「heating pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The cylindrical heating element 11 has a heater pattern 22, formed on a surface 36 of an insulating substrate of cylindrical shape, and one of lead wire 13 and the other lead wire 14, extending from one end 23 of a cylinder to the axial direction of the cylinder.例文帳に追加

筒形発熱体１１は、筒をなす絶縁基板２５の面３６上にヒータパターン２２が形成され、ヒータパターンに接続している一方のリード線１３及び他方のリード線１４が筒の一端２３から筒の軸線方向に延出されている。 - 特許庁

In a TFT array substrate (10) of the reflective electrooptic device, an irregularity-forming layer (13a) for forming an irregular pattern (8g) on a light reflection film (8a) is formed by half exposure, development, and heating performed for a photosensitive resin (13).例文帳に追加

反射型電気光学装置のＴＦＴアレイ基板（１０）において、光反射膜（８ａ）に凹凸パターン（８ｇ）を付与するための凹凸形成層（１３ａ）は、感光性樹脂（１３）に対するハーフ露光、現像、および加熱により形成される。 - 特許庁

A pattern forming method using the photosensitive resin composition can be carried out by a step of applying the composition on a substrate to be worked, a step of exposing the composition with a beam of ≤250 nm, a step of heating the same and a step of developing the same.例文帳に追加

この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法は、被加工基板上に前記組成物を塗布する工程、２５０ｎｍ以下の光線で露光する工程、加熱する工程、及び現像する工程によって行うことができる。 - 特許庁

A multilayer wiring board 10 is provided with a isothermal part 13H for uniformizing the heat balance at heating to a bare IC chip 20, in the region corresponding to the mounting region of the bare IC chip 20, in a solid pattern 13 under the mounting face.例文帳に追加

本発明の多層配線基板１０は、実装面の下層のベタパターン１３において、ベアＩＣチップ２０の実装域と対応する領域に、ベアＩＣチップ２０への加熱時に熱バランスを均一にするための均熱部１３Ｈを設けている。 - 特許庁

The semiconductor device 1 generating neither heating nor partial heat generation, and deteriorating no reliability is manufactured by using an ultrasonic junction for junctions among an insulating substrate 10 with a pattern and a semiconductor chip 20 and the lead 40.例文帳に追加

パターン付絶縁基板１０及び半導体チップ２０とリード４０との接合に超音波接合を用いることで、加熱や局所的発熱を発生させることがなく、信頼性を劣化させることがない半導体装置１とすることができる。 - 特許庁

Thus, even if heating occurs in the X-ray film by emitting the laser beam, the temperature rise of the X-ray film is suppressed, and the marking pattern MP of high quality can be formed without bringing about a performance failure such as sensitizing or desensitizing.例文帳に追加

これにより、レーザービームが照射されることによりＸレイフィルムに発熱が生じても、Ｘレイフィルムの温度上昇を抑え、増減感などの性能故障を生じさせることなく、高品質のマーキングパターンＭＰを形成することができる。 - 特許庁

The bag-shaped container is formed using a soft packaging material having a property deformed by heating/cooling and a predetermined region thereof is partially heated/cooled to form a first emboss pattern 20 having a predetermined shape comprising unevenness.例文帳に追加

加熱・冷却することにより変形する性質を有する軟包材を用いて袋状容器を形成し、この袋状容器の所定部位を部分的に加熱・冷却して、凹凸からなる所定形状の第一のエンボス模様２０を形成するようにした。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for mounting electronic components which can carry out solder bonding with the most suitable heating pattern for each electronic component and can achieve size reduction and energy efficiency improvement of the electronic component mounting line.例文帳に追加

各電子部品に応じた最適な加熱パターンで半田接合を行うことができ、電子部品実装ラインのコンパクト化およびエネルギー効率の向上を実現することができる電子部品実装装置および電子部品実装方法を提供する。 - 特許庁

A spherical surface acoustic wave element 10 includes a barrel-shaped piezoelectric crystal substrate 11, and an interdigital electrode 13 and a heating wiring pattern 14 formed on a surface acoustic wave circuit path 12 of the substrate 11.例文帳に追加

