「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(196ページ目) - Weblio英語例文検索

The inkjet recording medium includes: a porous resin layer that has holes in order from a supporter on the supporter and contains an inorganic particle and resin whose volume average particle size is 0.20 μm or less; and an ink absorbing layer with thickness of 6-20 μm that contains the inorganic particle, water-soluble resin and mordant.例文帳に追加

支持体上に該支持体側から順に、孔を有し、体積平均粒子径が０．２０μｍ以下の無機微粒子及び樹脂を含む多孔質樹脂層と、無機微粒子、水溶性樹脂、及び媒染剤を含み、厚みが６〜２０μｍであるインク受容層とを有している。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing ultra-low carbon steel having excellent material uniformity in the thickness direction, in which the ultra-low carbon steel with the constant carbon concentration from a surface layer to the inner side is manufactured while suppressing decarburization and carburization of the slab surface layer part when heating a slab of the steel in a wide carbon containing range.例文帳に追加

広い炭素含有範囲の鋼のスラブの加熱時においてスラブ表層部の脱炭および浸炭を抑制して、表層から内部まで炭素濃度が一定になった低炭素鋼材を製造することができる、材質均一性に優れた低炭素鋼材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The over cladding layer 3 is formed of a hardened body of a resin composition mainly comprising an ultraviolet curable resin and containing disturbance light absorbing pigments, and the thickness from the top face of a core 2 to the surface of the over cladding layer 3 is set to be 100 μm or more.例文帳に追加

オーバークラッド層３は、紫外線硬化性樹脂を主成分とし、外乱光を吸収する色素を含有する樹脂組成物の硬化体からなっているとともに、コア２の頂面からオーバークラッド層３の表面までの厚みが１００μｍ以上に設定されている。 - 特許庁

On a surface of the bulk silicon wafer substrate 1', an insulator layer 2 is formed by etching back the dielectric insulating layer 2' in its thickness direction for forming each active area 10 being exposed so as to project a body region of the field effect transistor in a shape of fin portions 3 and 5.例文帳に追加

バルクシリコンウエハ基板１’の表面上において、各活性エリア１０を電界効果トランジスタの本体領域をフィン部３、５の形状で突出するように露出させて形成するために、誘電性絶縁部層２’を厚さ方向にエッチバックして絶縁体層２を形成する。 - 特許庁

To provide such a method for modifying the surface of a resin as forms a modification layer which has an extremely thin thickness and which is good in adhesion to a resin substrate and excellent in durability, with no other layer intervening on the resin substrate; and a surface-modified resin substrate obtained by this method.例文帳に追加

樹脂基材上に、他の層を介在させることなく、樹脂基材との密着性が良好で耐久性に優れる、極めて薄い厚みの改質層を形成する樹脂表面改質方法、及び、この方法により得られる表面改質樹脂基材を提供する。 - 特許庁

For example, the insulating film is formed to have an adhesion bond layer in at least either one of the end portions of the film in the thickness direction, by using the two frequencies of the high frequency and the low frequency, and to have a low dielectric constant insulating film in a portion other than the adhesion bond layer, by lowering or zeroing the low frequency input.例文帳に追加

例えば絶縁膜は、厚さ方向における少なくともどちらか一方の端部が、高周波と低周波の２周波により密着層となり、密着層以外の部分は低周波の入力を低下あるいは０にすることで低誘電率絶縁膜となる。 - 特許庁

The plated steel sheet for hot stamp contains a component excellent in hardening property, and also contains Cr and Mo as AlN generation-suppressing components, and has an Al-Fe alloy layer of a thickness of 10-45 μm on the surface of the steel sheet, wherein the amount of AlN in the surface of the alloy layer is suppressed to 0.01-1 g/m^2.例文帳に追加

焼入性に優れた成分を有し、かつＡｌＮ生成抑制成分としてＣｒ、Ｍｏを含有する鋼板の表面に、厚みが１０〜４５μｍのＡｌ−Ｆｅ合金層を有し、該合金層表面のＡｌＮを０．０１〜１ｇ／ｍ^２に抑制したホットスタンプ用めっき鋼板。 - 特許庁

The method for manufacturing the blade member includes a step of forming a layer by extrusion solidifying a raw material of the blade member to a uniform film thickness on a surface transfer sheet of a charge control surface, and a step of cutting the layer in a shape of the blade member.例文帳に追加

