「generated beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a reflection mirror driving mechanism improved in a conventional mechanism that scans a laser beam by deciding the angle of the reflection mirror by controlling the direction and the magnitude of magnetic force generated by a coil magnet and driving force larger than the repulsive force of a hinge is necessary for certainly rotary-rocking the reflection mirror, thus electric power consumption is large.例文帳に追加

従来の反射ミラー駆動機構は、コイル磁石から発生される磁力の向き及び大きさを制御して反射ミラーの角度を決定してレーザ光線を走査させるので、より確実に反射ミラーを回転揺動させるためにヒンジの反発力よりも大きな駆動力が必要となり、消費電力が大きくなっている。 - 特許庁

Further, a reproduced signal SRFb indicating sum light quantity of return light beams in which the light beam Lb for BD is reflected is generated by the unknown disk 100x, then, a BD recording plane as a first signal recording plane in which the unknown disk 100x corresponds to the BD medium 100b is detected based on the reproduced signal SRFb.例文帳に追加

さらに本発明は、未知ディスク１００ｘによってＢＤ用光ビームＬｂが反射されてなる戻り光ビームの和光量を表す再生信号ＳＲＦｂを生成し、当該再生信号ＳＲＦｂに基づいて未知ディスク１００ｘがＢＤメディア１００ｂに対応する第１の信号記録面としてのＢＤ記録面を検出する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a master disk which causes no deviation between a start point and an end point of each concentric track created by an electron beam irradiation trace and causes no variation in intervals between the concentric tracks even when ideal movement of a stage cannot be performed by variation in speed of stage movement, vibration and the like generated inside and outside the apparatus for manufacturing the master disk.例文帳に追加

ステージ移動において速度変動やディスク原盤製造装置内外で発生する振動等でステージが理想的な移動が出来ない場合でも、電子ビーム照射軌跡で作られる同心円トラックの開始点と終点にはズレがなく、且つ同心円トラック間隔に変動がないディスク原盤製造装置を提供する。 - 特許庁

When an operator prepares a calculation formula 35 capable of calculating the coordinate data necessary for marking the marks in a non-grid type matrix pattern by scanning laser beam, and inputs and sets it on a marking information setting screen G, the coordinate data of the desired pattern can be generated based on the result of calculation of the calculation formula 35.例文帳に追加

レーザ光を走査して非マス目状行列パターンにマークをマーキングする場合に必要となる座標データを算出可能とする計算式３５を操作者が作成してマーキング情報設定画面Ｇに入力設定すると、その計算式３５の算出結果に基づき所望するパターンの座標データを生成することができる。 - 特許庁

In this case, by utilizing plasma generated with a pressure gradient type plasma gun 1 separate from the electron beam generator 2 as an evaporation source of the organic material or inorganic material, the vaporized organic material or inorganic material is activated, and an organic thin film layer or an inorganic thin film layer is formed on a transparent base material film 13.例文帳に追加

ここで、前記有機材料または前記無機材料の蒸発源である前記電子ビーム発生器２とは別の圧力勾配型プラズマガン１によって発生されるプラズマを利用して、前記気化した有機材料または無機材料を活性化させて、透明基材フィルム１３上に有機薄膜層または無機薄膜層を形成する。 - 特許庁

A metal sample 3, arranged inside an irradiated cell 1 introduced with oxygen gas or inert gas in an alternative way, is irradiated with a laser beam 11, and gas G generated at that time is introduced into a mass spectrometer 29 to determine quantitatively at least one from among carbon, sulfur, nitrogen and hydrogen contained in the metal sample 3.例文帳に追加

