「heating pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A lithographic apparatus has: a heater that is formed for supplying energy for heating a patterning device to the patterning device and for forming a predetermined thermal distortion pattern of the patterning device; and a controller that is formed for performing optical correction corresponding to the predetermined thermal distortion pattern in the device in order to reduce the influence of the thermal distortion of the patterning device on the pattern.例文帳に追加

パターニングデバイスを加熱するためのエネルギーをパターニングデバイスに供給し、パターニングデバイスの所望の熱ひずみパターンを形成するように構成されたヒータと、パターンに対するパターニングデバイスの熱ひずみの影響を小さくするために、所望の熱ひずみパターンに対応する光学補正を装置内で実施するように構成されたコントローラとを有する。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a resist film (3) on a substrate (1) to be processed having a film to be processed; exposing the resist film with a desired pattern; developing the resist film to form a resist pattern; and heating the resist pattern at a temperature higher than the deprotection temperature and lower than the glass transition temperature Tg of the resist.例文帳に追加

被加工膜を有する被加工基板（１）上にレジスト膜（３）を形成する工程と、前記レジスト膜に所望のパターンを露光する工程と、前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンに対して該レジストの脱保護温度よりも高温かつガラス転移温度Ｔｇよりも低温にて加熱する工程と、を有する。 - 特許庁

The resist pattern 41 is formed on the glass substrate by forming a resist pattern 41 on a transferring roll surface by removing a residual substance on a transferring roll 10, providing a photoresist coated film 40 using a slit nozzle 12, drying it, pattern drawing with a laser beam, developing it and washing it with water and by transferring it to the glass substrate 30 and baking it by heating and pressurizing.例文帳に追加

転写ロール１０の残留物を除去し、スリットノズル１２を用いてフォトレジストの塗布膜４０を設け、乾燥し、レーザー光によってパターン描画し、現像、水洗を行って、転写ロール表面にレジストパターン４１を形成し、加熱加圧によってガラス基板３０に転写、ベークしてガラス基板上にレジストパターン４１を形成する。 - 特許庁

The method includes: a first process of forming a resist pattern 3 on a substrate 1; a second process of irradiating the substrate 1 with UV rays while heating in an inert gas and nitrogen atmosphere or of immersing the substrate in an alkali solution while heating; a third process of implanting ions; and a fourth process of stripping the resist pattern 3.例文帳に追加

基板１上にレジストパターン３を形成する第１の工程の後に、不活性ガスおよび窒素雰囲気下で加熱しながら基板１を紫外線照射するか、もしくは基板１を加熱しながらアルカリ溶液に浸漬する第２の工程を実施し、その後イオン注入の処理を行う第３の工程を実施し、最後にレジストパターン３を除去する第４の工程を実施する。 - 特許庁

A stage for plotting a desired pattern on an object 1 to be coated with a film with an insulator soln., heating and drying the soln. to selectively form an insulating film 4 and a stage for plotting a desired pattern with a silane coupling agent, heating and drying the soln. to activate the surface and selectively forming a metallic film 5 by chemical plating are performed with a specified combination and order.例文帳に追加

被成膜対象物１に対し、絶縁体溶液を所望のパターンで描画し、加熱、乾燥させることにより絶縁膜４を選択的に形成する工程と、シランカップリング剤溶液を所望のパターンで描画し、加熱、乾燥させ、表面活性化処理し、化学メッキすることにより金属膜５を選択的に形成する工程とを所定の組合せ及び順序で実行する。 - 特許庁

In an independent space heating operation, a combustor is burnt in a combustion pattern according to the required heat energy of a space heating terminal, and in the other operation except for the independent space heating operation, the combustor is burnt in a combustion pattern according to the required heat energy of a hot water supply terminal.例文帳に追加

熱源部６で加熱された湯水を循環させる熱源循環回路３２に、給湯回路２９と暖房回路３５を直接または熱交換器４２を介して接続し、給湯または暖房またはこれら双方を同時に行う加熱装置であって、暖房単独運転時には、燃焼機を暖房端末の要する熱エネルギーに応じた燃焼パターンで燃焼させ、暖房単独運転を除く他の運転時には、燃焼機を給湯端末の要する熱エネルギーに応じた燃焼パターンで燃焼させる。 - 特許庁

