「following step」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

By using the following equation (1), a length in the axial direction of the rock lump falling from a rock bed is calculated (step S5).例文帳に追加

下記式（１）を用いて、岩盤から落下する岩塊の軸方向の長さを算出する（工程Ｓ５）。 - 特許庁

In the first step, the function expression of the radio wave reverberation time and the delay spread is expressed by the following expression 1. [Expression 1] D_S=a×T_R+b (provided that a=0.072±0.01).例文帳に追加

［数式１］Ｄ_Ｓ＝ａ×Ｔ_Ｒ＋ｂ （但しａ＝０．０７２±０．０１） - 特許庁

The Moromi vinegar drink is obtained by the following procedure: Using barley, koji mold and yeast as raw materials, Shochu (Japanese distilled liquor) 1 is obtained in its production step (S1).例文帳に追加

麦と麹菌と酵母を原料とし、焼酎製造工程（Ｓ１）において焼酎１を得る。 - 特許庁

The correction quantity for the detected color slippage is displayed on a control panel at the following step S14.例文帳に追加

次のステップＳ１４においては、検知された色ずれの補正量をコントロールパネルに表示する。 - 特許庁

When it is not final, the processing number (k) is incremented (S113); and processing following the step 107 is repeated.例文帳に追加

最終ではなければ、処理番号kをインクリメントし(S113)、ステップＳ１０７以下の処理を繰り返す。 - 特許庁

The heat crimping step includes a step for crimping while pressing down the heating head 10 by downward thrust force obtained from the following formula.例文帳に追加

熱圧着工程は、次式により求められる下降推力により加熱ヘッド１０を押付けながら行なう工程を含む。 - 特許庁

Following to the operation for sucking ink from a recording head at step S23, wiping operation is executed at step S26.例文帳に追加

ステップＳ２３による記録ヘッドからのインクの吸引動作に続き、ステップＳ２６においてワイピング動作を実行する。 - 特許庁

Then, following to degrease processing (step S104), the magnet element is subjected to dissolution processing with acid (step S105).例文帳に追加

次いで、磁石素体を脱脂処理したのち（ステップＳ１０４）、酸により溶解処理を行う（ステップＳ１０５）。 - 特許庁

The image based on the display data calculated in the step 150 is displayed on the display 3 in the following step 160.例文帳に追加

続くステップ１６０では、前記ステップ１５０にて算出された画像データに基づく画像を、ディスプレイ３に表示する。 - 特許庁

The manufacturing method of the polyurethane foam comprises an expansion step and a curing step, where the expansion treatment is carried out using the following agitating apparatus 10.例文帳に追加

発泡工程と、硬化工程とを有するポリウレタン発泡体の製造方法において、以下の撹拌装置１０を用いて、発泡処理する。 - 特許庁

The production method contains the following steps and a part of the reaction product produced by the cumene recovery step is recycled to the propylene oxide separation step.例文帳に追加

クメン回収工程で生成する反応物の一部をプロピレンオキサイド分離工程にリサイクルする。 - 特許庁

Then, a gradation control step is executed following the density control step when the set target density is different from a prior time.例文帳に追加

そして、設定された目標濃度が前回と異なる場合は、濃度制御工程に続いて階調制御工程を実行する。 - 特許庁

It may perform processing in and after the step S7 following the processing of the step S3 to S7.例文帳に追加

なお、ステップＳ３乃至Ｓ６の処理に引き続き、ステップＳ７以降の処理を実行するようにしてもよい。 - 特許庁

There is also provided a fourth step of forming a region in which the aluminum base was exposed by removing the barrier layer following the third step.例文帳に追加

また、第３の工程に続いて、バリア層を除去し、アルミニウム基材が露出した領域を形成する第４の工程を有する。 - 特許庁

Only such an SOI wafer as falling within the allowable range is stripped from the stick plate and sent to a step following the polish step.例文帳に追加

ここで、許容範囲内になったＳＯＩウェーハのみが貼付けプレートから剥離されて研磨工程の次工程に送られる。 - 特許庁

To provide a slope face reinforcing construction using an inverted lining method, in which a precast plate installed in a preceding step does not subside due to excavation in a following step.例文帳に追加