酸素ガスまたは不活性ガスが択一的に導入される照射セル１内に配置された金属試料３にレーザ光１１を照射し、そのとき発生するガスＧを質量分析計２９に導入して、金属試料３中に含まれる炭素、硫黄、窒素および水素の少なくともいずれか一つを定量分析するようにしている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stencile mask for ion implantation, having excellent heat resistance, durability and ion implantation accuracy by reducing a critical defect of a stencile mask for ion implantation such as deformation of a membrane due to heat generated from an ion beam in an ion implantation process using the stensile mask for ion implantation to be executed in manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイス作製において行われる、イオン注入用ステンシルマスクを用いたイオン注入工程において、イオンビーム発熱に起因したメンブレンのたわみという、イオン注入用ステンシルマスクの致命的欠陥を低減し、優れた耐熱性や耐久性およびイオン注入精度を有するイオン注入用ステンシルマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Whereas, in order to form a suitable transmission beam for an outgoing channel in which traffic state of the outgoing channel is reflected, the correlation matrix and the response vector are corrected, on the basis of information rates of the incoming and outgoing channels, and a transmission weight is generated from a correction correlation matrix and a correction response vector corrected by the information rates.例文帳に追加

一方、下り回線のトラヒック状況が反映された好適な下り回線送信ビームを形成するために、前記相関行列および応答ベクトルを上り回線および下り回線の情報レートに基づいて補正し、情報レートにより補正された補正相関行列および補正応答ベクトルより送信ウェイトを生成する。 - 特許庁

The device is provided with: a driving section 110 which rotates a photoresist master disk 200; a head section 120 which includes an objective lens 123 and irradiates the photoresist master disk 200 with a laser beam; and a wind barrier 103 which prevents the vibration of the head section 120 by shielding the side wind W and turbulence W' generated by rotation of the photoresist master disk 200.例文帳に追加

フォトレジスト原盤２００を回転させる駆動部１１０と、対物レンズ１２３を含み、フォトレジスト原盤２００にレーザビームを照射するヘッド部１２０と、フォトレジスト原盤２００の回転によって生じる横風Ｗ及び乱流Ｗ’を遮断することによりヘッド部１２０の振動を防止する防風壁１０３とを備える。 - 特許庁

To provide an apparatus and method of inspecting a quartz glass crucible for silicon single crystal pulling which detect only impurity component contained in an outermost surface layer of a surface of the crucible by irradiating a laser beam, specifying the impurity component from wavelength and intensity of fluorescence generated by the irradiation and calculating a content of the impurity component.例文帳に追加

レーザ光を照射し、照射によって生じる蛍光の波長と強度から不純物成分を特定し、かつ不純物成分の含有量を算出することによって、ルツボ内表面の極表層に含まれる不純物成分のみを検出するシリコン単結晶引上用石英ガラスルツボの検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel self-assembled monolayer capable of reducing stress generated on a solid surface by impact of corpuscular beam in an ion projection direct structuring (IPDS) method or the like, a self-assembled monolayer constitution body, a stencil mask realizing fine processing of a magnetic body at a high speed and high accuracy and a fine processing method using this stencil mask.例文帳に追加

直接描画型マイクロイオンプロジェクションパターニング法等において、粒子線衝撃により固体表面に発生する応力を低減することができる新しい自己組織単分子膜と、自己組織単分子膜構成体、および、より高速で、高精度な磁性体の微細加工を可能とするステンシルマスクと、このステンシルマスクを用いた微細加工方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a plasma generation method can be applied to an extreme ultraviolet light source device for generating extreme ultraviolet light (EUV) while the laser beam is irradiated to an extreme ultraviolet light emissive species arranged outside a discharge zone and the generated plasma is supplied to the discharge zone, and the plasma can be supplied to the discharge zone while it maintains the high density.例文帳に追加

また、本発明を、放電領域外に配置された極端紫外光放射種にレーザビームを照射し、発生したプラズマを放電領域に供給して、極端紫外光（ＥＵＶ）を発生させるＥＵＶ光源装置にも適用でき、プラズマを高い密度を維持した状態で放電領域に供給することができる。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus for separating a conduit from vacuum without losing the flexibility of the conduit, since the conduit for supplying a utility to an apparatus component in a vacuum chamber has a problem to discharge vacuum contaminated gas although the need for keeping a projection beam path at high vacuum is generated due to the short wavelength of radiation used for the lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置に使う放射線の短波長化に伴い、投影ビーム経路を高真空に保つ必要が生じたが、真空室内の装置構成要素にユーティリティを供給する導管に真空汚染ガスを放出する難点があるので、この導管の柔軟性を損うことなく、導管を真空から隔離したリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a scintillator composition, which has excellent light beam output, relatively short decay time, and good energy resolution, can be easily converted into a single crystal substance or another transparent solid, can be generated efficiently with adequate cost in an acceptable crystalline dimension, and can be used in combination with various high-energy radiation detectors.例文帳に追加