In a channel plate 5 being fixed to an ink tank 3, pattern of a channel plate heater 6, as an indirect heating means, is arranged around an ink channel 3 and a channel heater 9 is arranged, as a direct heating means, in the ink channel 3.例文帳に追加

インクタンク３に取り付けられる流路プレート５において、インク流路３の周囲に間接的な加熱手段としての流路プレートヒータ６のパターンが位置するように流路プレートヒータ６を配置し、インク流路３の内部には、直接的な加熱手段として流路ヒータ９を配置する。 - 特許庁

To provide a masking material raising the accuracy of a masking pattern by preventing a droop due to heating, increasing the transfer quantity of solder paste, and ensuring excellent detergency after heating curing, and also to provide a printing method of solder paste using the masking material.例文帳に追加

加熱ダレを防止してマスキングパターンの精度を向上させ、また、はんだペーストの転写量を多くすることができ、さらに、加熱硬化後の洗浄性に優れたマスキング材料及び該マスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition forming a cured film that has high sensitivity, excellent curability with respect to the inner part of the film, and excellent adhesion to a supporting body, maintains a patterned shape even during post-heating after development, has good pattern formability, and is suppressed in coloring due to heating or passage of time.例文帳に追加

感度が高く、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、現像後の後加熱時においてもパターン形状が保持され、良好なパターン形成性を有し、且つ、加熱経時による着色が抑制された硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an induction heating cooking device with enhanced convenience that can detect power consumption of each coil without adding a new circuit for power detection on coils side arranged in a concentric circular pattern and reduce uneven heating by means of performing feedback control on power of each coil to a target value.例文帳に追加

同心円状に配置した複数のコイル側に電力検知用の回路を新たに追加することなく、各コイルの消費電力を検知することができ、各コイルの電力を目標値にフィードバック制御することにより加熱ムラを低減し、利便性を向上させた誘導加熱調理器を得る。 - 特許庁

The pile fabric provided with a color pattern on the pile surface is obtained by sewing a pile using a dyed acrylic fiber and by using the color change of a pile part dyed at a low temperature by operations of heating temperature conditions and a heating method of pile processing such as a tenter process and a polishing process of pile sewing.例文帳に追加

アクリル系繊維を、染色した繊維を用いてパイルを縫製し、パイル縫製のテンター工程やポリッシング工程等のパイル加工の加熱温度の条件及び加熱方法の操作にて、低温で染色したパイル部が色変化する事を用いて、パイル表面に色模様を付与したパイル布帛。 - 特許庁

The pattern forming material formed on a substrate has first and second reaction layers reacted mutually by heating to be expanded in volume and a third reaction layer expanded in volume by heating.例文帳に追加

基板上に形成されたパターン形成材料であって、加熱されることにより、相互に反応して体積が膨張する第１の反応層および第２の反応層と、加熱されることにより、体積が膨張する第３の反応層と、を有することを特徴とするパターン形成材料。 - 特許庁

Further, an elevating/lowering mechanism 18 to coaxially move the annular body 2 in an annular space of the heating coil 4, an annular space of the cooling jacket 6 and the inside of the outside diameter restraining pattern 8 and rotating means 10, 12 to rotate the annular body 2 moved into the heating coil 4 are provided in the corrective hardening device.例文帳に追加

また、環状体２を加熱コイル４の環状空間、冷却ジャケット６の環状空間及び外径拘束型８の内部に同軸に移動させる昇降機構１８と、加熱コイル４内に移動した環状体２を回転させる回転手段１０，１２とを備えている。 - 特許庁

Simultaneously with or after the direct drawing of a solder resist pattern on a printed wiring board with an inkjet printer by using the composition, the composition is cured by an active energy ray irradiation, or heating, or an active energy ray irradiation followed by heating or by the second active energy ray irradiation.例文帳に追加

