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generated beamの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1729件
An offset is applied to a focal position on a semiconductor device 28 by changing the diameter of an electron beam irradiated to the semiconductor device 28 by the operation of an objective lens 11, or regulating the height of the objective lens 11 or a test piece 14 in response to the unevenness generated in the case of processing the semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置を加工する際に生じた凹凸に応じて、対物レンズ11の作用により半導体装置28へ照射する電子線の径を変える、あるいは対物レンズ11や試料台14の高さを調整することで半導体装置28上の焦点位置にオフセットをかける。 - 特許庁
Beam acquisition parts 40a and 40b direct laser beams L3 to positions where ultrasonic waves of a longitudinal wave, a rolling-direction-displaced transverse wave and a width-direction-displaced transverse wave generated by ultrasonic wave generation parts 20a and 20b return to the surface of an object 2, and acquires reflected laser beams L3.例文帳に追加
ビーム取得部40a,40bは、超音波発生部20a,20bにより発生された縦波、圧延方向変位横波、幅方向変位横波の各超音波が対象物2表面に戻ってきた位置にレーザビームL3を導き、反射したレーザビームL3を取得する。 - 特許庁
Thereby, when a potential difference is imparted between first and second electrodes 23, 24, an electric field of which the electric flux line passing through the electro-optical member 22 is shown to be bent so as to protrude to the optical axis L side is generated, and a spread angle of the laser beam is varied by the action of the electric field.例文帳に追加
これにより、第1及び第2電極23,24間に電位差が与えられると、電気光学部材22を通過する電気力線が光軸L側に突出するように湾曲して示される電界が発生し、その電界の作用によりレーザ光の拡がり角度が可変される。 - 特許庁
After a probe pulse light generated from a probe pulse light generating part and synchronized with the terahertz pulse light is converted into a linear polarized light by a polarization plate 13, it is reflected by a beam splitter 12 and irradiates the two-dimensional region of the optoelectronic crystal 11 from the same side as the terahertz pulse light.例文帳に追加
プローブパルス光発生部から発生しテラヘルツパルス光と同期したプローブパルス光が、偏光板13を透過して直線偏光光となった後に、ビームスプリッタ12で反射されて、テラヘルツパルス光と同じ側から電気光学結晶11の前記2次元領域に照射される。 - 特許庁
The illumination and display device for the automobile has at least one auxiliary light source 18 positioned, deviating from the optical axis X-X' and a reflecting means to reflect the beam generated by the auxiliary light source 18 along the direction in around parallel with the optical axis X-X'.例文帳に追加
本発明による自動車用の照明及び表示装置は、光軸X−X’からずれて位置する少なくとも1つの副光源18と、副光源18により発生されたビームを、光軸X−X’とおおむね平行な方向に沿って反射する反射手段とを備えている。 - 特許庁
A laser processing apparatus 120 in which at least a work is processed with a laser beam 110 generated by a laser generator 100 is provided with a charged state control means for controlling a state that the workpiece 104 is charged at the time of processing.例文帳に追加
少なくともレーザ発生装置100により発生させたレーザ光110によって被加工物を加工するレーザ加工装置120であって、加工時に前記被加工物104の帯電状態を制御する帯電状態制御手段を具備しているものであるレーザ加工装置120。 - 特許庁
The positive electrode 26 is provided in a plasma generating vessel 2 electrically insulated from the same and has openings totally at least three positions of both sides of a direction X along a magnetic field 20 generated by a magnetic field generator 18 and an ion extraction opening 4 side (an ion beam extraction direction Z side).例文帳に追加
正電極26は、プラズマ生成容器2内にそれから電気的に絶縁して設けられていて、少なくとも磁界発生器18による磁界20に沿う方向Xの両側およびイオン引出し口4側(イオンビーム引出し方向Z側)の合計3箇所に開口部を有する。 - 特許庁
To provide the composite welding to obtain the penetration of welded material, in which even though it is simple, the effect of laser welding can be effectively demonstrated in composite welding of arc welding and laser welding so that the laser beam is not obstructed by plasma generated by arc discharge.例文帳に追加
