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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > first processに関連した英語例文

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first processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5620



例文

The compressing process being conducted by the first compressing circuit 11 is the same compressing process being conducted by the second compressing circuit 12 while the image data that are one frame before than the received image data D_n and these compressing processes are changed as time goes by.例文帳に追加

第1圧縮回路11で行う圧縮処理は、受信画像データD_nより1フレーム前の画像データを圧縮する際に第2圧縮回路12で行う圧縮処理と同一であり、これらの圧縮処理は時間経過とともに変化する。 - 特許庁

The regenerating method has the first process of baking a used hydrogenation catalyst to remove carbonaceous matter adhering to the catalyst so as to obtain a baked catalyst and the second process of causing an active metal ingredient to be supported in the baked catalyst.例文帳に追加

使用済みの水素化処理触媒を焼成して該水素化処理触媒に付着する炭素質を除去し、焼成処理触媒を得る第1工程と、焼成処理触媒に活性金属成分を担持させる第2工程とを有する。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device includes a process of forming a wiring layer 10, and a process of forming a first insulating film 20 on the wiring layer 10 under the condition that hydrogen in the state of plasma is not more than 1% of all the gas components.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、配線層10を形成する工程と、プラズマ状態中の水素が全ガス成分中の1%以下である条件下で、配線層10上に第1の絶縁膜20を形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The clock frequency of the first basic process part 37b and the second basic process part 38b is such a frequency as excludes an integral fraction of an intermediate frequency and a basic frequency of the frequency band of the signal received by way of the antenna 35.例文帳に追加

そして、第1基本処理部37bと第2基本処理部38bのクロック周波数を、アンテナ35を介して受信される信号の周波数帯の基本周波数及び中間周波数に対する、整数分の1以外の周波数とした。 - 特許庁

例文

Thereafter, a process for determining degree of allowance of measurement values at the present moment to the measurement values at the first time of teaching operation and a process for displaying the calculated degree of allowance on the display portion 21 are repeated until a second time of teaching operation will be conducted.例文帳に追加

この後は、2回目の教示操作が行われるまで、1回目の教示操作時点での測定値に対する現時点の測定値の余裕度を求める処理と、算出した余裕度を表示部21に表示する処理とを繰り返す。 - 特許庁


例文

A method consists of a first process to form a reduced diameter part 10 by applying spinning to the end part of a metal cylindrical body 1A and a second process to form a plurality of opening parts 2, 3 by squeezing part of the reduced diameter parts 10 from both sides.例文帳に追加

金属製の筒体1Aの端部にスピニング加工を施して縮径部10を形成する第1の工程と、次いで、前記縮径部10の一部を両側から押し潰して複数の開口部2,3を成形する第2の工程とからなる。 - 特許庁

The method comprises the first printing process for printing characters and/or figures on a front panel 40 of the illumination device 30 by a silk screen printing and the second printing process for printing the peripheral rim part of the front panel 40 by an ink jet printing.例文帳に追加

電飾装置30の前面板40に文字及び/又は図柄をシルクスクリーン印刷により印刷する第1の印刷工程と、前面板40の周縁部分をインクジェット印刷により印刷する第2の印刷工程とを含むようにした。 - 特許庁

By a punching process, a plurality of pockets housing the rollers are formed (in a step g), a first roller contact part and a second roller contact part are formed in each wall face of the pocket, and the stop part is formed to the roller contact part by a pressing process (in a step h).例文帳に追加

次に、打ち抜き加工により、ころを収容する複数のポケット(工程g)と、ポケットの壁面に第1ころ接触部および第2ころ接触部を形成し、ころ接触部に、面押し加工によりころ止め部を形成する(工程h)。 - 特許庁

There are provided a first process of adding a ferrous salt solution and a ferric salt solution to the heavy metal contaminated soil, and a second process of generating ferrite by adding an alkaline solution to the produced water containing soil to fix the heavy metals into the ferrite.例文帳に追加

重金属で汚染された土壌に、第1鉄塩溶液と第2鉄塩溶液を添加する第1工程と、ついで、生じた含水土壌にアルカリ溶液を添加してフェライトを生成させ、重金属をフェライト中に固定する第2工程とを設ける。 - 特許庁

