「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

All of the first lens 2, the second lens 3 and the third lens 4 are made of a curable resin material, and at least one side face of the second lens is subjected to a coating process 5.例文帳に追加

第1レンズ2、第2レンズ3及び第3レンズ4のいずれもが硬化性樹脂材料で形成され、第2レンズの少なくとも一方の側面にはコーティング処理５がなされている。 - 特許庁

The equipment authentication part performs a plurality of processings, and records the execution result of each processing and the authentication result as the authentication process information in the first storage part.例文帳に追加

機器認証部は複数の処理を行い、機器認証部は、各処理の実行結果及び前記認証結果を認証経過情報として前記第１の記憶部に記録する。 - 特許庁

The first circular end is preferably formed by a swaging or pointing process to reduce the cross-sectional area of the tubular member and to form the circular end.例文帳に追加

第一円形末端は、好ましくは、管状部品の断面積を縮小および円形末端形成のためのスウェージングまたは先出し加工によって形成される。 - 特許庁

When a game ball enters a first start hole 96, an internal lottery process is executed and, when winning a minor win, a pair of opening/closing pieces 88 are openingly/closingly operated.例文帳に追加

第１始動口９６に遊技球が入賞すると内部的な抽選処理が行われ、小当たりに当選すると一対の開閉片８８，８８が開閉動作する。 - 特許庁

Low concentration impurity layers 50, 40 for the first and second high withstand voltage transistors 100P, N and wells 36, 34 of the low withstand voltage transistors are formed in the same process.例文帳に追加

第１、第２高耐圧トランジスタ１００Ｐ，Ｎのための低濃度不純物層５０，４０と低耐圧トランジスタのウェル３６，３４の形成を同一の工程で行う。 - 特許庁

The high frequency vertical vibration can be sufficiently damped in the process that the vertical vibration is transmitted through the first elastic body 18 and therefore the vertical riding comfortability can be improved.例文帳に追加

第１弾性体１８を上下振動が伝達する過程にて、高周波上下振動を十分に減衰させることができるため、上下乗心地を向上できる。 - 特許庁

In the second mixing step of mixing a lubricant into the mixture subjected to the coating process, a binding insulating resin is mixed into the first mixture coated with the lubricant.例文帳に追加

被覆工程を経た混合物に潤滑剤を混合する第２混合工程では、潤滑剤を被覆した第１混合物に結着性絶縁樹脂を混合する。 - 特許庁

The decision unit for the commitment sequence 100 sends an work data for a lot 40, the commitment sequence of which is decided, to the computer 11 that is supposed to respond to a first production process.例文帳に追加

投入順序決定部１００は、投入順序の決定したロット４０の作業情報を最初の生産工程に対応する計算機１１へ送信する。 - 特許庁

For each desired passage hole or a group of passage holes, a node 60 is formed first on the outside surface 62 of the substrate 64 through a laser solidifying process.例文帳に追加

所望の各通路孔または一群の通路孔のために、基板６４の外側面６２上に節点６０がレーザ固結工程によって最初に形成される。 - 特許庁

On the first process, the oil polluted soil is fed into an agitation apparatus 3 (for example, a pan type or pug mill type mixer) having a rotary blade, is mixed with water and is agitated by the rotary blade.例文帳に追加

先ず、回転翼を備える攪拌装置（例えば、パン型またはパグミル型のミキサ）３に油汚染土壌を投入し、水と混合して回転翼により撹拌する。 - 特許庁

In the pachinko machine 1, a lottery process is executed when a game ball enters a starting hole 96 for a special lot indicating an opening/closing operation mode of a first movable piece 456.例文帳に追加

パチンコ機１では、始動口９６への遊技球の入球があったとき、第１の可動片４５６の開閉動作態様を示す特別クジについての抽選処理を行う。 - 特許庁

A changing process section changes part of a pixel of a target line of image data to the pixel of a line adjacent to it, in order to correct the curve of a scanning line of a first color.例文帳に追加

乗り換え処理部は、第１色の走査線の湾曲を補正するために画像データにおける注目ラインの画素の一部を隣接したラインの画素へと乗り換えさせる。 - 特許庁

In this process, the calcinated layer 30 including a non-sintered dielectric ceramic layer 22 is arranged so as to be sandwiched between a first constrain layer 12 and a second constrain layer 42.例文帳に追加

この工程では、未焼結誘電体セラミック層２２を含む被焼成層３０を、第１拘束層１２と第２拘束層４２との間に挟み込むようにして配置する。 - 特許庁

In a first process, a circular wire rod material is fed into a rolling machine, and the rolling machine rolls the circular wire rod material into a circular wing material having both blades.例文帳に追加

第一工程は、円形状線材料を圧延機に送り込み、圧延機が円形状線材料を両翼を持つ円形の翼つき材料に圧延する。 - 特許庁

The method for spraying Sedum comprises the following process: cutting grown Sedum at the first or second gnarl from its ear tip; and directly spraying Sedum seedlings 3 on vegetation base soil 2 laid on a base beforehand.例文帳に追加

成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗３を、予め基盤１上に敷設した植生基盤土２に直接吹付ける。 - 特許庁