アーク溶接とレーザ溶接とを複合したレーザとアークとの複合溶接方法において、簡便でありながら、レーザ光がアーク放電により発生したプラズマによる阻害を受けず、レーザ溶接の効果を有効に発揮でき、被溶接材の溶け込みを得ることが出来る複合溶接方法を実現する。 - 特許庁
To provide a method for generating X-rays or EUV radiation via laser plasma emission, in which at least one target (17) is generated in a chamber, and at least one pulsed laser beam (3) is focused on the target (17) in the chamber.例文帳に追加
レーザプラズマ放射によりX線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも1つのターゲット(17)をチャンバ内で発生させるとともに、少なくとも1つのパルスレーザビーム(3)をチャンバ内でターゲット(17)に集光させる方法を提供する。 - 特許庁
The charged particle beam exposure device in a division exposure transfer system has functions for correcting the three-dimensional distortion generated by the space charge lens by the distortion of at least a set of octupoles 14; and correcting low-order distortion generated from the octupoles 14 by a set of six poles 15, two stigmeters 9, 10, three focus lenses 11-13, and at least one deflector.例文帳に追加
分割露光転写方式の荷電粒子線露光装置であって、空間電荷レンズによって生じた3次幾何歪を1セット以上の8極子14の歪により補正し、且つ、前記8極子14から生じる低次の歪を1セットの6極子15、2個のスティグメータ9,10、3個のフォーカスレンズ11〜13、1個以上の偏向器により補正する機能を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁
By enabling the irradiation of different type ion beams generated by first and second ion sources 11, 12, a process irradiating a silicon wafer 10 with a polyatomic molecule ion beam for removing a surface oxide film and a process irradiating the silicon wafer 10 with an ion beam of the implanted ions for implanting ions are continuously carried out to the silicon wafer 10 attached to a platen in a chamber 18 without breaking a vacuum atmosphere during them.例文帳に追加
第1および第2のイオン源11・12で生成される、異なる種類のイオンビームの照射を可能とすることで、多原子分子のイオンビームをシリコンウェーハ10に照射して表面の酸化膜を除去する工程と、注入イオンのイオンビームをシリコンウェーハ10に照射してイオンを注入する工程とを、チャンバ18内のプラテンに装着されたシリコンウェーハ10に対し、その間の真空雰囲気を破ること無く連続して行う。 - 特許庁
To provide a long life X-ray tube having an X-ray shield member 110 which passes an electron beam through an electron passing hole 111 to a target 108, by reducing the deterioration caused by positive ions generated by electrons colliding against gas molecules, produced from the target 108 in the electron passing hole 111 by desorption phenomenon due to electron beam irradiation, and being accelerated to collide against a cathode 101.例文帳に追加
電子通過孔111を介して電子線をターゲット108へと通過させるX線遮蔽部材110を有するX線管について、電子線照射による脱離現象によりターゲット108から電子通過孔111内に生じるガス分子に電子が衝突することで生じる陽イオンがカソード101へと加速されて衝突することによるカソード101の劣化を軽減し、長寿命なX線管を提供できるようにする。 - 特許庁
The Raman spectrometry system provided with a detection means for irradiating a laser beam to a sample to be measured and measuring the intensity of Raman scattering light generated from the sample to be measured is provided with both a reflecting mirror provided with a light transmission opening for passing the laser beam for guiding Raman scattering light to the detection means and a scattering light condensing lens for condensing Raman scattering light to the detection means.例文帳に追加
測定試料にレーザ光を照射して、測定試料から発生するラマン散乱光の強度を測定するための検出手段を備えたラマン分光測定装置であって、レーザ光を通過させるための光通過口を備えるとともに、ラマン散乱光を検出手段に導く反射ミラーと、ラマン散乱光を検出手段に対して集束させるための散乱光集束レンズと、を備えたラマン分光測定装置を用いる。 - 特許庁
This manufacturing method for the magnetic head device has a process of forming the 2nd bent part 16 by bending the load beam 10 in a direction wherein load pressure is generated and a process of forming the 1st bent part 17 by bending the load beam 10 back reversely to the direction wherein the load pressure is generated.例文帳に追加
記録媒体4の上に延びるロードビーム10と、その先端部13に取付けられるヘッド本体3とを有し、基端部11側にロードビーム10を揺動自在に固定する板ばね機能部15が設けられ、板ばね機能部15に、ヘッド本体3が作動可能なロード状態において、揺動方向に対して互いに逆向きに屈曲する屈曲部16,17を具備する磁気ヘッド装置の製造方法であって、ロードビーム10をロード圧を生じる方向に屈曲して第2の屈曲部16を形成する工程と、ロードビーム10をロード圧を生じる方向と逆側に曲げ戻して第1の屈曲部17を形成する工程と、を有する - 特許庁
