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laser methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 13159



例文

This printing method comprises a step for forming a glossy plated layer on the surface of a metal plate 5, a step for forming unevenness on the surface of the glossy plated layer so that the concentration of reflection is ≤0.7, and a step for forming the printed surface 6 by irradiating the laser beam on the surface of the plated surface with the unevenness formed thereon to melt the irradiated portion.例文帳に追加

金属板5の表面に光沢のメッキ層を形成する工程と、光沢メッキ層の表面に反射濃度を0.7以下とする凹凸に形成する工程と、その凹凸が形成されたメッキ層表面にレーザ光を照射させ、その部分を溶融して印字面6を形成する工程とからなる印字方法である。 - 特許庁

To provide a photo-polymerizable planographic printing plate being highly sensitive, further causing no trip of thin lines and tittles even when ink on the plate surface is removed with a plate cleaner or a large amount of printing is carried out, excellent in abrasion resistance, hardly causing contamination and directly laser addressed owing to firm adhesive force between a photosensitive layer and a supporting body and to provide a method for treating the same.例文帳に追加

本発明の目的は、強固な感光層と支持体の密着力により、高感度で、かつプレートクリーナーで版面のインキを除去、あるいは多量の印刷を行っても、細線や小点が飛ばず、耐刷性にも優れ、汚れが出にくい直接レーザー書き込み可能な光重合性平版印刷版とその処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element whereby warpage of a wafer is reduced to a degree not causing a problem on device characteristics and handling of the wafer when a semiconductor layer is selectively grown on a mask by ELO growth, and a semiconductor laser by which warpage of the wafer is reduced in the case of LD while a dislocation density of a stripe light-emitting part is reduced.例文帳に追加

ELO成長によりマスク上に半導体層を選択成長する場合に、ウェハの反りをデバイス特性やウェハのハンドリングに支障がない程度に小さくし得る半導体発光素子の製法およびLDにする場合にストライプ状発光部の転位密度を小さくしながら、ウェハの反りを抑制する半導体レーザを提供する。 - 特許庁

The welding method includes: a welding treatment that welds a base material; and a heating treatment in which the temperature of a heat-affected zone of a welded part welded by the welding treatment becomes less than a temperature range of tempering, then the heat-affected zone is heated at the temperature range of tempering by laser radiation at a stage in which welding is not performed at the welded part other than the welding treatment.例文帳に追加

本発明の溶接方法は、母材を溶接する溶接処理と、溶接処理で溶接された溶接部の熱影響部の温度が焼戻しの温度範囲未満となった後に、溶接部に溶接処理とは別に溶接が施されていない段階で、熱影響部をレーザ照射によって焼戻しの温度範囲に加熱する加熱処理と、を有する。 - 特許庁

例文

To provide a method for butting objects to be welded capable of surely welding the end faces between works to each other by an extremely fine laser beam and of preventing the weld flaw occurring in the degradation in the dimensional accuracy and positioning accuracy of the works by improving the adhesion property of the end faces among the fore-stage work, the middle- stage work and the rear-stage work to each other.例文帳に追加

前段ワーク、中段ワーク及び後段ワーク間の端面同士の密着性を向上させて各ワーク間の端面同士を極めて細いレーザ光により確実に溶接でき、ワークの寸法精度や位置決め精度の低下に起因する溶接不良を防止することができる被溶接物突合わせ方法を提供すること。 - 特許庁


例文

To provide a method of the subject non-contact measurement of high accuracy through such a procedure that a test sample of strand-shaped textile product is irradiated with laser beams within the measurement region for a beam source and the resulting beams are focused within the sensor region of a receiver where the dispatched signal is transformed to a measurement corresponding to the dimension of the test sample.例文帳に追加

ストランド形状の繊維製品の無接触測定方法であって、被検物4をビーム源1の測定領域内において照射し、センサセルを有している受信装置5のセンサ領域に結像し、個々のセンサセルによって発生された信号を被検物の寸法に対する測定値に変換する形式の方法を、精度が高められるようにする。 - 特許庁

A pattern corresponding to a required printing pattern is formed of an image forming resist film 4 by a lithography process on a metal substrate 1', and after the metal of a part except a pattern region on the metal substrate face on which the pattern is formed of the image forming resist film 4 is partly etched, the mesh 3 is formed on the partly etched region by a laser processing method.例文帳に追加