優れた光出力、相対的に早い減衰時間、良好なエネルギ分解能特性を有し、単結晶物質又は他の透明な固体中実体に容易に転化可能であり、効率的に、妥当な経費で、且つ許容可能な結晶寸法として生成されることが可能であり、多様な高エネルギ放射線検出器と両立するシンチレータ組成物を提供する。 - 特許庁

In a step of generating a halfway machining hole down to the middle of an insulating layer by radiating laser bean at a position where a through-hole is generated from one surface of both-sided substrate, trepanning which shifts radiation position of laser beam for machining is executed to generate a through reference hole on the one surface, thereby improving quality of a completed through reference hole.例文帳に追加

両面基板の一方の面から貫通穴を作成する位置にレーザ光を照射して絶縁層の途中までの途中加工穴を作成する段階で、同じ一方の面にレーザ光の照射位置をずらしながら加工を行うトレパニング加工により貫通基準穴を作成することにより、貫通基準穴の完成度を向上することができる。 - 特許庁

A transmitter side generates a laser beam oscillated at the same time with a plurality of wavelengths where the total number of generated photons is constant and transmits a signal light resulting from same data superimposed on a light with a plurality of the wavelengths and a receiver side selects the light with a plurality of the wavelengths oscillated at the same time from the signal light and demodulates the data.例文帳に追加

送信側において、発生する光子の総数が一定であって複数の波長で同時に発振するレーザ光を発生させ、前記複数の波長の光に同一のデータを重畳させた信号光を送信し、受信側において、前記信号光から同時に発振する前記複数の波長の光を選択して前記データを復調する。 - 特許庁

The photodetection device calculates an elevation angle with respect to the surveying device based on a photodetection signal generated by receiving the laser beam, also calculates an elevation position based on the elevation angle and the distance to the surveying device, and performs communication of distance measurement data and elevation position data at least with the main arithmetic device among the main arithmetic device and other photodetection devices.例文帳に追加

前記受光装置は、レーザ光線を受光した受光信号に基づき前記測量装置に対する仰角を演算し、該仰角と前記測量装置間の距離に基づき高低位置を演算し、前記主演算装置、他の受光装置の内、少なくとも前記主演算装置との間で測距データ、高低位置データを通信する。 - 特許庁

In the molecule beam source for depositing an organic thin film, a valve 33 is disposed in a space reaching a molecule-emitting hole 14 to emit molecules of a film deposition material generated from a molecule heating unit 12 side toward a film deposition surface, and heaters 18, 19 to heat the molecules to be emitted out of the film deposition material are provided on the molecule-emitting hole 14 side.例文帳に追加

有機物薄膜堆積用分子線源は、分子加熱部１２側から、発生した成膜材料の分子を成膜面へ向けて放出する分子放出口１４に至るまでの間にバルブ３３を配置し、さらに分子放出口１４側に、放出する成膜材料の分子を加熱するヒータ１８、１９を設けたものである。 - 特許庁

A sample 10 is moved, while irradiating the sample surface 10a of the sample 10 with an electron beam 9, and characteristic X-rays 13 generated from the sample 10 by movement of the sample 10 are converged by a spectral crystal 14, and the convergence position is detected by an X-ray detector 15, to thereby measure the sample surface 10a.例文帳に追加

試料１０の試料表面１０ａに電子ビーム９を照射しながら試料１０を移動させ、試料１０の移動において試料１０から発生する特性Ｘ線１３を分光結晶１４により集光させて、その集光位置をＸ線検出器１５によって検出することにより試料表面１０ａの測定を行う。 - 特許庁

This sample fixing table is equipped for this charged particle beam device; markings are formed on the sample fixing table; and, when an image of the sample fixing table imaged by an external imaging device is displaced from a normal position, a change of a shape (visibility in the image) according to the displacement is generated in the image of the markings.例文帳に追加

本発明による試料固定台は、荷電粒子線装置に備え付けられる試料固定台であって、試料固定台上にマーキングが設けられ、外部イメージング装置によって撮像された試料固定台の画像が正常位置から位置ずれしている場合に、マーキングの画像に位置ずれに応じた形状（画像における見え方に）変化が生じる。 - 特許庁