The inspection position P on the surface of a semiconductor wafer 1 to be inspected is irradiated with pulse beam from a pulse laser 2 and scattered light generated by scattering when the inspection position P is an abnormal place due to refuse or a flaw is detected by a photodetector 3 using detection gate function.例文帳に追加
パルスレーザ2からのパルス光を照射光として検査対象である半導体ウエハ1の表面上の検査位置Pに照射し、検査位置Pがゴミまたはキズによる異常箇所であった場合に散乱によって生じる散乱光を検出ゲート機能を有する光検出器3によって検出する。 - 特許庁
In this method, the steel band (silicon steel decarbonized annealed board) 1, having an internal oxidized layer (subscale layer) 2, is irradiated with a primary X-ray 4, intensity of a Compton scattering beam 5 generated from the steel band 1 is measured, and from the measured strength, the oxygen Metsuke amount is measured non-destructively.例文帳に追加
この発明の方法は、内部酸化層(サブスケール層)2を有する鋼帯(珪素鋼脱炭焼鈍板)1に一次X線4を照射し、該鋼帯1から発生するコンプトン散乱線5の強度を測定し、この測定した強度から鋼帯1の酸素目付量を非破壊で測定することを特徴とする。 - 特許庁
A Fermi chopper 1 for monochromating neutron beam generated at a pulsed neutron source includes: a three-phase signal generating unit 4 that generates a three-phase sinusoidal signal from a digital phase signal for supplying respective phase coils of an induction motor 12 therewith; a three-phase power amplifier 6; and a motor control unit 5.例文帳に追加
パルス中性子源で発生する中性子ビームを単色化するフェルミチョッパー1は、ディジタルによる位相信号から誘導モータ12の各相のコイルに供給するための三相正弦波信号を生成する三相信号発生部4と、三相電力増幅器6と、モータ制御部5とを備える。 - 特許庁
The electron beam detector comprises a means (103) of transforming the electron beams (101) passed through aperture marks (102) into light (105) and a plurality of light detecting elements (107) corresponding to them, and by scanning the electron beams on the marks, separates (106) the generated light (105), and carries out simultaneous measurement of the profile of a plurality of electron beams.例文帳に追加
複数の開口マーク(102)を通過した電子ビーム(101)を光(105)に変換する手段(103)と、それらに対応した複数の光検出素子(107)とを有し、マーク上に電子ビームを走査して発生した光(105)を分離し(106)、複数電子ビームのプロファイルの同時計測を行う。 - 特許庁
At least one of various optical sensors provided in an aligner, for example, a beam monitor in a light source 16, integrator sensor 46, a reflected light monitor 47, an illuminometer 59 on a state 58 and so forth is constituted by an optical sensor for detecting photoluminescent light generated in a photosensitive unit by a light receiving layer composed of a GaN crystal.例文帳に追加
露光装置に設けられる種々の光センサ、例えば光源16内のビームモニタ、インテグレータセンサ46、反射光モニタ47、ステージ58上の照度計59等の少なくとも1つを、光感応部で発生するフォトルミネセンス光をGaN系結晶から成る受光層で検出する光センサによって構成した。 - 特許庁
In the programmable timer circuit (for optical switch control) 15-2-5, an optical switch signal is generated on the basis of the inputted Q-switch frequency signal and conveyed to an optical switch driver part 14 at a set time (a passage time of a laser beam in an optical switch unit 12) set on a decorder part 15-2-4.例文帳に追加
このプログラマブルタイマ回路(光スイッチ制御用)15−2−5において、入力されたQスイッチ周波数信号にもとづき、光スイッチ信号が生成され、デコーダ部15−2−1で設定された設定時間(光スイッチユニット12におけるレーザ光の通過時間)に、光スイッチドライバ部14へ送られる。 - 特許庁
In this method for observing the internal structure of the present invention, a sample is irradiated with a primary corpuscular beam generated from a particle source to detect transmitted particles transmitted through the sample, and a voltage is impressed partially to the sample to observe from time to time a detection condition of the transmitted particle in an impressed portion.例文帳に追加
本発明は、粒子源から発生する一次粒子線を試料に照射し、前記試料を透過した透過粒子を検出すると共に、前記試料に部分的に電圧を印加し、該印加した部分の前記透過粒子の検出状態を随時観察することを特徴とする内部構造観察方法にある。 - 特許庁