金属基板1’にリソグラフィー法により所望の印刷パターンに対応するパターンを画像形成レジスト膜4で形成し、画像形成レジスト膜4でパターンを形成した金属基板面のパターン領域以外の部分の金属を部分エッチングした後、該部分エッチングされた領域にレーザー加工法により網目3を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

Even a raw material for film formation such as aluminum and copper whose film were formed in a vacuum chamber by a conventional laser CVD method because of safety against raw material gas can be made into a film safety without the vacuum chamber, and various metal single bodies or alloys, metal oxides, and metal nitrides can be selected as raw materials film formation over a wide range.例文帳に追加

従来のレーザCVD法では原料ガスの安全性という観点から真空室内で成膜していたアルミニウムまたは銅などの成膜用原料であっても、真空室なしで安全に成膜することができ、成膜用原料として種々の金属の単体あるいは合金、金属酸化物または金属窒化物を広範囲に選択可能となる。 - 特許庁

The organic photoreceptor used in the image forming method having an exposure process of forming the electrostatic latent image using the semiconductor laser of 350 to 500 nm in oscillation wavelength on the organic photoreceptor or the light emitting diode as a write light source contains a metal phthalocyanine dimer as a charge generating material.例文帳に追加

有機感光体上に発振波長が350〜500nmの半導体レーザ又は発光ダイオードを書込み光源とし、静電潜像を形成する露光工程を有する画像形成方法に用いられる有機感光体において、電荷発生物質として金属フタロシアニン二量体を含有することを特徴とする有機感光体。 - 特許庁

例文

In the method for recording information on an optical recording medium by forming a plurality of recording marks selected from the group of a plurality of kinds of recording marks different from one another in length in the optical recording medium, the information recording is carried out by setting a ground power of a laser beam during a cooling period higher than that during the other period.例文帳に追加

互いに長さの異なる複数種類の記録マークからなる群より選ばれた複数の記録マークを光記録媒体に形成することによって情報を記録する光記録媒体への情報記録方法であって、冷却期間におけるレーザビームの基底パワーを他の期間における基底パワーよりも高く設定して前記情報の記録を行う。 - 特許庁

例文

The smear removing method comprises (a) a process of applying an ultraviolet laser beam to the insulating resin layer of a workpiece having an insulating resin layer coating a metal-made inner wiring layer for the formation of a via hole in the insulating resin layer, and (b) a process of removing smears residual on the via hole bottom floor by exposure to rare gas plasma.例文帳に追加

スミアの除去方法は、(a)金属からなる内層配線層を被覆する絶縁樹脂層を有する加工対象物の該絶縁樹脂層に紫外レーザを照射して前記絶縁樹脂層にビアホールを形成する工程と、(b)前記ビアホールの底面に残留するスミアを、希ガスのプラズマに晒して除去する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a gas concentration measurement method and a measurement device with which the concentration of gas generating in a sealed container such as a boiler, a garbage incinerator, a combustion chamber of a combustion engine or exhaust gas discharged from the sealed container to the outside can be measured by using laser light and the concentration of a plurality of gases can be efficiently measured with using a simple system.例文帳に追加

ボイラー、ごみ焼却炉、燃焼機関の燃焼室等の密閉容器内に発生するガス、あるいは該密閉容器から外部に排出されるガス等のガス濃度を、レーザ光を用いての測定であって、複数種のガス濃度を、効率よく簡単なシステムで計測可能とするガス濃度計測方法および計測装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the method for producing the sheet junction body, while sheet members (10 and 11) are adhered to each other and sprayed with gas (G) to form an adhesion part (40), the adhesion part (40) is irradiated with laser beams (R) to produce the sheet junction body (12) by joining the sheet members (10 and 11) together.例文帳に追加

シート部材(10、11)どうしを密着させて密着部(40)を形成するように前記シート部材にガス(G)を吹き付けつつ、前記密着部(40)にレーザー光(R)を照射することにより、前記シート部材(10、11)どうしを接合させてシート接合体(12)を作製することを特徴とするシート接合体の製造方法による。 - 特許庁

In this method, a glass having a color pattern of an arbitrary shape therein and the trace of the condensed point being colored at least in two colors is manufactured by irradiating and condensing a pulse laser light of a specified wave length inside the glass containing an Au ion with not less than two specified peak power densities while moving the condensed point, then heating the glass.例文帳に追加