例文

A wet-etching process is carried out for the residual substances 80, such as a heavy compound generated when patterning a second structure layer made of resin by an O_2 etching process together with a removal layer 93 located above a first structure layer 51 serving as an actuator structure 33.例文帳に追加

O_2エッチングにより樹脂製の第2の構造層をパターニングした際に発生する重化合物などの残渣80を、アクチュエータ構造33となる第1の構造層51の上方に位置する除去層93と共にウェットエッチングする。 - 特許庁

例文

A head recovery drive-controlling part 66 of the ink-jet recording apparatus carries out a head recovery process when a passed time Tc1 after a last head recovery process exceeds a first time T1 on the basis of the count result of a maintenance timer 69.例文帳に追加

インクジェット記録装置1のヘッド回復駆動制御部66は、メンテナンスタイマー69の計測結果に基づき、最後のヘッド回復処理が行われた後からの経過時間Tc1が第1の時間T1を超えると、ヘッド回復処理を実行する。 - 特許庁

The management information of articles is integrated into two-dimensional codes, and the two-dimensional codes are outputted to labels in the first process, and the labels are attached to at least the articles and the exterior of the articles, and the articles are conveyed to the next process.例文帳に追加

一の工程において、物品の管理情報を2次元コード化しその2次元コードをラベルに出力する手段を備え、そのラベルを物品及びその物品の外装の少なくとも一方に貼付し、その物品を次の工程に送る。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor element comprises: a first process for forming a first conductive type source region 4 in a second conductive type body region 3 formed on a first conductive type substrate 1 through ion pouring employing a pouring mask; and a second process for forming a doped region 13 doped by pouring acceptor impurities into the second conductive type body region 3 employing the pouring mask.例文帳に追加

第1導電型の基板1上に形成された第2導電型のボディ領域3内に注入マスクを用いたイオン注入により第1導電型のソース領域4を形成する第1の工程と、前記注入マスクを用いて第2導電型のボディ領域3内にアクセプタ不純物を注入することによりドーピングされた領域13を形成する第2の工程とを含む。 - 特許庁

A stapler driving method includes the first process in which first power is supplied toward a motor which is the driving source of the stapling operation, before a point of time of a specified operation spot included in a stapling operation, and after the point of time of the operation spot, second power lower than the first power is supplied toward the motor, and a second process for braking the motor after the time of the operation spot.例文帳に追加

ステープル動作に含まれた特定の動作箇所の時点より前の時点では、ステープル動作の駆動源であるモータに向けて、第1の電力を供給させ、その動作箇所の時点より後の時点では、そのモータに向けて、その第1の電力よりも低い第2の電力を供給させる第1過程と、上記動作箇所の時点の後に上記モータに対し制動を掛ける第2過程とを有する。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a structured layer including a final periodic grating structure of a first material and a second material filling spaces between individual features of the final periodic grating structure; removing the second material using a first chemical process; and annealing at least a portion of the first material into a third material using a second chemical process.例文帳に追加

第1の材料の最終周期格子構造及び、最終周期格子構造における個々の構造(features)の間を充填する第2の材料で構成された構造層を形成する工程と、第1の化学プロセスを用いて第2の材料を除去する工程と、第2の化学プロセスを用いて第1の材料の少なくとも一部を第3の材料にアニールする工程と、を含む。 - 特許庁

This cleaning device comprises a vibrating member 44 for transferring vibration to a plate 26 and a frequency control means that repeats a cycle including a first process wherein a frequency of the vibrating member 44 to be applied to the plate 26 is gradually changed from a first frequency to a second frequency and a second process wherein the frequency is suddenly changed from the second one to the first one.例文帳に追加

本発明に係るクリーニング装置は、上記板26に振動を伝える振動部材44と、上記振動部材44から上記板26に伝える振動の周波数を、第1の周波数から第2の周波数に漸次変化させる第1の過程と、上記第2の周波数から上記第1の周波数に瞬時に変化させる第2の過程とを含むサイクルを繰り返す周波数制御手段とを有する。 - 特許庁