該組成物を用い、インクジェットプリンターでソルダーレジストパターンをプリント配線基板に直接描画すると同時に又は描画した後に、活性エネルギー線照射、もしくは加熱、又は活性エネルギー線照射後に加熱もしくは再度活性エネルギー線を照射して硬化させる。 - 特許庁

The heating temperature of the whole in the longitudinal direction of a sheet bar 1 is decided on the basis of a speed pattern in finish rolling in order to prevent the crack on the sheet in the finish rolling by securing the temperature on the outlet side of a finishing mill for the sheet bar 1 of high carbon steel in a heating temperature deciding part 41.例文帳に追加

加熱温度決定部４１は、高炭素鋼のシートバー１の仕上圧延機出側の温度を確保して仕上げ圧延における板割れを防止するために、仕上圧延速度パターンに基づいて、シートバー１の長手方向全体の加熱温度を決定する。 - 特許庁

A colored pattern of a nano scale is repeatedly written/erased by irradiating a resin film, comprised of an organic molecule reversibly colored/decolored by quantum beam irradiation and photoirradiation or heating, with quantum nano beams operable at a high speed and subsequently subjecting the resin film to photoirradiation or heating.例文帳に追加

量子ビーム照射と光照射又は加熱とで着色／脱色を可逆的に起こす有機分子からなる樹脂膜に、高速に操作可能な量子ナノビームを照射し、その後光照射又は加熱することにより、ナノスケールの着色パターンを繰り返し書込み／消去する。 - 特許庁

When already mounted electrical/electronic components are removed or the electrical/electronic components are mounted after the printed board is installed, a constant voltage power supply is connected to the land parts 60 and a current is applied to the conductor resistor of the heating circuit pattern, to uniformly heat the multilayer printed interconnection board with the built-in heating layer as a whole.例文帳に追加

既に実装された電気・電子部品を取り外したり、後付けするときはランド部６０に定電圧電源を接続し、配線回路パターン４０の導体抵抗に電流を流し、発熱層内蔵多層プリント配線板全体を均一に加熱することができる。 - 特許庁

For example, a thermoplastic resin having the fine pattern on its surface is manufactured by a method including a process for forming the fine pattern of the mold to the thermoplastic resin by bringing the mold into contact with the thermoplastic resin under heating and pressure and a process for separating the mold from the thermoplastic resin.例文帳に追加

たとえば、該モールドを熱可塑性樹脂に熱圧着させて該モールドの微細パターンを該熱可塑性樹脂に形成する工程および該モールドを該熱可塑性樹脂から離脱させる工程を具備する方法で製造された表面に微細パターンを有する熱可塑性樹脂。 - 特許庁

A forming material is obtained by forming a conductive film of a predetermined pattern on a synthetic resin-made container material 20, the forming material is heated by performing induction heating of the conductive film, the forming material is plastically deformed to a predetermined shape, and a container 10 is formed with its thickness changed according to the predetermined pattern.例文帳に追加

合成樹脂製の容器素材２０に、所定パターンの導電性膜を形成して成形素材とし、導電性膜を誘導加熱して成形素材を加熱した後、成形素材を所定形状に塑性変形させて、前記所定パターンに応じて厚みを変化させた容器１０とする。 - 特許庁

To provide an exposure device employing EUV light which prevents the deterioration of positional accuracy of a transfer pattern which is accompanied by the heating of a reticle or a wafer due to ultraviolet ray included in beams from a plasma light source, and which stably transfers a delicate pattern, and also to provide an exposure method employing the exposure device.例文帳に追加

プラズマ光源からの光線に含まれる赤外線によるレチクルやウエハの加熱に伴う転写パターンの位置精度の低下を防止した、安定して微細なパターンの転写ができるＥＵＶ光を用いた露光装置、および当該露光装置を用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

Because it is difficult to propagate heat to the pattern of irregularities during heating the decorative sheet S and also a residual stress which could be unleashed by heat is not accumulated in the resin of the pattern of irregularities part on account of the irregularities formed by machine cutting, the possibilities that the irregularities might be levelled during molding are eliminated.例文帳に追加