球状弾性表面波素子１０は、樽型形状の圧電性結晶基材１１と、この基材１１の弾性表面波周回径路１２上に形成されたすだれ状電極１３および加熱用配線パターン１４とを具備して構成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a tire vulcanizing mold using a lamination shaping method capable of precisely manufacturing a pattern molded article manufactured by the lamination shaping method by molding the same on the profile surface of a sector mold made of an aluminum alloy under heating and pressure.例文帳に追加

アルミ合金製のセクターモールドのプロファイル面に、積層造形法により製作したパターン成形物を加熱・加圧して成形することで、精度良く製造できる積層造形法を用いたタイヤ加硫用成形金型の製造方法を提供する。 - 特許庁

After forming a wiring/heater pattern composed of a conductive layer and including a plurality of heaters for heating ink and a plurality of wiring on a silicon substrate, the wiring and/or the resistance of the heater are/is adjusted by the ion implantation.例文帳に追加

本発明は，シリコン基板に一つの導電体層よりなる，インクを加熱するための複数のヒータと複数の配線を含む配線/ヒータパターンを形成した後に，イオン注入により配線及び／またはヒータの抵抗をそれぞれ調節する。 - 特許庁

To laminate a surface material without performing heating and pressurization to finish the same so as to have a smooth mirror surface in a designed laminated material constituted by laminating the surface material on a base material having an embossed pattern or the like on its surface.例文帳に追加

表面に凹凸模様等を有する基材上に表面材を積層してなる意匠性積層材において、加熱も加圧もすることなく表面材を積層でき、その表面を平滑な鏡面状に仕上げることができるようにする。 - 特許庁

To obtain a multilayer board which can enhance junction strength of the circuit pattern part of a first circuit board, on which surface has a capacitor formed by a liquid heating combining method and an insulating layer of a second circuit board formed thereon.例文帳に追加

水熱合成法により形成したコンデンサを表面に有する第１の回路基板の回路パターン部分とその上に積層される第２の回路基板の絶縁層との接合強度を高めることができる多層回路基板を提供する。 - 特許庁

The microlens array is obtained by heating and pressurizing a laminated material having an inner layer having a low thermal softening point interposed between first and second outermost layers by using a roller having a pattern of recesses and projections to form a plurality of minute lenses having long focal length.例文帳に追加

第１と第２の最外層に挟まれた熱軟化点の低い内側層とを有する積層材を、凹凸を有するローラにより加熱、加圧することにより、複数の焦点距離の長い微小レンズを形成したマイクロレンズアレイである。 - 特許庁

The top layer 11 of the wet offset printing form may contain absorption centers for irradiation, especially for laser radiation in the NIR range, with which heating of the top layer in the pattern of an image is attained.例文帳に追加

湿式オフセット・プリンティング・フォームの頂上層１１に、照射のための吸収中心、特にＮＩＲ範囲のレーザ放射エネルギに関する吸収中心を含ませてもよく、それによってイメージのパターンに従った頂上層の加熱が達成される。 - 特許庁

In the method for manufacturing a nanoimprint mold, a pattern of the nanoimprint mold is formed by depositing a metal at a desired position on a Si substrate having a SiO_2 layer using focused ion beams, and by heating the substrate to coagulate the deposited metal.例文帳に追加

本発明によるナノインプリント金型の製造では、ＳｉＯ_２層を設けたＳｉ基板に、集束イオンビームを用いて所望の位置に金属を堆積し、この基板を加熱して、堆積した金属を凝集させて、ナノインプリント金型のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a measuring apparatus for optical, for example interferometric, measurement of an optical imaging system, for imaging an effective pattern in an imaging operation, including a device for producing radiation information, for example interference information, which indicates heating-dependent imaging errors.例文帳に追加

撮像動作において有効パターンを撮像する光学撮像システムの、光学、例えば、干渉計測定用の測定装置であって、例えば、加熱依存性撮像エラーを示す干渉情報である、放射情報を製造する装置の実現。 - 特許庁

This manufacturing method of ceramic heater comprises forming the resistant heating element having a prescribed pattern by forming a conductive layer in a prescribed area of the surface of a ceramic board followed by irradiation with laser beam to partially remove it.例文帳に追加