The laser machining device includes: the machining head 7 for irradiating a laser beam 1 to a workpiece 11; a machining stage 10 for relatively moving the workpiece 11 with respect to the machining head 7; a plurality of optical sensors 5, 6 for detecting radiated light 4 that is generated from the workpiece 11 when performing laser machining; and so on.例文帳に追加
レーザ加工装置は、レーザ光1を被加工材11に向けて照射するための加工ヘッド4と、被加工材11を加工ヘッド4に対して相対移動させるための加工ステージ10と、レーザ加工時に、被加工材11より発生する放射光4を検出するための複数の光センサ5,6などを備える。 - 特許庁
When the error is generated and the laser beam output of the light emitting means 2 is stopped, this state is detected by a means 4 for detecting the stop of output and notified to a data transfer means 3, then the positional information on the data being transferred at the notified time point is stored in a positional information storage means 5 by the data transfer means 3.例文帳に追加
エラーが発生して発光手段2のレーザ光出力が停止されると、出力停止検出手段4はこれを検出してデータ転送手段3に通知し、データ転送手段3は通知された時点で転送していたデータの位置情報を、位置情報記憶手段5に記憶させる。 - 特許庁
Near visual field beams 5 being generated by applying a laser beam 8 to a small opening 2 of a flat probe 1 are allowed to interact with a data mark 4 being formed on a light transmission layer on an information storage medium 3 in double-layer structure of a light transmission layer 11 and a light reflection layer 12, thus generating propagation light 14.例文帳に追加
光透過層11と光反射層12の2層構造の情報記録媒体3上の光透過層に形成されたデータマーク4に、平面プローブ1の微小開口2にレーザ光8を照射することにより生成した近視野光5を相互作用させ、伝播光14を生成する。 - 特許庁
Thereafter, when an operation key switch on an operation panel is switched, electrons are generated from an electron source 1, and the electrons are accelerated by an accelerator 2, scanned in a prescribed range by the scanner 4, and irradiated only to the tips of the beam masks 7 and the irradiation range L of the irradiation object 8 through a window foil 6 provided on the tip part of a scanning tube 5.例文帳に追加
この後、操作盤の運転キースイッチを入れると、電子源1から電子が発生され、この電子は加速器2で加速された後、走査器4によって所定範囲で走査され、走査管5の先端部に設けた窓箔6を通して、ビームマスク7の先端と被照射物8の照射範囲Lのみに照射される。 - 特許庁
The chemically amplified negative resist material comprises at least a crosslinking agent represented by formula (1), a photoacid generator which generates an acid upon irradiation with a high energy beam and an alkali-soluble resin which takes part in a crosslinking reaction with the acid generated by the photoacid generator to lower solubility in an alkali developer.例文帳に追加
少なくとも、下記一般式(1)で示される架橋剤、高エネルギー線照射により酸を発生する光酸発生剤、光酸発生剤より発生する酸によって架橋反応し、アルカリ現像液に対する溶解性が減少するアルカリ可溶性樹脂を含むことを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト材料。 - 特許庁
An photoelectrons are generated on a negative pole by the photoelectronic for short time as a short time width of pulse laser beam is in irradiated to one electrode between electrodes applied with high voltage within a vacuum container, and they are collided against a positive pole to generate short pulse x-ray.例文帳に追加
真空容器内の高電圧が印加される電極間の一方の電極に時間幅の短いパルスレーザー光を照射して光電効果による光電子を陰極上に短時間に発生させ、これを陽極に衝突させて短パルスのX線を発生させることを可能とするパルスX線発生装置。 - 特許庁
For the laser-driven light source equipped with a tube sealing the discharge medium for generating plasma in the tube with the laser beams converged into the tube, a beam-shielding member is provided in the tube for shielding laser beams transmitting the plasma generated in the tube.例文帳に追加
放電媒体を封入した管球を備え、前記管球内に集光させたレーザー光線によって前記管球内にプラズマを生成するレーザー駆動光源において、前記管球内には、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線を遮蔽する光線遮蔽部材が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁
To reduce cyclic display unevenness of a display image which is formed by using a mask having drawing unevenness due to the scanning direction of electron beam drawing and also generated because of the presence of a shading film prescribing an opening area of each pixel as to an electro- optical device such as a liquid crystal device.例文帳に追加