The method of culturing a photosynthetic microorganism adhering to a substrate, includes a process of causing a photosynthetic microorganism to adhere onto a substrate containing a compound having a function of converting a wavelength, and a process of irradiating the photosynthetic microorganism with first light; wherein the photosynthetic microorganism is irradiated with the first light and second light generated by the wavelength conversion of the first light by virtue of the compound having a function of converting a wavelength.例文帳に追加

波長変換機能を有する化合物を含む基材上に光合成微生物を付着させる工程と、前記光合成微生物に第1の光を照射する工程とを含み、前記第1の光と、前記第1の光が前記波長変換機能を有する化合物により波長変換されて生じた第2の光とが前記光合成微生物に照射される光合成微生物の付着培養方法。 - 特許庁

The first arrangement process matches the location of the body of the reactor with the location of the heating section so that the heating section and the body of the reactor are directed to each other in a non-contact state.例文帳に追加

第一配置工程は、加熱部と反応装置本体とが非接合な状態で対向するように、反応装置本体と加熱部との位置合わせを行う。 - 特許庁

In a thermal distortion removing process, the region including the fusion spliced part A is heat-treated at a second temperature T2 lower than the first temperature T1 to remove thermal distortion (Fig. 1 (f)).例文帳に追加

熱歪み除去工程で、第1の温度T1より低い第2の温度T2で融着接続部Aを含む領域を加熱処理して熱歪みを除去する(図1(f))。 - 特許庁

The end plates 2 and 3 are used as load carrying plates receiving tensile force of the first stick 4 and the second stick 5 and, at the same time, these sticks 4 and 5 are held in the process of execution.例文帳に追加

端板2,3は、第一棒材4及び第二棒材5の引張力を受ける耐荷板であると共に、施工過程でこの棒材4,5を保持するものである。 - 特許庁

This process for preparing the 3-hydroxybenzyl alcohol comprises subjecting 3-chloromethylphenyl chloroformate to an acidolysis with a carboxylic acid or a carboxylic acid salt and carrying out an alcoholysis using the reactional product in the first step.例文帳に追加

クロロ蟻酸3−クロロメチルフェニルをカルボン酸又はカルボン酸塩を用いて加酸分解にかけ、次いで、この第一段階の反応生成物を使用してアルコーリシスを行う。 - 特許庁

The motor also supplies the updated properties and the event to the application 58 in a second language according to the request received in the first language from the client process 52.例文帳に追加

モータはまた、クライアントプロセス(52)から第1の言語で受け取った要求に従って、更新されたプロパティおよびイベントを、第2の言語でアプリケーション(58)に供給する。 - 特許庁

At a first color conversion process, it can be evaluated how a color of an image displayed on a display 60 is perceived under an observation environment.例文帳に追加

第一色変換工程においてはディスプレイ60に表示された画像の色を、その観察環境下においてどのように知覚されるかを推定することができる。 - 特許庁

After that, the image of a previous frame to which the blurring process was applied, saved in a second area 602, is composited with the image saved in the first area 601.例文帳に追加

そして第2のエリア602に保存されている1フレーム前のブラー処理を施された画像群を、第1のエリア601に保存されている画像群に合成する。 - 特許庁

A differenceLp) between the first process difference and the second difference is calculated, and the obtained difference is used to correct a P gate portion extracted from design data.例文帳に追加

次に、第1の加工差と第2の加工差との差分(ΔLp)を算出し、算出した差分を用いて、設計データから抽出したP型ゲート部を補正する。 - 特許庁

Exposed portions 40a, 40b, 40c, ... from which the resistance body 40 is exposed are provided between conductive segments 20a, 20b, 20c, ... of the first sliding section 20 and a trimming process is performed thereto.例文帳に追加

第1摺動部20の導体セグメント20a、20b、20c、・・・間には、抵抗体40が露出する露出部40a、40b、40c、・・・が設けられ、トリミング処理が行われる。 - 特許庁

The start preselected time tp1 of a data processing process of a first priority task TSK(3) is predicted and the end estimated time tp2 of a non-output task TSK(4) is predicted.例文帳に追加