セラミック基板表面の所定領域に導体層を形成した後、前記導体層にレーザ光を照射してその一部除去することにより、所定パターンの抵抗発熱体を形成することを特徴とするセラミックヒータの製造方法。 - 特許庁

A flexible circuit film 2 comprising a base film 3, a cover film 4 overlapped on the base film 3, and a heater circuit 5 that is sandwiched between the both films 3 and 4 and a pattern by etching is used as a heating element.例文帳に追加

ベースフィルム３と、このベースフィルム３に重ねられたカバーフィルム４と、この両フィルム３，４の間に挟まれるとともにエッチングによりパターン形成されたヒーター回路５とを備えたフレキシブルサーキットフィルム２を発熱体としたことを特徴とする。 - 特許庁

The set temperature of a heater 62 being built in a heating plate 61 is adjusted from the correlation between the previously found step and the final line width of a pattern consisting of a coating film on the substrate in after continuous treatments on the substrate so that the step is confined within the prescribed extent.例文帳に追加

予め求められている前記段差と一連の基板処理後の最終線幅との相関関係から，前記段差が所定の範囲内に納まるように，熱板６１に内蔵されているヒータ６２の設定温度を調節する。 - 特許庁

Accordingly, heat from the heater is transmitted through conduction via the substrate for satisfactory heat transfer efficiency, and the substrate having a predetermined thickness is interposed so that a pattern of the heating element of the heater does not appear on the back of the article to permit the article to be uniformly heated.例文帳に追加

ヒータの熱は基材を介して伝導で伝わるので熱伝達効率がよく、しかも所定の厚みを有する基材が介在しているので、ヒータの発熱体のパターンが被処理体の裏面に発現されず、被処理体は均一に加熱される。 - 特許庁

A connecter member 60 laminated by inserting an elastic insulated layer between elastic conducting layers is used for electrically connecting an input terminal of a liq. crystal panel 10 and a wiring pattern 21 of a circuit board 21 without heating.例文帳に追加

液晶パネル１０の入力端子と回路基板２０の配線パターン２１とを熱を加えることなく電気的に接続するにあたって、弾性導電層６１が弾性絶縁層６２を間に挟んで積層されたコネクタ部材６０を用いる。 - 特許庁

After forming a conductor layer in a prescribed region of the surface of the ceramic substrate, laser light is irradiated to this conductor layer so as to remove a part of it; and the resistance-heating element having the prescribed pattern is formed.例文帳に追加

セラミック基板表面の所定領域に導体層を形成した後、前記導体層にレーザ光を照射してその一部除去することにより、所定パターンの抵抗発熱体を形成することを特徴とするセラミックヒータの製造方法。 - 特許庁

The film type heater 33 includes a heat resistant insulating layer, a heating element formed on one side surface of the heat resistant insulating layer in pattern shape and generating heat by application of voltage, and a heat transfer layer formed in a surface state on the opposite side surface of the heat resistant insulating layer.例文帳に追加

フィルム状ヒータ３３は、耐熱絶縁層と、耐熱絶縁層の一側の面にパターン状に形成されて電圧の印加により発熱する発熱体と、耐熱絶縁層の反対側の面に面状に形成される伝熱層と、を含む。 - 特許庁

The molding pattern on the upper surface of the form plate material 4 is transferred on the lower surface of the forming preform 3 by heating the form plate material 4 and the preform 3 to soften the preform 3 and applying press-load between the upper die 1 and the lower die 2.例文帳に追加

上型１、下型２、版材４及び成形素材３を加熱して成形素材３を軟化させた後、上型１と下型２の間にプレス荷重を加えて、版材４の上面の成形パターンを成形素材３の下面に転写する。 - 特許庁

The mold 10 for molding the synthetic resin product is constituted by applying a soft wax paste 17, which is prepared by kneading powdery soft wax and pasty flux, to a base material 11 by screen printing and heating, cooling and washing the same to form the uneven pattern comprising a large number of projections 13.例文帳に追加

粉末状の軟ろうとペースト状のフラックスを混練してなる軟ろうペースト１７で基材１１にスクリーン印刷し、加熱、冷却、洗浄して多数の突起１３よりなる凹凸パターンを形成して合成樹脂製品の金型１０とする。 - 特許庁