次段階の掘削により先の段階に設置したプレキャスト板が沈下しない、逆巻き施工法による斜面補強工法を提供する。 - 特許庁

When the determination in process S20 is 'Yes', the following step width or solution is calculated, and the processing is advanced by one step (processes S26-S31).例文帳に追加

工程Ｓ２０の判定が“Ｙｅｓ”であれば、次のステップ幅又は解を計算し、処理を１ステップ進める（工程Ｓ２６〜Ｓ３１）。 - 特許庁

In the following step S2, an ND film 13 is formed inside the nonreflective asperity structure 12 formed in step S1.例文帳に追加

次のステップＳ２において、ステップＳ１において形成した無反射凹凸構造体１２の内側にＮＤ膜１３を成膜する。 - 特許庁

All the stain including relatively weak stain can be decomposed in the washing step following to the mixing step.例文帳に追加

攪拌工程から引き続き、洗い工程で比較的弱い汚れを含む全ての汚れを分解することができる。 - 特許庁

The coating is carried out by successively performing the following steps A to D. (A) A step to apply a polysilazane solution to a substrate and dry the solution by evaporation; (B) a step to heat the applied film in air; (C) a step to treat with heated steam and (D) a step to treat with a gaseous amine compound containing steam.例文帳に追加

（Ａ）基体にポリシラザン溶液を塗布し、蒸発乾燥する工程、（Ｂ）空気中で加熱処理する工程、（Ｃ）加熱水蒸気で処理する工程、（Ｄ）水蒸気を含むガス状のアミン系化合物で処理する工程。 - 特許庁

The metal powder for powder metallurgy is used for manufacturing a sintered compact by undergoing through the following steps: [A] a composition preparation step where the metal powder is mixed with a binder; [B] a shaping step; [C] a debinding step; and [D] a firing step.例文帳に追加

本発明の粉末冶金用金属粉末は、バインダとともに混合する［Ａ］組成物調製工程を経た後、［Ｂ］成形工程、［Ｃ］脱脂工程、［Ｄ］焼成工程を経て、焼結体を製造するのに用いられる。 - 特許庁

Then following step which is the step to follow the suction nozzle 18 to both edges of web width direction, is carried out by detection step detecting web width by detection portion 46 and detection signal detected at detection step.例文帳に追加

その際、検出部４６によりウエブ幅を検出する検出ステップと、検出ステップで検出された検出信号に基づいて、吸引ノズル１８をウエブの幅方向両端部に追従させる追従ステップと、を行う。 - 特許庁

The following first washing step 12 involves washing of the base metal powder and the following dispersion step 13 involves dispersing of the base metal powder, which is still wet, in an aqueous nickel salt solution containing nickel ion.例文帳に追加

続く第１の洗浄工程１２で卑金属粉末を洗浄した後、分散工程１３で卑金属粉末を湿粉状態のまま、ニッケルイオンを含有したニッケル塩水溶液中に分散させる。 - 特許庁

The substrate cleaning liquid for semiconductor device used in the cleaning step of a substrate for semiconductor device following the chemical mechanical polishing step in manufacture of a semiconductor device contains following components (A)-(D).例文帳に追加

半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分（Ａ）〜（Ｄ）を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。 - 特許庁

If one of referred mail address is matched with the mail address to be deleted (YES of step S5), the processings following the step S4 are repeated to the following members of the mailing list.例文帳に追加

参照したメールアドレスが、削除するメールアドレスと一致した場合（ステップＳ５のＹｅｓ側）、メーリングリストの次のメンバーに対してステップＳ４以下の処理を繰り返す。 - 特許庁

The high speed following travelling control is canceled (step S6 to step S12) when the high speed following travelling control is carried out, the own car speed exceeds the overlapping car speed zone and the preceding vehicle is not detected.例文帳に追加

そして、高速追従走行制御が行われており、且つ自車速がオーバーラップ車速域を上回り、且つ先行車両を検出してないときに高速追従走行制御を解除する（ステップＳ６〜ステップＳ１２）。 - 特許庁

A process step of preparing a cover molding material (C) by compounding the following component (B) with the following component (A) and a process step of covering the core with the cover by injection molding the cover molding material (C) around the core are carried out: (A) The thermoplastic polyurethane material.例文帳に追加

下記成分（Ａ）に下記成分（Ｂ）を配合してカバー成形材料（Ｃ）を調製する工程と、カバー成形材料（Ｃ）をコアの周囲に射出成形してコアにカバーを被覆する工程とを行う。 - 特許庁