装飾シートＳを加熱した際に熱が凹凸模様のところに伝播し難いことから、また機械切削により凹凸を形成したことで、凹凸模様部の樹脂に加熱によって解放され得る残留応力を蓄積しないことから、成形時に凹凸が戻るようなことがない。 - 特許庁

To correct variation pattern noise peculiar to a work affected by heating temperature for a work having small variation pattern noise peculiar to the work that the work itself has, especially a work having low emissivity, a work having a small temperature increase, or a work having a slight failure in heat radiation performance.例文帳に追加

ワーク自体が持つワーク固有の変動パターンノイズ、特に放射率が低いワーク、温度上昇の小さいワークあるいは放熱性能の異常が軽微であるワークについて、加熱温度の影響を受けるワーク固有の変動パターンノイズを補正することができるようにする。 - 特許庁

Afterwards, the transcription substrate and a substrate 14 are positioned by an alignment system 28, and the pattern of the organic light emitting layer 4a is transcribed by heating the surface of the transcription substrate 12 at the side that the pattern of the organic light emitting layer 4a is not formed, at a transcription part 23 by a heater 27.例文帳に追加

その後、アライメント機構２８により転写基板と基板１４との位置合わせを行い、転写部２３にて転写基板１２を有機発光層４ａのパターンが形成された面と反対側の面からヒータ２７によって加熱して、基板１４上に有機発光層４ａのパターンを転写する。 - 特許庁

This cosmetic with the colored pattern is provided by filling an aggregate of lip colors 11 formed as a granular form having 1 to 5 mm mean particle diameter in a cosmetic dish 10, and at least a part of the aggregate of the particle-formed lip colors 11 solidifies after becoming liquefied by heating to form an irregular colored pattern.例文帳に追加

平均粒径１〜５ｍｍの粒状に成形されたリップカラー１１の集合体が化粧皿１０に充填されており、加熱によって上記粒状リップカラー１１の集合体の少なくとも一部が液状化した状態で固まり、不規則な色模様が形成されている。 - 特許庁

In a process of heating a substrate where a resist pattern is formed, a heat-treatment temperature is set again according to a result T obtained by measuring the temperature of a heat-treating apparatus so that the quantity of variation in pattern size due to a heat treatment reaches a desired value in the middle of the heat treatment.例文帳に追加

レジストパターンを形成した基板を加熱処理する工程において、加熱処理装置１８の温度測定した結果Ｔに基づいて、加熱処理の途中で、加熱処理によるパターン寸法の変化量が所望の値となるように、加熱処理温度を再設定する。 - 特許庁

The toaster comprises upper and lower heaters 4, 5 provided one or more each in a heating chamber 1, the grill 3 located between the upper and lower heaters 4, 5, and a pattern plate turnably held on the upper side of the grill 3 for shielding radiation heat from the upper heater and giving a partially non-toasting pattern onto the upper face of a bread.例文帳に追加

加熱室１内に上下一つずつ以上のヒーター４，５と前記上下ヒーター４．５の間に位置する焼き網３と前期焼き網３の上側に回動自在に保持し、上ヒーターからの輻射熱を遮蔽し、パン上面に焼き残しによる模様を付けるようにした。 - 特許庁

With a press plate 28 held on an upper press shaft 26, the quartz substrate 20 is pressed against the lens pattern parts Q_1 to Q_4 of the substrate 10 in this heating state to form convex lenses corresponding to the lens pattern parts Q1 to Q4 on the surface of the quartz substrate 20 which face the substrate 10.例文帳に追加

このような加熱状態において、上方プレス軸２６に保持されたプレス板２８で石英基板２０を基板１０のレンズ型部Ｑ_１〜Ｑ_４に押圧することにより石英基板２０の基板１０との対向面にレンズ型部Ｑ_１〜Ｑ_４にそれぞれ対応する凸レンズを形成する。 - 特許庁

By this, since control of precedently heating the stored hot water in the tank 10 to the bathing capable heat storage amount every other day (on alternate days) can be carried out, and heating to the bathing capable heat storage amount is not carried out on days without bathing, heating control suiting even the user with the irregular bathing pattern can be carried out, and energy saving can be realized.例文帳に追加