To provide a foreign matter removing method and its apparatus which are preferable for cleaning a substrate on which a fine pattern is formed, and which have high removing efficiency of foreign matters by laser heating, and further which do not depend on the thickness of a liquid film and the kind, size, and shape or the like of foreign matters.例文帳に追加

微細パターンが形成された基板の洗浄等に好適であって、レーザー加熱による異物の除去効率が高く、液膜の厚さや異物の種類、大きさ、形状等に依存しない異物除去方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

A metal foil 1, which is provided not with adhesive agent layer but with a large number of fine projections on its adhesive surface 1a, is punched out with a heating die 2, and the metal foil 1 is pressed and attached on a resin member 3 for attaching a metal foil electric circuit pattern to a resin member through an attaching structure.例文帳に追加

接着剤層をもたず接着面１ａに多数の微小突起を有する金属箔１を加熱金型２で打ち抜くと同時に樹脂部材３に押し付け付着させた金属箔電気回路パターンの樹脂部材への付着構造。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition superior in characteristics required for sensitivity and resolution and inner pattern profile dimensional stability from exposure process to heating process at the time of using far ultraviolet rays, especially, short wavelength light source, such as excimer laser beams.例文帳に追加

遠紫外光、とくにエキシマレーザー光などの短波長光源の使用に対して感度、解像力、定在波の内パターンプロファイル、露光から加熱工程までの寸法安定性などの必要特性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In a TFT array substrate (10) of the reflective electrooptic device, an irregularity-forming layer (13a) for forming an irregular pattern (8g) on a light reflection film (8a) is formed by, half exposure, development, and heating performed for a photosensitive resin (13).例文帳に追加

反射型電気光学装置のＴＦＴアレイ基板（１０）において、光反射膜（８ａ）に凹凸パターン（８ｇ）を付与するための凹凸形成層（１３ａ）は、感光性樹脂（１３）に対するハーフ露光、現像、および加熱により形成される。 - 特許庁

When the producing operation of the semi-solidified metal is started, each producing control value pattern is read out in order, and the cooling process and the heating process are controlled in order according to the producing control value corresponding to each processing station, at where each holding vessel shifts.例文帳に追加

半凝固金属の生成運転が開始されると、順次各生成制御値パターンが読み出され、各保持容器が移動した各作業ステーションに対応した生成制御値に従って冷却工程及び加熱工程が順次制御される。 - 特許庁

A heater coil 60 projecting the medium facing surface to the recording medium side by thermal expansion by energizing over heating is arranged through an insulation layer at write coil relative area 70 opposing to an area at which a thin film coil pattern of the write coil 54 is arranged.例文帳に追加

ライトコイル５４の薄膜コイルパターンを配置した領域に相対するライトコイル相対領域７０に、通電過熱により媒体相対面を熱膨張により記録媒体側に突出させるヒータコイル６０を絶縁層を介して配置する。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet manufacturing method to perform alloy processing by heating a steel sheet galvanized in a galvanizing bath, the temperature pattern to perform alloy processing is determined based on the temperature integration value obtained by multiplying the heating or cooling temperature (T) in the alloy processing by the time (t), and adding the products.例文帳に追加

亜鉛メッキ浴にてメッキを施した鋼板を加熱して合金化処理を行う合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法において、前記合金化処理における加熱・冷却中の温度（Ｔ）と時間（ｔ）とを掛け合わせて積算した温度積分値に基づいて、前記合金化処理を行う温度パターンを決定することを特徴とする合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法。 - 特許庁

By the above, the electromagnetic cooker, capable of realizing an intuitively understandable heating output display having atmosphere and sense of presence of actual heat treatment by changing the color of heating image and a pattern of blinking, promoting a sense of danger against cooking feeling and heat, easy to cooking, very useful for preventing accidents like skin burn, can be provided.例文帳に追加