本発明によるブレード部材の製造方法は、電荷制御面の面転写用シート上に、ブレード部材の原料を均一膜厚に押出し固化させて層を形成する工程、および、該層をブレード部材の形状に切断する工程を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

In such a semiconductor device, a depletion layer 106 is formed in the low-density P-type silicon substrate 101 below the inductor 105 along the thickness direction from the upper surface of the silicon substrate 101, so that the eddy current induced by a current flowing to the inductor 105 is blocked by the depletion layer 106.例文帳に追加

このような半導体装置では、インダクタ105下方の低濃度P型シリコン基板内101にシリコン基板101の表面から厚み方向に空乏層106が形成されているため、インダクタ105を流れる電流によって誘起される渦電流は空乏層106によって遮断される。 - 特許庁

At the same time, a PMOS transistor comprising a distorted Si layer 14b having a second film thickness thinner than that of the layer 14a is formed in a second region of the substrate 11 delimited by the region 21.例文帳に追加

一方、素子分離絶縁領域２１によって画定された上記積層基板１１の第２の領域には、上記歪Ｓｉ層１４ａよりも膜厚の薄い、第２の膜厚を有する歪Ｓｉ層１４ｂを備えるＰＭＯＳトランジスタが形成されてなる構成となっている。 - 特許庁

The structures in the range of 2 to 30% of the sheet thickness in both surface layer parts in this steel sheet contain ≥50% equi-axed ferrite and ≥5% martensite, and the structures other than those of the surface layer parts contain ≥50% equi-axed ferrite and ≤5% martensite and/or bainite.例文帳に追加

鋼板の両表層部の板厚の２〜３０％の範囲における組織が５０％以上の等軸状フェライト及び５％以上のマルテンサイトを含み、かつ表層部以外の組織は５０％以上の等軸状フェライト及び５％以下のマルテンサイト及び／又はベイナイトを含む２層組織鋼板。 - 特許庁

A gate spacer oxide layer (40) is formed on a semiconductor substrate (10) at least at the same thickness as a gate electrode (22), wherein the gate spacer oxide layer (40) partly fills a reverse T-shaped opening (34) from upward to downward and an air gap spacer (46) is formed close to the bottom of the reverse T-shaped opening (34).例文帳に追加

半導体基板（10）の上にゲートスペーサー酸化物層（40）をゲート電極（22）と少なくとも同じ厚さに形成し、ここでゲートスペーサー酸化物層（40）が逆Ｔ字形開口（34）を上方から下方に部分的に満たし、エアギャップスペーサー（46）が逆Ｔ字形開口（34）の底部に近接して形成される。 - 特許庁

Micromachining properties which have not attained heretofore are realized by designing the adhesive film to be constituted of a releasable protective film and, laminated thereon, an adhesive layer which is composed of a solvent-soluble thermoplastic polyimide, an epoxy resin and a curing agent and can be bonded at 200° C or lower and designing the adhesive layer to have a thickness of 10 μm or less.例文帳に追加

離型性を有する保護フィルムの上に溶媒可溶性熱可塑性ポリイミド，エポキシ樹脂および硬化剤からなる２００℃以下で接着可能な接着剤層を積層した構成を有し、接着層厚みを１０μｍ以下にすることで従来にない微細加工性を実現する。 - 特許庁

To stabilize the surface state of an interface layer to a lower electrode as an underlayer of a capacitance insulating film formed of a metal oxide and also control thickness of the interface layer, and moreover to surely supply oxygen at a lower temperature to the capacitance insulating film formed of the metal oxide.例文帳に追加

金属酸化物からなる容量絶縁膜の下地層となる下部電極との間の界面層の表面状態を安定化し且つ界面層の厚さを制御可能とし、また、金属酸化物からなる容量絶縁膜に低温で酸素補給を確実に行なえるようにする。 - 特許庁

In formula (1), ds is a film thickness (nm) of the protective layer; λ is a wavelength (nm) of light exposed to the light receiving element; ns is the index of refraction of the protective layer to the wavelength of the exposed light: and m is an integer of 1 or more.例文帳に追加

式（１） ２ｍ−１≦｛ｄｓ／（λ／４ｎｓ）｝≦２ｍ（上記式（１）中、ｄｓは前記保護層の膜厚（ｎｍ）を、λは前記受光素子に露光される光の波長（ｎｍ）を、ｎｓは前記露光される光の波長に対する前記保護層の屈折率を、ｍは１以上の整数を表す。） - 特許庁