The treating method for the aqueous solution containing the metal fluoride comprises the following steps A to C. (step A) a step for adding ammonium hydroxide and/or ammonia to the aqueous solution; (step B) a step for separating the precipitate generated in the step A and (step C) a step for electrodialysing the aqueous solution separated from the precipitate in the step B.例文帳に追加

下記工程Ａ〜Ｃを備える金属フッ化物を含有する水溶液の処理方法： （工程Ａ）水酸化アンモニウムおよび／またはアンモニアを前記水溶液に添加する工程； （工程Ｂ）前記工程Ａにより生じた沈殿物を分離する工程；および （工程Ｃ）前記工程Ｂにより沈殿物を分離した水溶液を電気透析する工程。 - 特許庁

The magnetic character reader performs another recognition processing (step S25), and sets the following recognition object range as a prediction range if the recognition is successful within a specified distance (step S27), and sets the following recognition object range as a whole if the recognition is unsuccessful within the specified distance (step S28).例文帳に追加

また、認識処理を行い（ステップＳ２５）、規定距離内で認識できた場合は、次の認識対象範囲を予測範囲とし（ステップＳ２７）、規定距離内で認識できなかった場合は、次の認識対象範囲を全体とする（ステップＳ２８）。 - 特許庁

The magnetic character reader performs recognition processing (step S25), sets the following recognition object range to a prediction range in case that the recognition can be performed within a regulated distance (step S27), and sets the following recognition object range to the whole range in case that the recognition cannot be performed within the regulated distance (step S28).例文帳に追加

また、認識処理を行い（ステップＳ２５）、規定距離内で認識できた場合は、次の認識対象範囲を予測範囲とし（ステップＳ２７）、規定距離内で認識できなかった場合は、次の認識対象範囲を全体とする（ステップＳ２８）。 - 特許庁

Further, the production method for the polyurea electrolyte is characterized by including a step of neutralizing the sulfonic acid group or the carboxylic acid group in the first compound or the second compound using a neutralizer, a step of polymerizing the first compound and the second compound following the neutralization step, and a step of removing the neutralizer from the polymer of the first compound and the second compound following the polymerization step.例文帳に追加

さらに、前記ポリウレア電解質の製造方法は、第一化合物又は第二化合物におけるスルホン酸基又はカルボン酸基を中和剤により中和する工程と、中和工程後に、第一化合物及び第二化合物を重合する工程と、重合工程後に、第一化合物及び第二化合物の重合体から前記中和剤を除去する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The recording method includes: a drawing step of drawing the recording patterns on a recording medium using a liquid having a photocurable property which is a character facilitating curing materials in response to light irradiation; a light-irradiation step of irradiating the liquid composing the recording patterns with the light, following the drawing step; and a thinning step S22 of thinning films composing the recording patterns, following the light-irradiation step.例文帳に追加

光の照射を受けて硬化が促進する性質である光硬化性を有する液状体で記録媒体に記録パターンを描画する描画工程と、前記描画工程の後に、前記記録パターンを構成する前記液状体に前記光を照射する光照射工程と、前記光照射工程の後に、前記記録パターンを構成する膜を薄くする薄化工程Ｓ２２と、を含む、ことを特徴とする記録方法。 - 特許庁

The incubation process repeats a first step for introducing monosilane gas for a specified time, and a second step for introducing tungsten fluoride gas and monosilane gas for a specified time following to the first step a plurality of times.例文帳に追加

このインキュベーション工程は、モノシランガスを所定時間導入する第１工程と、この第１工程の後にフッ化タングステンガスとモノシランガスを所定時間導入する第２工程と、を複数回繰り返す工程である。 - 特許庁

When correctly performing the six-choice replay bonus which shifts a game state from a preceding step to the following step, the game state is not shifted and maintained in the current step.例文帳に追加

この前段階から現段階に移行する６択リプレイに正解した場合には、遊技状態の移行が行われず、現在の段階のまま維持される。 - 特許庁

Thereby, an aperture part forming step and a pixel electrode forming step following the aperture part forming step can be performed by using one sheet of photomask without using a halftone exposure technique.例文帳に追加

