to an area near the arrangement region thereof in at least one wiring layer of the upper and lower layers of the connection wiring 3 among the plurality of wiring layers.例文帳に追加

複数のダミーメタル５からなるダミーメタルパターン６を、複数の配線層のうち、接続配線３の上層と下層とのうちの少なくとも何れか１つの配線層において、接続配線３の配置領域及びその近傍と対応する範囲にのみ形成する。 - 特許庁

In a manufacturing process for a semiconductor integrated circuit device using electron beam exposure at least in part of the process, a dummy chip area is exposed to light using a mask having a dummy chip pattern of a size equal to or smaller than a maximum opening area allowable in an electron beam exposure device.例文帳に追加

プロセス工程の少なくとも一部で電子ビーム露光を用いる半導体集積回路装置の製造工程において、ダミーチップ領域を露光する際に、電子ビーム露光装置で許容される最大開口面積以下のサイズのダミーチップ用パターンを有するマスクを用いて露光する。 - 特許庁

An OLT (optical line termination) is provided with a frame scrutinization unit 16 which detects an idle signal which repeats periodical fixed bit pattern from a down signal to an ONU (optical network unit) and a dummy frame producer 17 which inserts the dummy frame filled with scramble data with respect to the idle signal detected by the frame scrutinization unit 16.例文帳に追加

ＯＬＴが、ＯＮＵへの下り信号から周期的な固定ビットパターンを繰り返すアイドル信号を検出するフレーム精査部１６と、フレーム精査部１６により検出されたアイドル信号に対してスクランブルデータを充填したダミーフレームを挿入するダミーフレーム生成部１７とを備える。 - 特許庁

To provide a photomask which is transferred with the pattern in an effective pattern region and is capable of transferring dummy patterns to the circumference of an exposure object, an exposure device and an exposure method as well as a method for manufacturing a semiconductor device utilizing this photomask.例文帳に追加

実効パターン領域のパターンが転写される、露光対象物の領域の周囲に、ダミーパターンを転写することができる、フォトマスク、露光装置および露光方法ならびにこのフォトマスクを利用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device of motor thrust and its inspection method capable of easily reproducing an operation conditions simulating a complicated load pattern without change of constitution of dummy for testing and inspecting by dynamically changing the complicated load pattern.例文帳に追加

試験用ダミーの構成変更がいらず、複雑な負荷パターンをシミュレートした運転条件を容易に再現でき、また複雑な負荷パターンを動的に変更して検査が行えるモータ推力の検査装置およびその検査方法を提供すること - 特許庁

In order to make the pattern occupancy in the entire semiconductor chip 10 constant among the same products and among the same interconnection layers of the same product, a second dummy pattern is formed in a second region 12 in the semiconductor chip 10 which does not contribute to logical operation.例文帳に追加

半導体チップ１０全体でのパターン占有率が製品毎及び同一製品内の配線層毎で一定値になるように、半導体チップ１０内の論理演算に寄与しない第２領域１２に第２ダミーパターンを形成する。 - 特許庁

The semiconductor package substrate includes a dummy area 10 where a polygonal first metal pattern 11 on one side and a polygonal second metal pattern 12 on the other side are alternately formed, in a portion to be removed after a semiconductor element is mounted.例文帳に追加

半導体パッケージ基板は、半導体素子が実装された後に除去される部分で、一面に多角形状の第１金属パターン１１、他面には多角形状の第２金属パターン１２がお互い交互に形成されるダミー領域１０を含む。 - 特許庁

The interlayer insulating film 16 and the resist film 17 are anisotropically etched until the residual film thickness (w) of the resist film 17 becomes smaller than the residual film thickness (t) of the interlayer insulating film on the wiring pattern 12 and the dummy pattern 13.例文帳に追加

少なくともレジスト膜１７の残り幅ｗが配線パターン１２及びダミーパターン１３上における層間絶縁膜１６の残り膜厚ｔよりも小さくなるまで、層間絶縁膜１６とレジスト膜１７とを異方性エッチングする。 - 特許庁