In the process, if the first resonance mode is changed to the second resonance mode, a position of a loop of wave and a position of a node thereof change and developer is stirred further effectively.例文帳に追加

この際第１の共振モードから第２の共振モードに変化させると、波の腹の位置と節の位置とが変化し、さらに効率よく現像液が撹拌される。 - 特許庁

A sealing device is disposed between a first chamber assembly configured to define the process space and a second chamber assembly configured to define the transfer space.例文帳に追加

シーリングデバイスは、処理空間を規定するように構成された第１のチャンバアセンブリと、移送空間を規定するように構成された第２のチャンバアセンブリとの間に配置される。 - 特許庁

Display control means 100 and 300 extract the first discrimination information group prior to the second discrimination information group according to the order of priority in the process of executing the display game.例文帳に追加

表示制御手段１００，３００は、表示遊技の実行過程で、第１識別情報群を優先度に応じて第２識別情報群に優先して導出する。 - 特許庁

A first connection means 612 can be attached with/detached from a second connection means 613 fixed on a signal process section 70 included in the surface potential device 1.例文帳に追加

第１の接続手段６１２は、表面電位検出装置１に含まれる信号処理部７０に設けられた第２の接続手段６１３に着脱可能である。 - 特許庁

A communication parameter sharing process is performed between the decided first communication device and the other communication device that requests the share of the communication parameter in a predetermined participation receiving time based on the management.例文帳に追加

その管理に基づいて、所定の参加受付時間内に通信パラメータの共有を要求した他の通信装置との間で、通信パラメータの共有処理を行う。 - 特許庁

In a first steering process L1, only a right wheel 3b is rotated around a grounding point of a left wheel 3a and steered by operating a horizontal width direction moving switch.例文帳に追加

横幅方向移動スイッチの操作により、第１の操向工程Ｌ１では、左車輪３ａの接地点を中心にして右車輪３ｂのみを回転して操向する。 - 特許庁

At the calculating process operation, the first sample hold circuit 23 wherein a noise can be removed with a large time constant is operated, for measurement at high precision.例文帳に追加

一方、演算処理動作のときには、時定数が大くて、ノイズを除去可能な第１のサンプルホールド回路２３が作動されさ、精度が高い測定を行うことができる。 - 特許庁

In the process, not short-time heating by lamp anneal but furnace anneal is added as heat treatment after formation of an NSG layer 16 which is an uppermost layer of the first interlayer insulation film 10.例文帳に追加

このとき第１の層間絶縁膜１０の最上層であるＮＳＧ層１６の形成後の熱処理として、ランプアニールによる短時間加熱ではなく炉アニールを加える。 - 特許庁

In the irradiation process (a), a body is irradiated with light which is made incident from the first substrate and irradiates the body and the light reaches the light curable sealing material.例文帳に追加

照射工程（ａ）において、物体は第１基板から入光した物体を照射する光によって照射され、その光は光硬化性シール材まで達する。 - 特許庁

To obtain an aqueous reducing composition for a first step of a process to permanently reshape the hair comprising a reducing agent in a cosmetically acceptable medium.例文帳に追加

化粧品的に許容可能な媒体中に、新規還元剤を含有する、毛髪のパーマネントリシェイプ施術の第一段階のための水性還元組成物の提供。 - 特許庁

A color conversion process to the original image is performed (S114, S115) so as to bring each representative of the second feature amount close to each of representatives of the first feature amount.例文帳に追加

そして、第２特徴量の各代表値を第１特徴量の各代表値にそれぞれ近づけるように、元画像に対する色変換処理を行う（Ｓ１１４，Ｓ１１５）。 - 特許庁

In a recursive hierarchical process, a neighborhood of old motion vectors is filtered to generate a first estimated motion vector for an image patch in a pair of two image frames.例文帳に追加

再帰的階層プロセスにおいて、古い動きベクトルの近傍は、二つの画像フレームのペア内の画像パッチについて第一の推定動きベクトルを生成するためにフィルタリングされる。 - 特許庁

When shifting the conveyance for the post-treatment process from a current set to the next set, in the next set, the number of sheets to be evacuated in a first evacuation step is increased.例文帳に追加

そして、現在の組から次の組へ後処理プロセスへの搬入を移行する際、次の組ではその初回の退避ステップにおいて退避させるシート枚数を増加させる。 - 特許庁

A first trimming process for adjusting a resistance value itself is performed to the second resistive element 3B, that is the resistive element for light emission for allowing the LED 2 to emit light.例文帳に追加

そして、ＬＥＤ２を発光させる発光用抵抗素子である第２の抵抗素子３Ｂに対して抵抗値自体の調整をする第１のトリミング工程を行う。 - 特許庁

In the second ink ejection process, the ink is ejected from the nozzles while the head is moved in a second direction that intersects the conveyance direction and is opposite to the first direction.例文帳に追加

第２インク吐出工程では、搬送方向とは交差し第１方向とは反対の第２方向にヘッドを移動させつつ、前記ノズルからインクを吐出させる。 - 特許庁

A point-spread function (PSF) of a PAS process is first obtained from knife-edge responses (S11), and deblurring is carried out on a scanned image using deconvolution (S12).例文帳に追加