第1優先度タスクTSK(3)のデータ処理プロセスの開始予定時刻tp1を予測し、また、非出力タスクTSK(4)の終了予定時刻tp2を予測する。 - 特許庁

To provide a small double-face printed circuit board that enables high densification of components by jointing a first substrate with another substrate, after executing component mounting and a reflow process.例文帳に追加

部品搭載、リフロー工程を実施した後に、前記第一基板と他の基板を接合することで、部品の高密度化を可能にした小型両面プリント基板を提供する。 - 特許庁

In a first process, body frames 4, 5 suiting to a body frame 20 to be manufactured are selected from a plurality of ready-made body frames based on a desired design plan.例文帳に追加

第1の工程で、所望の設計プランに基づいて、多数の既製の車体フレームのなかから製造すべき車体フレーム20に適した車体フレーム4、5を選択する。 - 特許庁

The image data is sorted into first time series image data and second time series image data, in units of frame or field, by an image sorting process part 110.例文帳に追加

この画像データは、画像振り分け処理部110で第1の時系列画像データと第2の時系列画像データとにフレーム単位又はフィールド単位で振り分けられる。 - 特許庁

The second airbag chamber has an elastic wall, and while loading the first airbag chamber, the gas flows into the second airbag chamber, and in its process, the second airbag chamber is elastically inflated.例文帳に追加

第2エアバッグチャンバは、弾性壁を有し、第1エアバッグチャンバの負荷時に、ガスが、第2エアバッグチャンバに流入し、その過程で、第2エアバッグチャンバを弾性膨張させる。 - 特許庁

In the forming process, the first oscillation body candidate part and the second oscillation body candidate part may be designed and formed in a same shape or a substantially in a same shape.例文帳に追加

形成工程において、第1の揺動体候補部と第2の揺動体候補部を同一形状又は略同一形状を有する様に設計して形成することができる。 - 特許庁

In the second blasting process, the blast material is injected in a direction inclined against a normal of the rib-forming substrate and along the first rib in plan view.例文帳に追加

第2ブラスト工程中、リブ形成用基板の法線に対して傾斜した方向であって平面視において第1リブに沿う方向に沿って、ブラスト材を噴射する。 - 特許庁

A manufacturing method of a superconducting wire material of this invention includes a process in which a first wire and a second wire are twisted to form a conductor and a metal pipe is filled with the conductor.例文帳に追加

本発明の超電導線材の製造方法は、第1のワイヤーと第2のワイヤーを撚り合わせ、導体を生成し、該導体を金属管に充填する工程を備える。 - 特許庁

During the process of sealing, the gas in the panel is exhausted through the first glass tube 5, which is connected with the exhaust device 4, and a dry gas is introduced from the second glass tube 8.例文帳に追加

封着中に、排気装置4に接続された第1のガラス管5を通して、パネル内のガスを排気することにより、第2のガラス管8から乾燥ガスを導入する。 - 特許庁

First to third cam holes 40a to 40c in which zoom rollers 52 are inserted, and a rotation restriction hole 40d are formed in the peripheral face of the rotatory cam cylinder 40 by a cutting process.例文帳に追加

回転カム筒40の外周面に、ズームローラ52が挿通される第1〜第3カム孔40a〜40c及び回転規制孔40dを、切削加工により形成する。 - 特許庁

When the binding process is performed by the binding device 500, the stacking of the sheets of paper S is started from the last page and the sheet of paper S of the first page P1 is stacked lastly.例文帳に追加

また綴じ装置500による綴じ処理が行われる場合は、最終ページから用紙Sの積載が開始され1ページP1目の用紙Sが最後に積載される。 - 特許庁

When the process cartridge 20 is taken out from the body casing 2, the moving member 992 receives pressing from an inclined surface 104 of the actuator 100 and is restored to a first position from a second position.例文帳に追加

プロセスカートリッジ20を本体ケーシング2から取り出すと、移動部材992はアクチュエータ100の斜面104から押圧を受けて第二位置から第一位置に戻される。 - 特許庁