Auイオンを含有するガラス内部に、所定の波長のパルスレーザ光を集光点を移動させながら、二以上の所定のピークパワー密度でガラス内部に集光照射した後、該ガラスを加熱することにより、集光点の軌跡が二以上の色に着色した、内部に任意の形状のカラーパターンを有するガラスを作製する。 - 特許庁

In this method, an electrode material provided with a corner of 90° or an acute angle at a distal end is formed on a substrate, a micro electrode is formed by separating a part of the corner of the acute angle by irradiating the electrode material with laser light, and a gap of a nano-scale is formed between the micro electrode and the remaining electrode main body.例文帳に追加

先端が90度又は鋭角である角を備えた電極材料を基板上に形成し、この電極材料にレーザー光を照射して、鋭角の角の一部を切り離して微小電極を形成すると共に該微小電極と残余の電極本体との間にナノスケールのギャップを形成するナノギャップ電極の製造方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin structure for flexographic printing capable of giving a print according to negative data without forming an unintended relief image in a plate making process in which a negative converted into digital information is used for direct pattern formation with an IR laser without using a negative film and to provide a method for manufacturing such structures in a good yield.例文帳に追加

ネガフィルムを用いることなく、デジタル情報となったネガチブを赤外線レーザーを用いて直接描画する製版プロセスにおいて、本来意図しないレリーフ像を形成させず、ネガチブデータ通りの印刷物を得ることを可能とするフレキソ印刷用感光性樹脂構成体および、その歩留まりのよい製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of forming a mark made of a non-single-crystalline reformed layer inside a back surface of a semiconductor wafer by irradiating the semiconductor wafer with laser light from the back surface; and exposing the reformed layer by subjecting the back surface of the semiconductor wafer to polishing or grinding processing after the process of forming the mark.例文帳に追加

半導体ウェーハの背面からレーザ光を照射して、前記半導体ウェーハの背面より内部に非単結晶質の改質層からなるマークを形成する工程と、前記マークを形成する工程の後に、前記半導体ウェーハの背面を研磨或いは研削処理して前記改質層を表出させる工程を設ける。 - 特許庁

In a method for detecting the conveyance amount of the strip-shaped plate glass G with the device 100, when information showing the diameter of the roller 102 measured with the laser displacement gauge 104 is output to the controller, the controller compares the diameter with the prestored gauge diameter of the roller 102 to thereby determine a variation in the diameter of the roller 102.例文帳に追加

搬送量検出装置100による帯状板ガラスGの搬送量検出方法は、レーザ変位計104によって計測されたローラ102の径寸法を示す情報が制御装置に出力されると、制御装置は、その径寸法とあらかじめ記憶されているローラ102の基準径寸法とを比較して、ローラ102の径の変化量を求める。 - 特許庁

The method of manufacturing an optical board may include (a) a stage of stacking an optical waveguide core layer over a first optical waveguide cladding layer, (b) a stage of forming an inclined surface by diffracting a laser with a mask to remove a portion of the optical waveguide core layer, and (c) a stage of stacking a reflective layer over the inclined surface.例文帳に追加

本発明による光基板製造方法は、(a)第1光導波路クラッド層の上面に光導波路コア層を積層する段階と、(b)レーザーをマスクで回折させて前記光導波路コア層の一部を除去することにより傾斜面を形成する段階と、(c)前記傾斜面に反射層を積層する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method or device can form one or more of images using one or more of laser beams, in order to change an electrostatic charge on a photoreceptor, inspects the completeness of one or more sets of images generated by attenuation of an electric field in the photoreceptor, in the one or more of images, and can compensate the attenuation of the electric field.例文帳に追加

この方法または装置は、光受容体上の静電荷を変えるために、1つ以上のレーザビームを使用して1つ以上の画像を形成し、光受容体内における電界の減衰によって生じる1つ以上のセットの画像完全性の検査を1つ以上の画像に対して実施し、また、電界の減衰を補償することができる。 - 特許庁

In this method for measuring a quantity of an impurity in a gas sample filled in an analytical cell 12 for laser absorption spectroscopic analysis, a characteristic representative value in absorption of the gas sample is calculated under prescribed pressure, and the quantity of the impurity is determined quantitatively based on a preliminarily defined formula with respect to change of a characteristic as a function of the impurity.例文帳に追加

レーザー吸収分光分析の分析セルを充満させたガス試料中の不純物量を測定するこの方法は、所与圧力で、ガス試料の吸収の特性代表値を計算し、不純物量の関数としての特性の変化に対してあらかじめ定められた法則に基づいて不純物を定量化することにある。 - 特許庁