Moreover, inclination of the first circuit element 15A can be controlled, to further improve the positional accuracy, by allocating the first circuit element 15A on the divided fine dummy pattern.例文帳に追加

また、細分割化したダミーパターン上に第１の回路素子１５Ａを配置することで、第１の回路素子１５Ａの傾きを抑止することができ、更なる位置精度の向上が可能となる。 - 特許庁

The alignment mark structure has a scribe line of wafer or an alignment mark 102 formed in the region of a nonconstitutional part, and a protective dummy pattern 114 for protecting it against CMP.例文帳に追加

アライメントマーク構造は、ウェハのスクライブ線又は非構成部品領域に形成されるアライメントマークと、このアライメントマークの周辺に位置し、これをＣＭＰから保護する保護ダミーパターンとを有する。 - 特許庁

For the COG mounting, the anisotropic conductive film 8 is press-bonded in a state wherein a dummy pattern 10 is formed on the array substrate 2, and then the driving LSI 6 is mounted by heat-press bonding.例文帳に追加

ＣＯＧ実装に際しては、アレイ基板２上にダミーパターン１０を形成した状態で異方性導電膜８を仮圧着し、その後、駆動ＬＳＩ６を熱圧着により実装する。 - 特許庁

To provide a method for easily arranging a dummy pattern relative to a conventional one, and preventing an interlayer insulation film from being thinned in a formation region of a semiconductor chip adjacent to a scribe region.例文帳に追加

従来よりも簡単にダミーパターンを配置し、スクライブ領域に隣接した半導体チップの形成領域において、層間絶縁膜が薄くなるのを抑制する方法を提供する。 - 特許庁

In the laminate, a layer wherein the extension conductor X of the layer on one side in a lamination direction and the floating dummy pattern 15 of the layer on the other side overlap is included.例文帳に追加

積層体内においては、積層方向の一方側の層の伸長導体Ｘと、他方側の層の浮遊ダミーパターン１５とが重なり合う関係となる層を含むように形成する。 - 特許庁

It is preferable that the distance between the dummy pattern and the waveguide cores of the optical coupler is the same as or exceeds the size of the gap between the waveguide cores of the optical coupler.例文帳に追加

好ましくは、前記ダミーパターンと前記光カプラの導波路コアとの間隔は、前記光カプラの前記導波路コア間のギャップサイズと同じ大きさか、或いはそれ以上である。 - 特許庁

To provide a structure of a metal dummy pattern capable of suppressing the nonuniformity of a transistor characteristic to a maximum extent even though mask displacement is generated, while maintaining a flattening effect of the metal CMP.例文帳に追加

メタルＣＭＰ本来の平坦化効果を維持しつつ、マスクずれが発生してもトランジスタ特性の不均一性を可能な限り抑制し得るような、メタルダミーパターンの構造を提案する。 - 特許庁

To provide a sheet-fed printer capable of eliminating paper of needle regulation failure by printing on paper, a dummy pattern for detecting a needle regulation failure while improving work efficiency.例文帳に追加

作業性を向上させつつ横針規制不良を検出するためのダミー絵柄を用紙に印画し、横針規制不良の用紙を排除することが可能な枚葉印刷機を提供する。 - 特許庁

Dummy chips 23 are attached to the substrate 21 on both the sides thereof in form severally projecting from the pattern surface 21a of the substrate 21 so as to sandwich each other with the substrate 21 in between.例文帳に追加

基板２１の両側には、ダミーチップ２３が、それぞれ基板２１のセンサパターン面２１ａから突出する形で互いに基板２１を挟んで対峙するように添設されている。 - 特許庁

A code sequence partial data extract means 1855 extracts part of the code sequence from the coding means 1851 corresponding to the dummy pattern and provides the output of a 2nd code sequence.例文帳に追加