これにより、予め一日おき（隔日）に入浴可能な蓄熱量にまで、タンク１０内の貯湯を焚き上げる制御を行う事が可能となり、入浴しない日に、入浴可能な蓄熱量にまで焚き上げる事がなくなるので、変則的な入浴パターンのユーザーにも適する焚き上げ制御を行う事が可能になるとともに、省エネルギーを実現する事が可能となる。 - 特許庁

The induction heating cooker 1 is provided with the top plate 2 formed of crystallized glass with a pattern 7 formed on an upper surface, and an induction heating means 3 beneath the top plate 2, and is further provided with a transparent antifouling layer 6 mainly containing a fluorine compound only on a part positioned on an upper surface side of the top plate 2 and above the induction heating means 3.例文帳に追加

絵柄７が上面に形成された結晶化ガラスからなるトッププレ−ト２と、前記トッププレ−ト２下方に誘導加熱手段３とを備え、前記トッププレ−ト２の上面側であって前記誘導加熱手段３の上方部に位置する部分のみにフッ素系化合物を主成分とする透明な防汚層６を設けた誘導加熱調理器１とする。 - 特許庁

With the heater of ceramic plate provided with a heating element on the surface or inside of either substrate, the substrate is structured with a plurality of plate-shaped segments, for each of which, either an independent heating element pattern is formed, or the segments are bar-shaped which are arrayed in one lump so that their heating face makes on a flat plane.例文帳に追加

基板いずれか一方の表面もしくはその内部に発熱体を設けてなるセラミック製板状のヒータであって、前記基板が複数の板状セグメントで構成されていると共に、各セグメント毎に独立した発熱体パターンが形成されているか、またはそのセグメントが棒状であって、その棒状セグメントを加熱面か平面を呈するように列設して、１塊まりとなった。 - 特許庁

The heating unit 44 has an annular heat source enclosing the metal mold device 10 and an optical reflection mirror 42 for irradiating the metal mold device 10 with a prescribed irradiation pattern.例文帳に追加

前記加熱ユニット４４は、金型装置１０を包囲するリング状の熱源、及び該熱源の周囲に配設され、前記金型装置１０を所定の照射パターンで照射する光学反射ミラー４２を備える。 - 特許庁

A wiring pattern 44 is formed by patterning using dry etching and connected with a heating element 39 through a contact part 41 in an opening provided in an insulating protective layer 40.例文帳に追加

本発明は、ドライエッチングを用いたパターニングにより配線パターン４４を形成し、該配線パターン４４を絶縁保護層４０に設けられた開口によるコンタクト部４１を介して発熱素子３９に接続する。 - 特許庁

A synthetic resin film 12 is interposed between a coated steel sheet 11 (transfer object) and a transfer sheet 13 and the printed pattern is transferred from the transfer sheet 13 onto the coated steel sheet 11 by pressing P and heating H.例文帳に追加

合成樹脂フィルム１２を塗装鋼板１１（被転写物）と転写シート１３との間に挟み、加圧Ｐ，加熱Ｈによって印刷模様を転写シート１３から塗装鋼板１１に転写する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus that prevents nozzle clogging due to heating of a discharge means, even in the case where a liquid with conductive particles dispersed in a solvent is arranged on a heated base material.例文帳に追加

加熱した基材に、導電性粒子を溶媒に分散させた液体を配置した場合であっても、吐出手段の加熱によるノズル詰まりを防止したパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The connecting section 4 is sunk to the bump electrodes 6 by a heating under a pressed state in the direction of D1, and the semiconductor element 3 and a wiring pattern 2 for the insulating tape 1 are connected as in (d).例文帳に追加

（ｄ）のように、Ｄ１方向に加圧した状態で加熱し、突起電極６に接続部４が沈み込むようにして、半導体素子３と絶縁テープ１の配線パターン２とが接続される。 - 特許庁

Photoresists 3a and 3b, where the photoresist patterns are drawn, are irradiated with light beams 11a to 11d, 12a, and 12b for heating through masks 5a and 5b forming opening parts corresponding to the photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンを描画しているフォトレジスト３ａ，３ｂに対して、該フォトレジストパターンに対応した開口部を構成するマスク５ａ，５ｂを介して加熱用の光１１ａ〜１１ｄ，１２ａ，１２ｂを照射する。 - 特許庁