This method of controlling a playback condition includes a step of continuously irradiating an optical disk with a laser beam having a power level lower than a mark formation level and detecting a change of a state of a signal caused by a return light from the optical disk, and a step of changing and setting a playback condition for the optical disk according to the change of the state of the signal.例文帳に追加

本願の再生条件制御方法は、光ディスクに対してマーク形成レベルより低いパワーレベルのレーザを連続的に照射し、光ディスクからの戻り光による信号状態の変化を検出するステップと、信号状態の変化に応じて、光ディスクに対する再生条件を変更して設定するステップとを含む。 - 特許庁

The method for analysis of the compound having a polyoxyalkylene group includes the steps of: analyzing the compound having the polyoxyalkylene group by using matrix-assisted laser desorption ionization mass spectrometry (MALDI MS); and analyzing the compound having the polyoxyalkylene group by using liquid chromatography (LC)/atmospheric pressure ionization mass spectrometry (API MS).例文帳に追加

ポリオキシアルキレン基を有する化合物の分析方法は、マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法(MALDI MS)を用いて、ポリオキシアルキレン基を有する化合物を分析する工程と、液体クロマトグラフィー(LC)/大気圧イオン化質量分析法(API MS)を用いて、ポリオキシアルキレン基を有する化合物を分析する工程を有する。 - 特許庁

The method of forming the thin film transistor using the crystalline semiconductor film purposely terminates the surface of a non single crystal semiconductor film by hydrogen, and forms the crystalline semiconductor film by irradiating a laser beam to the non single crystal semiconductor film under atmosphere containing at least oxygen.例文帳に追加

本発明に係る結晶性半導体膜を用いた薄膜トランジスタの作製方法は、意図的に非単結晶半導体膜の表面を水素にて終端させ、少なくとも酸素を含有する雰囲気において、前記非単結晶半導体膜に対してレーザービームを照射することにより、前記結晶性半導体膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The oxide phosphor epitaxial film is obtained by forming a film on a substrate at a temperature of 600-800°C by epitaxial growth using an oxide phosphor material as a target material by the pulse laser accumulation method and subjecting the film thus formed to heat treatment in oxygen or in the air at 900-1,200°C to improve fluorescence properties.例文帳に追加

酸化物蛍光材料をターゲット材料としてパルスレーザー堆積法によって、600℃以上800℃以下の温度でエピタキシャル成長により基板上に薄膜が形成し、前記薄膜の形成後、酸素中または大気中で900℃以上1200℃以下の熱処理によって蛍光特性を向上させたことを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜である。 - 特許庁

This RNA sequence determination method comprises subjecting a sample containing RNA to a Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight mass spectrometer using 2,4-dihydroxyacetophenone as a matrix to obtain a fragment ion group originated from the RNA by ISD and then analyzing the sequence of the RNA on the basis of a mass difference between the ion peaks of the fragment ion group.例文帳に追加

RNAを含む試料を、2,4−ジヒドロキシアセトフェノンをマトリクスとしたマトリクス支援レーザー脱離イオン化−飛行時間型質量分析に供し、ISDにより前記RNA由来のフラグメントイオン群を得て、前記フラグメントイオン群のイオンのピーク間の質量差に基づいて前記RNAの配列解析を行う、RNA配列決定法。 - 特許庁

To provide a MEMS measurement method for similarly measuring oscillation states at a predetermined point of time at many measuring points of MEMS by simultaneously irradiating many parts of the oscillated MEMS with a laser beam and for exactly grasping the oscillation states of respective parts of the MEMS by excluding an influence of an excitation part side to the MEMS.例文帳に追加

振動させたMEMSの多数の箇所に同時にレーザ光を照射して、MEMSの多数の測定点における所定時点の振動状態を同様に測定できると共に、MEMSに対する起振部側の影響を排除して、MEMS各部の振動状態を正確に把握できるMEMS測定方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of a grayscale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

To provide an optical measuring method and an optical measuring device of fine particles having high accuracy in fluorescence correction and in data analysis, performing highly reliable measurement, and reducing a damage and deterioration of the fine particles caused by laser light, even when detecting a plurality of fluorescence or scattered lights having a large difference of the brightness level.例文帳に追加