このことにより、加熱出力に応じて加熱イメージの発色や点滅のパターンを変えることで、加熱処理が実際に行なわれている雰囲気や臨場感のある直感的に理解し易い加熱出力表示を実現することができ、調理感覚や熱に対する危険意識を増加させ、調理しやすく、火傷などの事故の防止にも多いに役立つ電磁調理器を提供できる。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes: at least a resist film forming step of forming a resist film by applying and heating the resist composition on a surface to be processed; an irradiation step of selectively irradiating the resist film with ionizing radiation; a heating step of hating the resist film irradiated with the ionizing radiation; and a development step of developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工面上に、本発明の前記レジスト組成物を塗布し加熱してレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対して、電離放射線を選択的に照射する電離放射線照射工程と、電離放射線が照射された該レジスト膜を加熱する加熱工程と、現像する現像工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate includes a film forming process for sputter-forming the film for forming the mask pattern by causing a sputtering atmosphere to contain at least helium gas and a process for heating the transparent substrate during or after the film forming process.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of carrying a semiconductor chip 20 having a pad 22 on a wiring board 10 having a wiring pattern 12 through thermosetting paste 30, arranging the mask 40 having an opening 42 and overlapping with the wiring pattern 12 so that the opening 42 overlaps the paste 30, and thermally setting the paste 30 by microwave heating.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、熱硬化性のペースト３０を介して配線パターン１２を有する配線基板１０にパッド２２を有する半導体チップ２０を搭載すること、開口４２を有し配線パターン１２とオーバーラップするマスク４０を、開口４２がペースト３０とオーバーラップするように配置すること、及び、マイクロ波加熱によってペースト３０を熱硬化させることを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate comprises a film forming process for sputter-forming the film for forming the mask pattern by containing at least helium gas in sputtering atmosphere and a process for heating the transparent substrate during or after the film forming process.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a fine structure drying treatment method and a fine structure drying treatment apparatus for efficiently, quickly, and uniformly drying a large-diameter substrate of 100 mm or larger, in which a fine pattern is formed where pattern falls and element adhesion may occur by the influence of the surface tension of a rinse liquid simply by locally heating only a dry fluid in drying.例文帳に追加

本発明の目的は、乾燥時に乾燥流体だけを局部的に加熱するだけで、リンス液の表面張力の影響によりパターン倒れや素子の固着が発生しうる微細なパターンを形成した１００ｍｍ以上の大口径基板に対して効率良く短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

This invention relates to the irregular pattern forming method including an irregular pattern forming process of forming the irregular patterns in the substrate surface by heating and/or light irradiation when the irregular type stamper constituted by an elastic material is pressed to the thin film which is formed in the substrate surface and contains a hardening material as a principal component; and meeting the following formula (1).例文帳に追加

基板表面に形成され、硬化性材料を主成分として含む薄膜に、弾性材料から構成される凹凸型が設けられたスタンパを押し当てた状態で、加熱及び／又は光照射を付与することにより、前記基板表面に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程を含み、且つ、下式（１）を満たす凹凸パターン形成方法。 - 特許庁

Covering the optical fiber with thermoplastic ultraviolet ray transparency resin (S110), heating this covering resin to soften (S120), and pressing a phase modulation pattern die to it in a way continuously changing the pressure on the resin in the length direction of the optical fiber (S130), a phase modulation pattern is transferred to the thermoplastic ultraviolet ray transmissive resin.例文帳に追加

光ファイバの周囲を熱可塑性紫外線透過樹脂で被覆し（Ｓ１１０）、被覆した熱可塑性紫外線透過樹脂を加熱して軟化させ（Ｓ１２０）、熱可塑性紫外線透過樹脂に押し付ける力が光ファイバの長手方向に連続的に変化するように位相変調パターン型を押し付け（Ｓ１３０）、位相変調パターンを熱可塑性紫外線透過樹脂に転写する。 - 特許庁

The method for producing a photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate has a film deposition step in which the film for forming a mask pattern is deposited by sputtering in a sputtering atmosphere in which at least gaseous helium is contained and a step for heating the transparent substrate during or after the film deposition step.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The substrate manufacturing apparatus carries out an exposure process by using a glass mask, and is equipped with a glass mask having an exposure pattern formed on one surface, a mask holder supporting the glass mask, and a heating means thermally deforming the glass mask.例文帳に追加

本発明による基板製造装置は、ガラスマスクを用いて露光工程を行う基板製造装置であって、一面に露光パターンが形成されているガラスマスクと、ガラスマスクを支持するマスクホルダと、ガラスマスクを熱変形させる加熱手段と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