符号列部分データ抜き取り手段１８５５は、符号化手段１８５１からの符号列の内の当該ダミーパターンに対応する部分を抜き取って第２の符号列を出力する。 - 特許庁

To provide a structure and a method for manufacture and inspection for suppressing product failure and degradation in product quality caused by a dummy electrode pattern in an electrooptical device.例文帳に追加

電気光学装置におけるダミー電極パターンに起因する製品不良や製品品位低下を抑制することのできる構造及び製造方法並びに検査方法を提供する。 - 特許庁

In particular, since the process failure detection circuits have the function as the dummy pattern provided in the peripheral part of the cell array, the chip surface for the process failure detection circuit is saved.例文帳に追加

特に、プロセス不良検出回路がセルアレイの周辺部に設けられたダミーパターンとしての機能を備えることによって、プロセス不良検出回路によるチップ面積を抑制できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, where dummy wiring layers are formed in a prescribed pattern, its manufacturing method, a generating method of mask data, a mask and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

ダミー配線層が所定のパターンで形成された半導体装置およびその製造方法ならびにマスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit in which a momentary current is widely suppressed and a dummy pattern does not become a noise source to the existing wiring.例文帳に追加

瞬時電流を半導体集積回路の広範で抑制し、かつダミーパターンが既存配線に対してノイズ源とならない半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the dummy via hole can be easily formed by the conventional technique without requiring new facilities, thus inexpensively improving the adhesion with the ceramics of the surface conductor pattern.例文帳に追加

また、ダミーのビアホールは従来技術で容易に形成可能であり、新たな設備投資の必要性がなく、安価に表面導体パターンのセラミックスとの密着強度を向上させることができる。 - 特許庁

A plurality of conductor patterns 12 and a dummy pattern 13 for uniforming distances d1 and d2 among the conductor patterns 12 are provided at the joint 15 of a first printed wiring board 10.例文帳に追加

第１プリント配線板１０の接続部１５に、複数の導体パターン１２と、これらの導体パターン１２の間隔ｄ１、ｄ２を均一化するためのダミーパターン１３と、を備える。 - 特許庁

A dummy layer having a pattern in which a solution, in such as a grating shape can infiltrate sufficiently up to a central part, is formed on a transparent substrate 11, and an optical waveguide 16 is formed thereon.例文帳に追加

透明基板１１上に、格子状などの溶液が中央部にまで十分に浸透可能なパターンを有するダミー層を形成し、その上に光導波路１６を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor package substrate whose total bending can be improved by forming a copper pattern having a predetermined shape in its dummy region.例文帳に追加

半導体パッケージ基板のダミー領域に所定の形状の銅パターンを形成することにより、半導体パッケージ基板全体のたわみを改善することが可能な半導体パッケージ基板を提供する。 - 特許庁

In order to make the shrinking amount of the other patterns matched to that of the most densely arranged patterns on pattern layout, slit-like dummy patterns are arranged in advance around through-holes to be formed.例文帳に追加

パターンレイアウト上一番密なパターンのシユリンク量に他パターンのシュリンク量を整合させるために、あらかじめ形成されるスルーホールの周辺にスリット状のダミーパターンを配置させる。 - 特許庁

To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

The dummy pattern 7 is patterned so that it connects in parallel the exothermic resistors 4 of a plurality of the flow detection devices 12 formed on a substrate 1 through the lead patterns 6.例文帳に追加

ダミーパターン７は、基板１上に複数個形成された流量検出素子１２の発熱抵抗４を、リードパターン６を介して並列に接続するようにパターニングされている。 - 特許庁

To provide a design method of an integrated circuit device capable of reducing characteristic variation of a macrocell due to the difference of an automatic generation part of a dummy pattern for a flattening process of an insulation layer surface; and the like.例文帳に追加

絶縁層表面の平坦化処理用ダミーパターンの自動発生箇所の相違によるマクロセルの特性変動を低減する集積回路装置の設計方法等を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of easily locating the position of a defective area without increasing man-hours even in a semiconductor device equipped with a dummy pattern formed on a wiring layer.例文帳に追加