輝度レベルの差が大きい複数の蛍光又は散乱光を検出する場合でも、蛍光補正及びデータ解析における精度が高く、信頼性が高い測定が可能で、かつレーザ光による微小粒子のダメージ及び変質を低減することができる微小粒子の光学的測定方法及び光学的測定装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of an organic electroluminescent element is characterized by comprising: a step for providing a substrate with pixel electrodes formed; a step for laminating the donor substrate attached to a frame on the entire surface of the substrate; and a step for forming an organic film layer pattern on the pixel electrodes by radiating laser in a predetermined area of the donor substrate.例文帳に追加

本発明による有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にフレームに付着されたドナー基板をラミネーションする段階と、前記ドナー基板の所定領域にレーザーを照射して前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing the substantially unflat snack food with patterns comprises slicing food to form slices each having a cut flat surface, cutting and forming desired patterns on the cut flat surface of the slices using a laser apparatus or a hot iron, and frying the slices so as to make the slices substantially unflat.例文帳に追加

本発明による実質的に平坦でない、模様付きのスナック菓子を製造する方法は、食物をスライスして、切断平坦面を有するスライス片を形成し、該スライス片の切断平坦面にレーザー装置又は焼き鏝を用いて所望の模様を切除形成し、前記スライス片をフライして、実質的に平坦でなくすることを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a semiconductor laser apparatus including a dielectric material film to at least a part of the compound semiconductor surface, the dielectric material film includes at least silicon nitride and oxygen as the elements, and a ratio of oxygen in the dielectric material film to the number of secondary ions of silicon to be detected by the secondary ion mass analysis method is 0.01 or larger.例文帳に追加

化合物半導体表面の少なくとも一部に誘電体膜を有する半導体レーザ装置において、前記誘電体膜は成分として少なくとも窒化シリコンと酸素を有し、二次イオン質量分析法により検出される前記誘電体膜中の酸素とシリコンの二次イオン数の比が0.01以上であることを特徴とする。 - 特許庁

This method for measuring the shrinkage of the coke after the carbonization with the test coke oven measures horizontal distances from the oven inner wall of the coke oven to the surface of the coke 3 after the carbonization with a non-contact type laser displacement gauge 2 in a prescribed area range at a prescribed pitch and then determining the shrinkage of the coke from the average value of the horizontal distance measurement values.例文帳に追加

乾留後のコークス収縮量を試験コークス炉を用いて測定する方法において、コークス炉の炉壁内面から石炭乾留後のコークス3の表面までの水平距離を非接触のレーザ変位計2を用いて、所定面積範囲において、所定ピッチで測定し、その水平距離測定値の平均値からコークス収縮量を求める。 - 特許庁

In the method and device, when performing overwrite on the re-writable optical disk, the old data are trial-erased by irradiating continuously the part of information recording area of the rewritable optical disk where the old data are recorded with a laser beam of erasing power of a plurality of steps (for example, 15 steps) while gradually changing the erasing power by a prescribed amount.例文帳に追加

書換型光ディスクにオーバーライトする(上書き)する際に、書換型光ディスクの情報記録領域の旧データが記録された部分に、所定量ずつ消去パワーを変化させながら複数段階(例えば15段階)の消去パワーのレーザ光を連続的に照射して、書換型光ディスクに記録された旧データを試し消去する。 - 特許庁

To provide a module for an integrated optical pickup and an integrat ed optical pickup using the module with which the irradiation distance of a plurality of semiconductor laser beams of a conventional type is spuriously brought closer by making use of a reflective face, with a simple method suitable for a mass production realized at a low cost.例文帳に追加

通常の構造の半導体レーザを用いて複数の半導体レーザの発光点間隔を反射面を利用して擬似的に近接させることが可能で、量産に適した簡便な方法でしかも低コストに実現することが可能な集積型光ピックアップ用モジュールおよび該モジュールを用いた集積型光ピックアップを提供すること。 - 特許庁

To provide a heat developable silver halide photosensitive material for a laser imager having high sensitivity, free from unnecessary coloring in the visible region and having low fog, good sharpness and raw stock preservability, a heat developable silver halide photosensitive material for image setter output having an excellent silver tone and high contrast and an image forming method using each of the photosensitive materials.例文帳に追加

高感度で可視に不要な着色が無くカブリが低く、感光材料の鮮鋭性及び生保存性が良好なレーザーイメージャー用熱現像ハロゲン化銀感光材料、及び優れた銀色調及び高い硬調性を有し、イメージセッター出力用の熱現像ハロゲン化銀感光材料とそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to: the transparent member for constituting the finder optical system, having a scattering face in its inside; and the method for manufacturing the transparent member that forms a scattering face by fine cracks caused by a nonlinear absorption phenomenon of a transparent base material generated when converging a laser beam of high intensity in the inside of the transparent member to be irradiated therewith.例文帳に追加