The growth of a plant is diagnosed by irradiating the leaf of the plant with a laser beam, measuring the intensity of the generated fluorescence, making a graph of the variation of the fluorescent intensity with time, integrating the fluorescent intensity on the graph and comparing the result with preparatorily determined standard values comprising the normal activation value (NV) and the limit growth value (LB).例文帳に追加

植物の葉にレーザ光線を照射し、発生する蛍光の強度を測定して、時間に対する蛍光強度の変化をグラフ化し、得られたグラフの蛍光強度の積分値を求め、予め求めておいた正常活性値（ＮＶ）と生育限界値（ＬＢ）とである基準値との比較により上記植物の生育を診断する。 - 特許庁

The scanning type laser microscope 1 includes scanning means 21, 21' which two-dimensionally scan a laser beam from a laser light source 2, and a light-shielding member 4 covering the scanning means 21, 21', and further, has heat radiating means 25, 25' radiating the heat generated by the scanning means 21, 21' into a space outside the light-shielding member.例文帳に追加

レーザ光源２からのレーザ光を二次元に走査する走査手段２１、２１’と、前記走査手段２１、２１’を覆う遮光部材４とを有する走査型レーザ顕微鏡１であって、前記走査手段２１、２１’が発生する熱を前記遮光部材の外側の空間に放熱する放熱手段２５、２５’を有する走査型レーザ顕微鏡１。 - 特許庁

A magnetic field generated by the beam current 4 passes a gap 17 of a superconducting magnetic shield 2 without being attenuated, and is collected by a detection coil 1 formed by winding a superconducting wire on a core, transmitted from a transformer input coil 11 to a transformer output coil 10 and a SQUID input coil 9, and induces a magnetic flux in SQUID 8.例文帳に追加

ビーム電流４により生じた磁場は超伝導磁気遮蔽２のギャップ１７を減衰することなく通過し、磁心に超伝導線を巻いた検知コイル１で収集され、トランス入力コイル１１からトランス出力コイル１０、さらにＳＱＵＩＤ入力コイル９に伝達されてＳＱＵＩＤ８に磁束を誘起しようとする。 - 特許庁

A pattern correcting device 1 is provided, which irradiates a foreign matter defect 22 generated in a pixel 19 formed on a glass substrate 23 with a laser beam α to open a rectangular hole 19a in the pixel 19, presses a cylindrical adhesive material 30 to remove a residue 25 around the hole 19a, and applies a correction ink 33 on the hole 19a.例文帳に追加

このパターン修正装置１では、ガラス基板２３上に形成された画素１９に発生した異物欠陥２２にレーザ光αを照射して画素１９に矩形状の孔１９ａを開け、円柱状の粘着材３０を押圧して孔１９ａの周辺に付着した残渣２５を除去し、孔１９ａに修正インク３３を塗布する。 - 特許庁

The optical scanner 6 is composed of a polygon mirror 62 for deviating and scanning an optical beam generated by a light source, optical elements including fθ lenses 63, 64, and an optical housing 50 partitioned off with a base plate into two upper and lower chambers, with the polygon mirror 62 arranged in the upper chamber, and with the fθ lenses 63, 64 arranged in the lower chamber.例文帳に追加

光走査装置６は、光源から発生された光ビームを偏向走査するポリゴンミラー６２と、ｆθレンズ６３，６４を含む光学素子を収容するとともに、基盤で仕切られた２つの上室と下室が形成され、上室にポリゴンミラー６２が配置され、下室にｆθレンズ６３，６４が配置されてなる光学ハウジング５０とからなる。 - 特許庁

On a sample holder 20 for an electron microscope, the electron beam that transmits through a sample S supported by a grid 28 and passes through an aperture member 31 with a main body portion 21 attached to a sample stand of a scanning electron microscope is irradiated on a secondary electron generating surface 32, resulting in a secondary electron being generated from the secondary electron generating surface 32.例文帳に追加