配線層にダミーパターンが形成されている半導体装置においても、工数の増加しない簡単な手法で不良発生箇所の位置を容易に特定することができるようにする。 - 特許庁

To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection part region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip which has a dummy pattern which can identify a position as to a specific portion in, for example, SRAM cells even after completion of a final wiring process for analysis.例文帳に追加

最終配線プロセス完了後でも例えばＳＲＡＭセル内の特定部分について位置を同定し、解析を行なうことが可能なダミーパターンを有する半導体チップを提供する。 - 特許庁

Though cell thickness is likely to be inhomogeneous as the result that the wiring 29b and the wiring 33 are arranged across the sealing material 4, the problem is solved by providing the first dummy pattern 34.例文帳に追加

配線２９ｂ及び配線３３がシール材４を横切ることによって不均一になるおそれがあるセル厚を、第１ダミーパターン３４を設けることによって解消する。 - 特許庁

Consequently, pattern data in which omission of data is prevented is outputted even if the data of every scanning line is processed based on a main scanning sync signal added with dummy data to the head.例文帳に追加

これにより、１走査ライン分ずつのデータが、先頭にダミーデータが付加された、主走査同期信号に基づいた処理がなされてもデータ欠落が防止されたパターンデータが出力される。 - 特許庁

Accordingly, an appearance pattern of audio packet of a packet-multiplexed stream becomes identical to that in the case of multiplexing using only the normal audio PES, even if dummy audio PES is mixed.例文帳に追加

そのため、パケット多重化されたストリームのオーディオパケットの出現パターンは、ダミーオーディオＰＥＳが混ざっていても、正規のオーディオＰＥＳのみで多重化された場合と同じになる。 - 特許庁

A load information extracting means 262 extracts load information existing between the dummy pattern, and other wiring arranged in the periphery and a conductor and semiconductor of a substrate.例文帳に追加

このダミーパターンとその周辺に配置される他の配線および基板の導体および半導体との間に存在する負荷情報を負荷情報抽出手段２６２が抽出する。 - 特許庁

The semiconductor device has the dummy patterns arranged in response to the occupation rate of an element pattern in a mesh area dividing the area on the semiconductor board into plurality in the other aspect.例文帳に追加

本発明の半導体装置は、他の局面では、半導体基板上の領域を複数に分割するメッシュ領域内の素子パターンの占有率に応じて配置されたダミーパターンを有する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which adverse effect on, for example, the other elements on a substrate due to dislocation loops is suppressed while having a dummy pattern region that can cause the dislocation loops.例文帳に追加

転位ループが発生するおそれがあるダミーパターン領域を有しながらも、転位ループによる基板上の他の素子等への悪影響が抑えられた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of color filter, in which the spectral transmittance of a colored pixel of a CCD is regarded to be measured correctly even when the spectral transmittance of the colored pattern of a dummy is measured.例文帳に追加

ダミーの着色パターンの分光透過率を測定しても、ＣＣＤの着色画素の分光透過率を正確に測定したとみなせるカラーフィルタの検査方法を提供する。 - 特許庁

Four light shielding plates by moving in the direction parallel/perpendicular to the edge and by rotating determine the illuminating region and form an exposed field in various shapes and a dummy pattern.例文帳に追加

４枚の遮光板エッジに平行な方向と垂直な方向に移動し、また回転することにより、照明領域を決定し、種々の形の露光フィールドや、ダミーパターンを形成する。 - 特許庁

The opening 4 is formed both on the periphery of a use area 5 in the microstructure, and in a dummy area 6 in series with the use area 5 and having an array pattern similar thereto.例文帳に追加

開口部４が、マイクロ構造体の使用領域５の周囲に、使用領域５に連続して使用領域５と同様の配列パターンを有するダミー領域６にも形成される。 - 特許庁