ＰＡＳプロセスの点拡がり関数（ＰＳＦ）は、最初にナイフエッジ応答から得られ（Ｓ１１）、逆畳み込み演算を使用し、スキャン画像に対してボケ除去が実行される（Ｓ１２）。 - 特許庁

When the process cartridge 20 is removed from the body casing 2, the moving member 992 receives pressing from an inclined surface 104 of the actuator 100 and is restored to a first position from a second position.例文帳に追加

プロセスカートリッジ２０を本体ケーシング２から取り出すと、移動部材９９２はアクチュエータ１００の斜面１０４から押圧を受けて第二位置から第一位置に戻される。 - 特許庁

The frequency distribution 46 is subjected to an integration projection process on a beam address axis and a depth address axis, so that first and second integration projection distributions are created.例文帳に追加

頻度分布４６に対しては、ビームアドレス軸上及び深さアドレス軸上への積算投影処理が施され、これにより第１及び第２の積算投影分布が生成される。 - 特許庁

After that, the processing process S114 including heating and tension impression is performed, in which tension impression is made by letting the temperature reach a second temperature not exceeding the first temperature.例文帳に追加

その後に、第１の温度を超えない第２の温度に到達させながら張力を印加する、加熱および張力印加を伴う処理工程Ｓ１１４等が行われる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, in which each gate electrode height of first and second pillar MOS transistors is formed to be the same in the same process.例文帳に追加

同一の工程で第一及び第二の柱状型ＭＯＳトランジスタのそれぞれのゲート電極の高さを同一に形成する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The division process is to irradiate the scribe line with the pulse laser beam from a second main surface on the reverse side of the first main surface and divide the brittle material substrate along the scribe line.例文帳に追加

分断工程は、スクライブラインに対して、第１主面とは逆側の第２主面からパルスレーザ光を照射し、脆性材料基板をスクライブラインに沿って分断する。 - 特許庁

When the engine is started, either one of first and second starting mode control process is selected and executed according to remaining amount of charge SOC and three temperatures Toil, Tmot, and Tbat (Steps 5 to 8).例文帳に追加

エンジン始動時、充電残量ＳＯＣおよび３つの温度Ｔｏｉｌ，Ｔｍｏｔ，Ｔｂａｔに応じて、第１および第２始動モード制御処理の一方を選択して実行する（ステップ５〜８）。 - 特許庁

A second conductive film 19 is formed on a part of the first conductive film 18 from which the dielectric layer 20 positioned on the upside is removed in the removal process.例文帳に追加

第１の導電膜１８のうちの、除去工程において上部に位置していた誘電体層２０が除去された部分の上に、第２の導電膜１９を形成する。 - 特許庁

The device is a mount with a carrier plate constructed to be supported inside of the process space and a plurality of first openings passing through the thickness of the carrier plate.例文帳に追加

装置は、プロセス空間の内部に支持されるべく構成されたキャリアプレートを有し、キャリアプレートの厚みを貫通する複数の第１の開口部を有する取付具である。 - 特許庁

To provide an aqueous reducing composition for the first step of a process to permanently reshape the hair, generating strong and long acting curling action but hardly causing damage on the hair.例文帳に追加

強くかつ持続性のあるカーリング作用を生じるが毛髪へのダメージは少ない、パーマネントリシェイプ施術の第一段階のための水性還元組成物の提供。 - 特許庁

The first is an education process by a teacher including fluid dynamics and the mathematics and dynamics necessary as the foundation thereof.例文帳に追加

（ａ）流体力学の基礎方程式にもとづく飛行機能のシミュレーションプログラムにより、飛翔体の挙動をシミュレートし、教材の機能と基礎方程式の関係を理解する教育過程。 - 特許庁

After covering a metallic electrode material, a lift-off using a contact pattern formed on an intermediate insulation film 22p and a first resist 20p is used to process a metallic electrode.例文帳に追加

金属電極材料を成膜した後、中間絶縁膜２２ｐ及び第１レジスト２０ｐに形成されたコンタクトパターンを用いたリフトオフにより金属電極を加工する。 - 特許庁

In the coupling process, the third insulating layer includes a platform portion that extends beyond the first insulating layer and the second insulating layer, and the platform portion has an upper surface.例文帳に追加

連結する工程において、第３の絶縁層は、第１の絶縁層および第２の絶縁層を越えて延在するプラットフォーム部を備え、そのプラットフォーム部は上面を有する。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of securely covering an electrophotographic photosensitive drum with a first shutter portion and a second shutter portion, and to provide an electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加

第１のシャッター部と、第２のシャッター部とで、確実に電子写真感光体ドラムを覆うことのできるプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁

After a belt-like electrode 3 is formed along a first split groove 2 on an upper side of a ceramic substrate 1, laser scribing is executed twice as a second split groove forming process.例文帳に追加

セラミック基板１の上面に一次分割溝２に沿って延びる帯状電極３を形成した後、二次分割溝形成工程としてレーザスクライブを２回行う。 - 特許庁