電子顕微鏡用試料ホルダ２０においては、走査型電子顕微鏡の試料台に本体部２１が取り付けられた状態で、グリッド２８によって支持された試料Ｓを透過し且つ絞り部材３１を通過した電子線が２次電子発生面３２に照射され、それにより、２次電子発生面３２から２次電子が発生させられる。 - 特許庁

As a result, no disconnection is generated even in the case of any laser welding and by scanning a laser beam 9 a plurality of welded places can be welded with the laser scanning of only one time.例文帳に追加

レーザ溶接する個所の一方の配線は必ず透明金属膜２と低抵抗金属膜３を積層し、かつ、一方の配線と絶縁膜５を介して配置される他方の配線とを重畳させる構造としたことで、レーザ溶接しても断線が生じず、レーザ光９を走査することにより１回のレーザ走査で複数の溶接個所を溶接することが可能となった。 - 特許庁

The substrate 11 provided with a transparent electrode pattern 13 arranged in a matrix is irradiated with a band-shaped laser beam from a light projecting part 1 in such a way as to traverse the arrangement of one electrodes 13b between the other electrodes 13a, and diffracted light generated by the pattern arrangement of the electrodes 13b is extracted by a line CCD 10.例文帳に追加

マトリクス配列された透明電極パターン１３を具備する基板１１に対し、投光部１より一方の電極間１３ａ，１３ａに他方の電極１３ｂの配列を横切るような帯状のレーザービームを照射するととともに、前記電極１３ｂのパターン配列によって生じた回折光をラインＣＣＤ１０により抽出する。 - 特許庁

The higher harmonic is generated using a single wavelength conversion element 20 to which the laser beams emitted from the first emitters 2A and the second emitters 2B are irradiated, thereby reducing the number of wavelength conversion elements 20 and providing a light source device 100 that is compact in size and emits a high-output harmonic laser beam.例文帳に追加

第１エミッタ２Ａから射出されるレーザ光と第２エミッタ２Ｂから射出されるレーザ光とを一つの波長変換素子２０を用いて高調波を発生させるため、波長変換素子２０の数を減らすことができ、コンパクト且つ高出力な高調波レーザ光を射出させる光源装置１００を提供することが可能となる。 - 特許庁

A charged corpuscular beam 2 incident in a final deflection electromagnet 7 via four-pole electromagnets 4, 5 and 6, is scanned by including an X directional component, while advancing in a circular arc shape in the final deflection electromagnet 7, by increasing and decreasing a deflection electromagnetic field generated in the final deflection electromagnet 7, for example, with a specific period.例文帳に追加

四極電磁石４，５，６を経由して最終偏向電磁石７内に入射してきた荷電粒子ビーム２は、最終偏向電磁石７内で生じる偏向電磁場を例えば一定の周期をもって増減させることにより、最終偏向電磁石７内を円弧状に進行しつつ、Ｘ方向の成分を含んでスキャンされる。 - 特許庁

To provide a device and a method of inspecting a failure of the charged particle beam capable of performing the focused clear observation and the accurate failure inspection even in the case of using a charged up sample by automatically correcting a displacement of the focal point position due to the charge up generated in the sample as an object of observation.例文帳に追加

観察対象の試料に生ずるチャージアップに起因する焦点位置のずれを操作者の手を煩わすことなく補正することができ、その結果として試料がチャージアップしている場合であっても焦点のあった鮮明な観察及び高精度の欠陥検査を行うことができる荷電粒子ビーム欠陥検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a pattern with high sensitivity and wide exposure latitude in an ultrafine region, while suppressing changes in the resist performance due to an acid generated during resist storage, with respect to an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, particularly, a resist composition for electron beam, X-ray or EUV lithography.例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィー用のレジスト組成物において、レジスト保存中に発生する酸によるレジスト性能の変化を抑制しつつ、超微細領域で高感度かつ露光ラチチュードの広いパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

When a control object aircraft among the displayed aircrafts is selected and designated by a mouse 19, an antenna control signal generated by a signal processing part 15 is imparted to a servo control part 18, and automatic control is performed so that each beam directivity direction of an azimuth antenna 13 and a height antenna 14 tracks the control object aircraft.例文帳に追加