A seal pattern is formed on one electrode substrate out of electrode substrates 1, 2 by screen-printing or dispensing and the solvent is dried up by pre-baking (heating at 80-100°C for 10-30 minutes).例文帳に追加

電極基板１，２のうち一方の電極基板上にスクリーン印刷またはディスペンサによってシールパターンを形成し、プリベーク（８０〜１００℃で１０〜３０分間加熱）によって溶剤を乾燥させる。 - 特許庁

A heating part 72 extending in the carrying direction heats the thermoplastic resin base material 21 to a temperature at which an irregular pattern of the shape forming material 11 is transferred to the thermoplastic resin base material 21.例文帳に追加

搬送方向に延在する加熱部７２は、熱可塑性樹脂基材２１に賦形型材１１の有する凹凸パターンが転写され得る温度まで熱可塑性樹脂基材２１を加熱する。 - 特許庁

The projected and recessed pattern 7 is formed by etching glass for etching containing 3 to 20wt.% vanadium pentoxide to base glass composing the covered glass layer 3, and performing firing under heating at 850 to 950°C.例文帳に追加

凹凸パターン７は、被覆ガラス層３を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウムを３〜２０ｗｔ％含むエッチング用ガラスをエッチングし、８５０〜９５０℃の温度で加熱焼成して形成してある。 - 特許庁

The film substrate 34, onto which the wiring pattern is formed, is peeled from the film carrier tape 64 by conducting the irradiation of ultraviolet rays and the irradiation or heating of activation energy rays to the adhesive layer 66.例文帳に追加

そして、粘着層６６に対して、紫外線の照射、活性エネルギー線の照射、または加熱を行って、配線パターンが形成されたフィルム基板３４をフィルムキャリアテープ６４から剥離する。 - 特許庁

In the microlens forming method, after microlens patterns 16 and microlenses 17 formed on a substrate 10 are covered with a coating 18 of a coating forming agent for pattern microfabrication, heating is carried out if needed.例文帳に追加

このマイクロレンズ形成方法は、基板１０上に形成されるマイクロレンズパターン１６やマイクロレンズ１７上をパターン微細化用被覆形成剤の被膜１８で被覆した後、必要に応じて加熱する。 - 特許庁

The specified temperature pattern has a heating-up process of raising the temperature at a rate of 3-10°C/min and a temperature keeping process of keeping the temperature in the range of 600-900°C for 0.5-1.0 hours.例文帳に追加

また、上記の温度パターンとして、３〜１０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温する昇温過程と、６００〜９００℃の範囲内に０．５〜１．０時間保持する温度保持過程とを設ける。 - 特許庁

Then the processing of forming a solder bump 40 is performed by conveying the underboard 10 on which the IC chip 50 is mounted to a solder reflow furnace or the like and heating and melting solder 30A of the solder pattern 30.例文帳に追加

次に、ＩＣチップ５０を装着した半田転写用アンダーボード１０を半田リフロー炉等に搬送し、半田パターン３０の半田３０Ａを加熱溶融して半田バンプ４０を形成する処理を行う。 - 特許庁

When conveyance by one line of a printing paper is carried out by two-step driving of a pulse motor, excitation by an excitation pulse pattern to the heating resistor is repeated two times synchronously with each driving pulse of the pulse motor.例文帳に追加

そして、プリント用紙の１ライン分の搬送を、パルスモータの２ステップ駆動で行う場合に、パルスモータの各駆動パルスに同期して、発熱抵抗体に対する通電パルスパターンによる通電を２回繰り返す。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which prevents spreading of chemical atmosphere that may occur during chemical processing and efficiently processes a pattern formation surface of a substrate with a heated fluid while heating the substrate.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、基板を加熱しながら加熱流体により基板のパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