液晶装置等の電気光学装置において、電子ビーム描画における走査方向によって生じる描画むらを有するマスクを用いて形成されると共に各画素の開口領域を規定する遮光膜の存在に起因して生じる表示画像における周期的な表示むらを低減する。 - 特許庁
The analysis method of the trace constituent in the polymer material includes a step of heating and ashing the polymer material in the presence of oxygen; and a step of irradiating an electron beam to the ashed sample, and performing elemental analysis by a generated characteristic X-ray.例文帳に追加
高分子材料中の微量成分の分析法であって、前記高分子材料を酸素存在下、加熱して灰化する工程、及び前記灰化後の試料に電子線を照射し、発生する特性X線による元素分析をする工程、を有することを特徴とする高分子材料中の微量成分の分析法。 - 特許庁
Temperature sensing ferrites 11a-11d which decrease in magnetizing strength with temperature rise, to be zero at a Curie temperature or higher, is provide on the outer periphery of an enclosure 1 so that the electron beam 7 from an electron gun 6 is deflected outward by a magnetic field generated by the temperature sensing ferrites 11a-11d.例文帳に追加
温度上昇に伴って磁化の強さが低下しキュリー温度以上で磁化の強さが0になる感温フェライト11a〜11dを、該感温フェライト11a〜11dが発生させる磁界によって電子銃6からの電子ビーム7を外向き偏向させるように、外囲器1の外周部に備えた。 - 特許庁
A received signal intensity change (signal intensity profile) in the azimuth direction generated in accompany with a change of the beam azimuth over the prescribed scanning angle range is acquired, and the azimuth of the target generating the signal intensity profile is estimated from the signal intensity profile forming a part of an angular shape appearing near the outermost angle in the scanning angle range.例文帳に追加
所定走査角範囲に亘るビーム方位の変化に伴って生じる、方位方向の受信信号強度変化(信号強度プロファイル)を求め、走査角範囲の最外角付近に現れる山形の一部をなす信号強度プロファイルからその信号強度プロファイルを生じさせた物標の方位を推定する。 - 特許庁
Since the laser beam is polarized answering to the applied magnetic field, the read data binarizing a read signal according to the test data obtained by the polarization are phase compared with the data clock that the switch timing of the magnetic field generated from the magnetic head 23 is decided, and a phase difference between them is detected.例文帳に追加
その印加した磁界に対応してレーザー光が偏光されるので、その偏光により得られる前記テストデータに応じた読み取り信号を2値化した読み取りデータと磁気ヘッド23から発生する磁界の切換タイミングが決定されるデータクロックとを位相比較してそれらの位相差を検出する。 - 特許庁
The silicon oxide thin film is formed in the presence of oxygen at ≤300°C by spraying a material gas obtained by vaporizing hexamethyldisilane onto a substrate placed inside a film-forming chamber while simultaneously applying an ion beam such as argon generated by an ion source onto the substrate at ≤300 eV .例文帳に追加
材料ガスとしてヘキサメチルジシランを気化せしめて得たガスを用い、該ガスを成膜チャンバー内の基板上に吹き付け、一方、イオン源によりアルゴン等のイオンビームを発生させ、該イオンビームを該材料ガスの吹き付けと同時に基板上に300eV以下で照射し、酸素の存在下、300℃以下で、酸化ケイ素薄膜を形成する。 - 特許庁
A heat-sensitive part 90 (in the case of an infrared sensor) for detecting an infrared ray and an infrared absorption film 91 are formed on the membrane part 51, and a signal generated by the detected infrared ray is guided from the heat-sensitive part 90 to the outside through the membrane part 51 and the beam parts 53, 55 by wires 92, 93.例文帳に追加
メンブレン部51上には赤外線を検出するための感熱部90(赤外線センサーの場合)と赤外線吸収膜91が形成され、検出した赤外線によって発生される信号を、配線92、93が感熱部90からメンブレン部51、梁部53、55を通って外部へと導いている。 - 特許庁
To substantially enhance a cutting performance by a synergetic effect of deep cutting of 2 m or more by means of a high-output collimated (parallel) laser beam of laser diameter 2 mm and length 2 m or more and of pulverizing and scattering-removing of molten matter (dross) generated at the cutting by collision force of high-pressure, large flow-rate compressed air.例文帳に追加
レーザー径2ミリメートル長さ2メートル以上の高出力コリメート(平行)レーザービームによる2メートル以上の深い切断と切断時に生起する溶融物(ドロス)を高圧大流量の圧縮空気の衝突力により粉砕、飛散除去による相乗効果により、切断能率を大幅に向上させる。 - 特許庁