表示された航空機のうち管制対象機をマウス１９により選択指定すると、信号処理部１５により生成される空中線制御信号をサーボ制御部１８に与え、方位空中線１３および高低空中線１４のビーム指向方向が管制対象機を追尾するように自動制御するようにしている。 - 特許庁

The present invention relates to: the transparent member for constituting the finder optical system, having a scattering face in its inside; and the method for manufacturing the transparent member that forms a scattering face by fine cracks caused by a nonlinear absorption phenomenon of a transparent base material generated when converging a laser beam of high intensity in the inside of the transparent member to be irradiated therewith.例文帳に追加

ファインダー光学系を構成する、内部に散乱面を有する透明部材、及び高強度のレーザ光を前記透明部材の内部に集光させて照射した時に生じる前記透明基材の非線形吸収現象に起因する微細なクラックにより前記散乱面を形成することを特徴とする透明部材の製造方法。 - 特許庁

In this laser machining apparatus which irradiates the laser beam generated by a laser generator 1 to a designated point of the material 3 and machines the material by moving the irradiation point, the laser machining apparatus is characterized in that a part or the whole of the laser generator 1 is installed on transfer members 40, 50, 60 movable to the material to be worked 3.例文帳に追加

レーザ発生器１から発生されたレーザを被加工物３の所定の部位に照射し、該照射部位を移動させて該被加工物を加工するレーザ加工装置において、該レーザ発生器１の一部あるいは全部を該被加工物３に対して移動できる移動部材４０、５０、６０に設置したことを特徴とするレーザ加工装置。 - 特許庁

In a surface defect inspecting apparatus for optically inspecting the surface of an object 11, a condensing point of laser beam is formed in the vicinity of the surface of the object and scanned on the surface of the object in a concentric circular state and a change in the quantity of light generated by a surface defect is detected to judge the surface defect by a signal processor 21.例文帳に追加

対象物１１表面を光学的に検査する表面欠陥検査装置であって、対象物表面近傍にレーザ光による集光点を形成し、集光点を対象物１１表面で同心円状に走査し、表面の欠陥によって発生する光量変化を検出して信号処理装置２１によって欠陥判定を行なう。 - 特許庁

A nonlinear optical element 24 for producing an optical Kerr effect is sandwiched and arranged between a pair of polarizing plates 23 and 25 of which deflection directions intersect orthogonally in an imaging optical system for condensing the fluorescence generated from the sample 17 and forming the fluorescence image of the sample, the other laser beam divided by the half mirror 11 is radiated as a gate light to a nonlinear optical element 24.例文帳に追加

試料１７から発生された蛍光を集光して試料の蛍光像を形成する結像光学系中に光カー効果を生ずる非線形光学素子２４を偏向方向が直交する一対の偏光板２３，２５で挟んで配置し、ハーフミラー１１で分割された他方のレーザ光をゲート光として非線形光学素子２４に照射する。 - 特許庁

In the aluminum welding method for welding a thin aluminum sheet at a high speed, the welding positions of aluminums 2a, 2b are irradiated with a laser diode beam which is absorbed at a high absorption rate by aluminum to melt the welding positions, and an MIG (metal inert gas) arc is generated between the molten welding positions and a welding wire 5 of an MIG welding power source to carry out welding.例文帳に追加

アルミニウム２ａ、２ｂの溶接位置にアルミニウムに対する吸収率の高いレーザダイオード光を照射して溶接位置を溶融し、上記溶融された溶接位置とＭＩＧ溶接電源の溶接ワイヤ５との間にＭＩＧアークを発生させて溶接を行うアルミニウムの溶接方法であって、薄板のアルミニウムを高速で溶接する溶接方法。 - 特許庁

In the inspection apparatus using an electron microscope which senses the defects present on the pattern of a sample based on the sensed signal of secondary charged particles generated by a scanning electron beam, there is provided such a function that the informations obtained by its ADC function are so fed back to its inspection function in the form of an inspection/non-inspection region as to improve its inspection and ADC performances.例文帳に追加

電子線を走査して発生する二次荷電粒子の検出信号に基づいて試料のパターン上の欠陥を検出する電子顕微鏡を用いた検査装置において、ＡＤＣ機能で得られた情報を検査／非検査領域という形で検査機能にフィードバックさせ、検査性能、ＡＤＣ性能の向上を図る機能を備える。 - 特許庁