ファインダー光学系を構成する、内部に散乱面を有する透明部材、及び高強度のレーザ光を前記透明部材の内部に集光させて照射した時に生じる前記透明基材の非線形吸収現象に起因する微細なクラックにより前記散乱面を形成することを特徴とする透明部材の製造方法。 - 特許庁

A marking method comprises: a step (a) where a marking work W made of single crystal silicon carbide is prepared; and a step (b) where pulse laser light is made incident on the prepared marking work W, thus a modified region having optical properties to visible light different from those of the remaining region is formed on the surface of the marking work W.例文帳に追加

マーキング方法は、(a)単結晶の炭化ケイ素からなるマーキング対象物Wを準備する工程と、(b)準備したマーキング対象物Wにパルスレーザ光を入射させることにより、該マーキング対象物Wの表面に、可視光に対する光学特性が残余の領域とは異なる改質領域を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a gravure printing plate, wherein the surface of cells is smoothened without changing the volumes of the cells, which affects a printing density, and its manufacturing method, in which the removability of a residual ink at the cleaning of a plate after printing is enhanced and consequently the stability at a repeated printing is ensured especially under the condition that a laser engraving system is employed.例文帳に追加

特にレーザー彫刻方式によるグラビア印刷版で、印刷後の版の洗浄時の残インキの除去性を高め、繰り返し印刷時の安定性を確保することが出来るグラビア印刷版とその製造方法であって、印刷濃度に影響するセルの容積を変えないでセル表面を平滑化したグラビア印刷版とその製造方法の提供にある。 - 特許庁

In this fixed state, a separation layer 170 is previously formed by laser irradiation or the like between the one substrate 130 and the film 150 on the one substrate 130, after the separation layer is formed, the films or the film and the substrate are joined in the fixed state by heating and pressurizing method or the like, and after joining, the one substrate 130 is peeled by the separation layer 170.例文帳に追加

この固定状態で、一方の基板130と一方の基板130上の膜150との間にレーザ照射などで分離層170を予め形成し、分離層形成後、固定状態で膜同士または膜と基板を加熱加圧法などで接合し、接合後、分離層170で一方の基板130を剥離する。 - 特許庁

In a method of removing a resin burr 13 adhered to the rear surface of a die pad 10 from a semiconductor device 12 in which the die pad 10 is exposed on the rear surface of a package 11, the rear surface side of the die pad 10 to which the resin burr 13 is adhered is irradiated with a laser, the resin burr 13 is removed by electrolytic degreasing after carbonizing the resin burr 13.例文帳に追加

ダイパッド10がパッケージ11裏面に露出する半導体装置12から、ダイパッド10の裏面に付着した樹脂バリ13を除去する方法であり、樹脂バリ13が付着しているダイパッド10の裏面側にレーザーを照射し、樹脂バリ13を炭化させた後、樹脂バリ13を電解脱脂により除去する。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes exposing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing polymer (A), an ethylenically unsaturated compound (B), a photopolymerization initiator (C) and at least one compound (D) selected from perylene, naphtho[2,3-a]pyrene, benzopyrene, dibenzo[b,def]chrysene and 9,10-diphenylanthracene with a laser exposer having an exposure wavelength of 390-420 nm.例文帳に追加

カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、ペリレン、ナフト〔2,3−a〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔b,def〕クリセン、9,10−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも1種の化合物(D)を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 - 特許庁

An optical disk recording method includes a step of determining whether the optical disk to be a writing object is formed by using the organic dye and a control step of controlling a laser so that space forming power Ps required for space formation is made lower than bias power Pbw when the optical disk is determined as the optical disk formed by using the organic dye.例文帳に追加

本光ディスク記録方法は、書き込みを行う対象の光ディスクが有機色素を用いた光ディスクであるか判断するステップと、当該光ディスクが有機色素を用いた光ディスクであると判断された場合には、スペース形成に必要なスペース形成パワーPsが、バイアスパワーPbwより小さくなるようにレーザを制御する制御ステップとを含む。 - 特許庁