An ion beam irradiation apparatus 10 can be regarded as a structure made by combining an ion/electron generator 20 of a laser-actuated type with an ion transporter 30, and guides ion beams of low directivity generated by the ion/electron generator 20 to the end by enhancing the directivity of them or focusing them in the ion transporter 30.例文帳に追加
このイオンビーム照射装置10は、レーザー駆動型のイオン・電子発生装置20と、イオン輸送装置30とを組み合わせた構成と考えることができ、イオン・電子発生装置20から発した指向性の低いイオンビームを、イオン輸送装置30において指向性を高め、あるいは集束して末端まで導く。 - 特許庁
This observation system is constituted of an inspected lens 4 for inspection, an illumination system 6 for emitting parallel light, a beam splitter 5, a spherical mirror 3 of a reflecting sample for the inspected lens 4, and a point image magnification observation system 7 for magnification-observing a point image generated by light reflected on the spherical mirror 3 and transmitted through the inspected lens 4.例文帳に追加
検査する被検レンズ4と、平行光を射出する照明系6と、ビームスプリッタ5と、被検レンズ4の反射用標本である球面ミラー3と、この球面ミラー3で反射し、被検レンズ4を通した光による点像を拡大観察する点像拡大観察系7とで構成している。 - 特許庁
A light source light flux is focused on a desired position on the target object surface, and an intensity change of reflected light and a change of a beam direction distribution of a reflected light flux which are generated when bringing the object tip close to the focused point are detected, and the object is brought close to the target object surface with high resolution and positioned.例文帳に追加
対象物体面上の所望の位置に光源光束を合焦させて、その合焦点に目的物体先端を近づけたときに生じる反射光の強度変化と反射光束の光線方向分布の変化を検出し、目的物体を対象物体面に関して高い分解能で接近させ位置決めする。 - 特許庁
To provide a polarizing conversion device and a polarizing illumination device in which a light intensity distribution in an illumination region is more uniform than that of the incident beams and only one type of a polarized beam having aligned polarization direction is highly efficiently generated and a display apparatus, and to provide a projection display apparatus using these devices.例文帳に追加
照明領域における光強度分布が入射光束のそれよりも均一であり、同時に、偏光方向が揃った一種類の偏光光束のみを高い効率で発生できる偏光変換装置並びに偏光照明装置、それを用いた表示装置や投写型表示装置を提供する。 - 特許庁
To observe an image having an optimum contrast to suit an objectives by detecting and separating secondary signal particles generated from the surface of a test piece, dark field transmission signal particles transmitted scattered in the test piece, and bright field transmission signal particles transmitted not being scattered in the test piece, in a charged particle beam device.例文帳に追加
荷電粒子線装置において、試料表面から発生した二次信号粒子と、試料内で散乱して透過した暗視野透過信号粒子と、試料内を散乱しないで透過した明視野透過信号粒子を分離して検出し、目的に応じた最適なコントラストの像を観察する。 - 特許庁
Laser beams B1 and B2 generated with a multibeam semiconductor laser 2 which is a light source are made into substantially parallel luminous fluxes with a collimator lens 3, and the respective fluxes are shaped into a laser beam having an accurate dimension of cross section with an aperture 18 provided between the collimator lens 3 and a triangle prism 19 which is a deflection optical element.例文帳に追加
光源であるマルチビーム半導体レーザ2から発生したレーザビームB1、B2は、コリメータレンズ3により略平行光束とされ、各々、コリメータレンズ3と偏向光学素子である三角プリズム19の間に設けられたアパーチャ18により断面の寸法精度が高いレーザビームに整形される。 - 特許庁
Signal light inputted from a light input part 19 is entered into a non-linear medium 3 in a phase conjugated wave generation means 15 successively through a light input waveguide 2, a beam splitter 22 and a light input/ output waveguide 18 and the medium 3 is excited by light generated from a pump LD 4 to generate a phase conjugated wave.例文帳に追加
光入力部19から入力される信号光を、光入力導波路2、ビームスプリッタ22、光入出力導波路18を順に通して位相共役波発生手段15の非線形媒質3に入射し、非線形媒質3をポンプLD4からの励起光で励起して位相共役波を発生させる。 - 特許庁