これにより開口部形成工程と、開口部形成工程に続く絵素電極形成工程を１枚のフォトマスクでハーフトーン露光技術を用いずに処理することが可能となる。 - 特許庁

Furthermore, following the formed body heating step or the piston releasing step, the method has a fluid injecting step where pressure fluid is injected into the flow passage 22c of pressurized fluid which is formed between the front of the piston and the bottom of the formed body.例文帳に追加

さらに、成形体加熱工程又はピストン離型工程に続いて、ピストン前方と成形体底部との間に形成された加圧流体流路２２ｃ内に圧力流体を注入する流体注入工程を有する。 - 特許庁

To perform high-speed image forming operation without adversely influencing a following electrifying step even when performing a destaticizing step for destaticizing the surface of an image carrier before a cleaning step.例文帳に追加

像担持体表面の除電工程をクリーニング工程の前に実行する場合であっても、次回の帯電工程に悪影響を及ぼすことなく、高速な画像形成動作を実行する。 - 特許庁

Preferably, the method includes the following step before the step: a step for selecting the protein kinase of which the expression in the animal cell suffering from the rheumatoid arthritis is changed compared to the animal cell not suffering from the disease.例文帳に追加

このステップの前に、さらに次のステップを含むことが好ましい；「関節リウマチに罹患している動物の細胞において、これに罹患していない動物の細胞に比して発現が変化しているタンパク質キナーゼ」を選択するステップ。 - 特許庁

In the inside of the chamber 1 of an etching apparatus, a first step of performing H2O plasma processing and following the first step, and a second step of performing Cl2 plasma processing, are executed after executing an Al dry etching process.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のチャンバー内部１において、Ａｌドライエッチング工程を行った後、Ｈ_2Ｏプラズマ処理を行う第１工程と、第１工程に続いて、Ｃｌ_2プラズマ処理を行う第２工程とを実施する。 - 特許庁

In the wafer surface processing method involving chemical processing, the chemical processing is characterized by including a reaction controlling processing step, and a diffusion controlling processing step following the reaction controlling processing step.例文帳に追加

化学処理を伴うウェーハ表面処理方法であって、前記化学処理が、反応律速型処理工程と、該反応律速型処理工程に続く拡散律速型処理工程とを含むことを特徴とする、ウェーハ表面処理方法。 - 特許庁

The multifunctional admixture comprises one or more products selected from the following: A reaction mixture obtained through the 1st step and the 2nd step described below and a partially or wholly neutralized product of the above reaction mixture obtained through the 3rd step described below.例文帳に追加

下記の第１工程と第２工程とを経て得られる反応混合物及び更に下記の第３工程を経て得られる該反応混合物の部分又は完全中和処理物から選ばれる一つ又は二つ以上を用いた。 - 特許庁

This information retrieval device, at first, obtains a query inputted via an input device 3 in a step S51, and performs a language analysis to the query obtained in the step S51 in a following step S52.例文帳に追加

情報検索装置においては、まずステップＳ５１において、入力装置３を介して入力されたクエリーを取得し、続くステップＳ５２で、上記ステップＳ５１で取得したクエリーに対し言語解析を行う。 - 特許庁

The method for producing the coated paper includes the following step (I), step (II), and step (III), and the coated paper obtained by the production method and having a density of ≤1.0 g/cm^3 is also provided.例文帳に追加

下記工程（Ｉ）、工程（II）及び工程（III）を有する塗工紙の製造方法、並びにこの製造方法で得られた密度が１．０ｇ／ｃｍ^3以下の塗工紙。 - 特許庁

When Yes is shown as the decision result at the step S5, a process initialization operation is finished at a step S6, and the apparatus is shifted to the following operation such as a density adjusting processing at a step S11.例文帳に追加

ステップＳ５の判定結果がＹｅｓではステップＳ６でプロセス初期化動作を終了させ、ステップＳ１１で濃度調整処理などの次の動作に移行する。 - 特許庁

When "display of only transaction fee" is not registered (step S4), a fee table is displayed on the picture of the terminal (step S6), and the customer performs selective input regarding the following display method for the transaction fee (step S7).例文帳に追加

「手数料のみ表示」の登録がなければ（ステップＳ４）、料金表を端末の画面に表示する（ステップＳ６）と共に、今後の手数料の表示方法についての選択入力（ステップＳ７）を行う。 - 特許庁