The device processing method for improving the bending strength of devices formed by dividing a semiconductor wafer includes irradiating the outer circumference of a device with a pulsed-laser beam having a pulsewidth of ≤2 ns and a peak energy density of 5-200 GW/cm^2 and having absorbability to the device to apply chamfering processing.例文帳に追加

半導体ウエーハを分割することで形成されたデバイスの抗折強度を向上させるデバイスの加工方法であって、デバイスの外周にパルス幅が2ns以下であり、ピークエネルギー密度が5GW/cm^2〜200GW/cm^2のデバイスに対して吸収性を有する波長のパルスレーザビームを照射して面取り加工を施すことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an optical head adjusting device capable of accurately adjusting the application angle of a laser beam to an optical disk even by adjusting the angle of an actuator to a slide base without using members unnecessary after the adjustment of the optical head even when components are reduced, and an optical head adjusting method using the same.例文帳に追加

光ヘッドの調整後に不要となる部材を用いることなく、アクチュエータのスライドベースに対する角度を調整することで、構成部材を減らしても、光ディスクへのレーザ光の照射角度を正確に調整することができる光ヘッド調整装置及びこの光ヘッド調整装置を用いた光ヘッドの調整方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a multilayer wiring board includes a preparation step for preparing a sheet-like core insulation material 13 having a thickness of 100 μm or less, and a boring step for forming a through hole 16 opening to the main surface 14 and the rear surface 15 of the core by performing laser boring for the core insulation material 13.例文帳に追加

本発明の多層配線基板の製造方法では、準備工程において、厚さが100μm以下であるシート状のコア絶縁材13が準備され、穴あけ工程において、コア絶縁材13に対してレーザ穴加工が施されてコア主面14及びコア裏面15にて開口するスルーホール用穴16が形成される。 - 特許庁

In the aluminum welding method for welding a thin aluminum sheet at a high speed, the welding positions of aluminums 2a, 2b are irradiated with a laser diode beam which is absorbed at a high absorption rate by aluminum to melt the welding positions, and an MIG (metal inert gas) arc is generated between the molten welding positions and a welding wire 5 of an MIG welding power source to carry out welding.例文帳に追加

アルミニウム2a、2bの溶接位置にアルミニウムに対する吸収率の高いレーザダイオード光を照射して溶接位置を溶融し、上記溶融された溶接位置とMIG溶接電源の溶接ワイヤ5との間にMIGアークを発生させて溶接を行うアルミニウムの溶接方法であって、薄板のアルミニウムを高速で溶接する溶接方法。 - 特許庁

To provide a gravure platemaking factory in which 20 to 40 rolls to platemake are, for example, sequentially measured in the evening, a method and contents of the platemaking are data-input to a controller, stocked in a platemaking chamber, a laser platemaking and/or engraving platemaking can be fully automatically performed at night without operator, and the plate-made plate rolls can be rapidly removed in the next morning.例文帳に追加

夕方に例えば20本ないし40本の被製版ロールを次々に計測して製版の方法とコンテンツをコントローラにデータ入力して製版室内にストックしておいて、夜間に無人で全自動でレーザー製版及び/または彫刻製版を行うことができ、翌朝に製版済の版ロールを迅速に取り出すことができる,グラビア製版工場。 - 特許庁

In a manufacturing method of an optical information recording medium, one or more first prepits 42A used for adjusting at least output of laser light for recording and/or reproduction of a first information recording layer 14 are formed in a system lead-in area 24A disposed in an innermost peripheral part of a first substrate and the first information recording layer 14 is formed on the first substrate.例文帳に追加

第1基板の最内周部分に配置されたシステム・リードイン領域24Aに、第1情報記録層14に対する記録及び/又は再生用のレーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第1プリピット42Aを形成し、第1基板上に第1情報記録層14を形成する。 - 特許庁

例文

This method of manufacturing a nitride semiconductor device includes the steps of forming a stripping layer including In on a substrate, forming a nitride semiconductor layer on the stripping layer, causing the decomposition of the stripping layer by increasing a temperature of the stripping layer, irradiating the stripping layer with a laser beam, and separating the nitride semiconductor layer from the substrate.例文帳に追加

窒化物系半導体素子の製造方法は、Inを含む剥離層を基板上に形成する工程と、剥離層上に窒化物系半導体層を形成する工程と、剥離層の温度上昇によって剥離層の分解を生じる工程と、レーザ光を剥離層に照射する工程と、基板から窒化物系半導体層を分離する工程とを含む。 - 特許庁




  
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