To provide a measuring method, a photolithography method, a manufacturing method for base material, and an electron beam lithography system which can grasp the influence of a shape after resist development and eliminate the limit of writing precision while accurately grasping an error generated at a border part between writing fields and an error in writing position.例文帳に追加
本発明は、各描画フィールドの境界部分に生じる誤差や描画位置の誤差を正確に測定しながらも、レジスト現像後の形状の影響を把握して描画精度の限界を解消することの可能な測定方法、描画方法、基材の製造方法、および電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
The electron beam generator has a light guide (41), a light source (42) connected to one end of the light guide, a film (43) connected to the other end of the light guide for generating electrons and a field generator for lowering the electron work function of the film to make the light discharge current generated.例文帳に追加
電子線発生装置は、光導波路(41)と、光導波路の一端に接続された光源(42)と、光導波路の他端に装着され電子を発生するための皮膜(43)と、光放出電流が発生することができるように皮膜の電子仕事関数を低下するための場発生装置と、を有する。 - 特許庁
To provide a polarization conversion device and a polarization illuminator in which light intensity distribution in an illumination region is more uniform than that of the incident beams and only one kind of a polarized beam aligned in the polarization direction is highly efficiently generated, and to provide a display apparatus and a projection type display apparatus using these devices.例文帳に追加
照明領域における光強度分布が入射光束のそれよりも均一であり、同時に、偏光方向が揃った一種類の偏光光束のみを高い効率で発生できる偏光変換装置並びに偏光照明装置、それを用いた表示装置や投写型表示装置を提供する。 - 特許庁
This hydrogen production apparatus is constituted of a radiation generation apparatus 11 for generating neutron beam, gamma ray, etc., a water tank 12 which is arranged in the vicinity of or around the radiation generation apparatus and contains water and a hydrogen extraction apparatus 15 which extracts hydrogen generated by receiving of radiation by water.例文帳に追加
水素製造装置は、中性子線やガンマ線等の放射線を発生する放射線発生装置(11)と、この放射線発生装置の近傍または周囲に配置され水を内蔵する水容器(12)と、前記水が前記放射線を受けて発生する水素を抽出する水素抽出装置15とを備えた構成とする。 - 特許庁
As to a method for forming a transparent electrically conductive film, a plasma beam generated from a discharge plasma generating means composing a cathode is introduced into an anode, by which an evaporating material stored in the anode is evaporated and ionized, and the ionized vapor depositing material particles are deposited on the surface of a substrate to form a transparent electrically conductive film on the surface.例文帳に追加
陰極を構成する放電プラズマ発生手段から発生されたプラズマビームを陽極に導くことにより、該陽極に収容された蒸発材料を蒸発、イオン化し、該イオン化した蒸着材料粒子を基板の表面に付着させ、該表面に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus for a fluorescent face of a color cathode ray tube which can reduce the dispersion of the intensity of radiation when the dispersion of the intensity of radiation is generated in a light beam irradiated through a slit of slit plate, as the relative position relationship of a high-pressure mercury lamp and the slit plate is maintained in non-parallel state.例文帳に追加
高圧水銀灯とスリット板との相対的な位置関係が、非平行状態に保持されると、スリット板のスリットを介して放射される光線に光量分布のばらつきが生じるが、この光量分布のばらつきを減少させたカラー受像管の蛍光面露光装置を提供する。 - 特許庁
In the soft X-ray generator, comprising an electron gun 1, a target 2, a rotation device 3 and a target vessel 4, a target 2, is formed with a metal-nonmetal compound constituted of titanium, calcium, and oxygen or nitrogen and electron beam of 4 keV to 8 keV is generated from the electron gun 1 to have the target and generate a soft X-ray irradiated.例文帳に追加
電子銃1、ターゲット2、回転装置3、ターゲット容器4からなる軟X線発生装置において、チタンもしくはカルシウムと酸素もしくは窒素とからなる金属−非金属化合物でターゲット2を形成し、電子銃1から4KeV−8KeVの電子ビームを発生してターゲットに照射し軟X線を発生させる。 - 特許庁
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