To provide a liquid encapsulating mount capable of exhibiting the superior vibration control effect, by increasing a flow rate of a minus flow in a process of expanding the volume of a first liquid chamber A.例文帳に追加

第一液室Aの容積が拡大される過程でのマイナスの流れの流量を増大させ、優れた防振効果を発揮し得る液体封入式マウントを提供する。 - 特許庁

In a first process dried sea weeds are added with deep sea water in the amount of about 0.5 weight ratio and stewed until the sea weeds are sufficiently soft to bring them to be heat treated sea weeds.例文帳に追加

第一工程として、乾燥海藻に重量比約0.5の量の深層海水を加えて、海藻が充分柔らかくなるまで煮込んで、熱処理海藻となす。 - 特許庁

In the second forming process the wheel is placed in the mold in which the first elastic part was formed, and the second elastic part is formed by casting a raw material of the second elastic part.例文帳に追加

第2成形工程では、第1弾性部を成形した金型内に、ホイールを配置するとともに第2弾性部の原料を注入して第2弾性部を成形する。 - 特許庁

In addition, the physical parameter allows the method 400 to independently apportion the steam flow between the first section and the second section of the turbomachine, during the load operation process.例文帳に追加

加えて、物理的パラメータは、本方法400が、負荷運転プロセス中にターボ機械の第1のセクション及び第2のセクション間に独立して分配することを可能にする。 - 特許庁

In a continuous temperature process, first the resin is cured so that the fibrous tissue (14) reaches a state with a dimensional stability and the material in the meltable core is melted out from the core (2).例文帳に追加

連続温度プロセス中に、まず繊維組織(14)が寸法安定性のある状態に到達するように、樹脂が硬化され、次いで可溶コアの材料がコア(2)から溶け出す。 - 特許庁

In the process for providing the resin material 30, the resin material 30 is so fluidized from the central side of the first region toward the groove 12 that its portion flows into the groove 12.例文帳に追加

樹脂材料30を設ける工程では、樹脂材料30を、第1の領域の中央側から溝12に向かって流動させて、一部を溝12に流れ込ませる。 - 特許庁

A display control part 280 first review-displays the representative image on a display part 285 based on a control by the control part 230 immediately after the generation process ends.例文帳に追加

表示制御部280は、制御部230の制御に基づいて、その生成処理が終了した直後に代表画像を表示部285に最初にレビュー表示させる。 - 特許庁

A first vascular region 71 of a surface vascular region including the pixel for which the vascular depth D is determined as the surface is subjected to a suppression process for reducing the contrast.例文帳に追加

血管深さDが表層と判定された画素を含む表層血管領域の第1血管領域71に対して、コントラストを低下させる抑制処理を施す。 - 特許庁

An explanation about a forming process of first and second trailing shields having no physical interfaces (and a structure resulting therefrom) is given as follows, to manufacture a perpendicular magnetic recording head.例文帳に追加

垂直磁気記録ヘッドを製造するために、物理的な界面を有しない第1および第2トレーリングシールドの形成プロセス(およびそれにより生じる構造)を説明する。 - 特許庁

The internal temperature of the process chamber 60 is increased to or above a temperature at which silicon carbide sublimates in order to join the first and second side faces S1 and S2 to each other.例文帳に追加

第1および第2の側面S1、S2を互いに接合するために、炭化珪素が昇華し得る温度以上に処理室60内の温度が高められる。 - 特許庁

First, a connecting rib 13 is cut along an axial direction by using a cutting tool 30 from an end face of a double tube 10 held by chucking an outer tube 11 (rib cutting process).例文帳に追加

まず、外管11をチャックして保持された二重管10の端面から、切断工具30を用いて、軸方向に沿って連結リブ13を切断する(リブ切断工程)。 - 特許庁

例文

Second group-III and nitrogen precursors are flowed into the second processing chamber to deposit a second layer over the first layer with a thermal chemical-vapor-deposition process.例文帳に追加

II族及び窒素の前駆物質が、該第2の処理チャンバに流入されて、熱化学気相堆積プロセスを用いて該第1の層を覆って第2の層が堆積される。 - 特許庁




  
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