A plurality of holding holes 7 for fitting bar magnets 10 for correction are provided at prescribed positions of a side wall 3a covering an outer periphery of a skirt portion 110a of a front panel 110 of a color CRT 2 in a front face bezel 3 of the CRT display device 1, and a landing orbit of an electron beam is corrected by a magnetic field 10 generated by the bar magnets 10 for correction.例文帳に追加

ＣＲＴディスプレイ装置１の前面ベゼル３の、カラーＣＲＴ２のフロントパネル部１１０のスカート部１１０ａの外周を覆う側壁部３ａの所定位置に、補正用棒磁石１０を装着する保持穴７を複数設け、この補正用棒磁石１０によって生じる磁界１０によって電子ビームのランディング軌道を修正する。 - 特許庁

When two kinds of coherent light beams having different wavelengths are made incident on first diffraction structure 26 and emitted from fourth diffraction structure 29 via second diffraction structure 27 and third diffraction structure 28, three beams can be generated from both coherent light beams respectively, and light beam axes of both coherent light beams can be adjusted so as to be coincident with each other.例文帳に追加

波長が異なる２種類のコヒーレント光線を、第１回折構造２６に入射させ、第２および第３回折構造２７，２８を経て第４回折構造２９から出射させる際に、両コヒーレント光線からそれぞれ３ビームを発生させることが可能とされ、かつ、両コヒーレント光線の光線軸と一致させるように光線軸調整を行うことが可能とされていること。 - 特許庁

To provide an electron beam (EB) drawing data generation method capable of extracting a graphic in a CP cut-away frame as a character pattern while suppressing an increase in computational complexity even if it is necessary to resize a graphic cell, when extracting the graphic in a character projection (CP) cut-away frame generated from a cell arrangement frame included in the graphic cell as a character pattern.例文帳に追加

図形セルに含まれるセル配置枠から生成されたＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、ＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、ＥＢ描画データ生成方法を提供すること。 - 特許庁

The laser beam welding equipment comprises a CCD camera 4 to pick up images of plasma light generated from a weld part P irradiated with laser beams L, a detection device 5 to detect the deviation of the irradiation position of the laser beams L based on a plasma image picked up by the CCD camera 4, and a correction device 6 to correct the irradiation position of the laser beams L based on the detected deviation.例文帳に追加

レーザ溶接装置は、レーザビームＬが照射される溶接部Ｐから発生するプラズマ光を撮像するＣＣＤカメラ４と、ＣＣＤカメラ４で撮像されたプラズマ画像に基づいてレーザビームＬの照射位置のずれ量を検出する検出装置５と、検出されたずれ量に基づいてレーザビームＬの照射位置を補正する補正装置６とを備える。 - 特許庁

To provide a crystal orientation measuring method, capable of detecting a wrong crystal orientation generated systematically with a specific crystal orientation relation between a correct crystal orientation and a wrong crystal orientation measured by the crystal orientation measuring method for mapping the crystal orientation, by using an electron beam backward scattering diffraction image or a Kossel diffraction image, and correcting the wrong crystal orientation.例文帳に追加

電子線後方散乱回折像やコッセル回折像を用いて結晶方位をマッピングする結晶方位測定方法で測定した正しい結晶方位と誤った結晶方位との間に特定の結晶方位関係をもって生ずる系統的に発生する誤った結晶方位を検知し、誤った結晶方位を修正できる結晶方位測定方法を提供する。 - 特許庁

A translucency insulating tube to be a material of the arc tube, which has a luminous part with a pair of electrodes provided therein and a sealing part formed at the end part of the luminous part, makes a part at which the luminous part is formed a predetermined part for forming the luminous part, partially irradiates the devitrified part generated on the surface of the predetermined part with a laser beam, and heats the devitrified part.例文帳に追加

一対の電極が内部に設けられた発光部と、前記発光部の端部に形成された封止部とを有する発光管の材料である透光性絶縁管において、前記発光部が形成される部分を発光部形成予定部として、前記発光部形成予定部の表面に生じた失透部に、レーザービームを局部的に照射して、前記失透部を加熱する。 - 特許庁