A reproduced solid tire 26 is obtained by leaving a rubber layer 20 of a predetermined thickness forming a wear residue in a worn-out solid rubber tire 16 on the total circumference of a wheel 18, and integrally forming a room-temperature hardened type polyurethane elastomer layer 24 on a worn outer circumferential surface 22.例文帳に追加

磨耗したソリッドラバータイヤ１６における磨耗残となる所定厚さのラバー層２０が、ホイール１８全周に残るようにした状態において、その磨耗した外周面２２上に、常温硬化型のポリウレタンエラストマー層２４を一体的に形成することにより、再生ソリッドタイヤ２６を得る。 - 特許庁

The head module comprises a head chip 20 arranged with heating resistors 22, a nozzle sheet 13 on which nozzles 13a are formed, and a barrier layer 12 for forming an ink liquid chamber 14 wherein a particle spacer 17 composed of particles having a diameter not larger than the thickness of the barrier layer 12 is arranged between the head chip 20 and the nozzle sheet 13.例文帳に追加

発熱抵抗体２２を配列したヘッドチップ２０と、ノズル１３ａを形成したノズルシート１３と、インク液室１４を形成するためのバリア層１２とを備え、ヘッドチップ２０とノズルシート１３との間に、バリア層１２の厚さ以下の径の粒子からなる粒子スペーサー１７を配置した。 - 特許庁

When the insulating film 4 is formed, every other end face of internal electrode layers 2 is covered by the film 4, and 50-98% in the thickness direction at the end face of the ceramic layer 1 is covered by the film 4, thus preventing concentration of electric field in the ceramic layer 1 in the vicinity of the insulating film 4.例文帳に追加

絶縁膜４の形成において、内部電極層２の端面を１つ置きに被覆すると共に、セラミック層１の端面における厚さの方向の５０〜９８％を被覆する構造にして、絶縁膜４付近のセラミック層１における電界集中を防ぐ。 - 特許庁

Further, the semiconductor device manufacturing method comprises a step of simultaneously oxidizing the surface of the n-type semiconductor region and the surface of the semiconductor layer to form an oxide film having a film thickness relatively thicker on the surface of the n-type semiconductor region than on the surface of the semiconductor layer.例文帳に追加

また、半導体装置の製造方法は、ｎ形半導体領域の表面及び半導体層の表面を同時に酸化し、相対的に半導体層の表面上よりもｎ形半導体領域の表面上で膜厚が厚くなる酸化膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

The alloying layer 31 is formed by alloying by the formation of a metal layer whose thickness at the peripheral part is lager than that of the center, at the opening part of an insulating film, for example, by impinging a depositing beam having a distributed component of an angle of incidence.例文帳に追加

合金化層３１は、例えば、絶縁膜の開口部に、分布した入射角成分を有する蒸着ビームを入射させることによって中央部分の厚みが周辺部分の厚みよりも大きい金属層を形成し、合金化させることによって形成される。 - 特許庁

The laminated polyester film includes a coating layer of 0.04-0.15 μm in thickness which includes an acrylic resin as a main component on one side of a polyester film including an ultraviolet absorber and a coating layer containing a urethane resin having a polycarbonate structure on the other side.例文帳に追加

紫外線吸収剤を含有するポリエステルフィルムの一方の面に、厚さが０．０４〜０．１５μｍのアクリル樹脂を主体とする塗布層を有し、もう一方の面に、ポリカーボネート構造を有するウレタン樹脂を含有する塗布層を有することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

A catalyst, ie, the silver (I) salt promotes the polymerization of the 3,4-ethylene dioxythiophene to shorten a polymerization time, capable of forming a conductive layer polymer layer the required thickness and manufacturing a solid electrolytic capacitor excellent in an electrical property within a short period of time.例文帳に追加

銀（Ｉ）塩が触媒となって３，４−エチレンジオキシチオフェンの重合を促進するため、重合時間の短縮を図ることができるとともに、所望の厚さの導電層高分子層を形成することができ、電気的特性の良好な固体電解コンデンサを短時間で製造できるようになる。 - 特許庁

A transparent conductive film consists of a transparent conductive layer with a thickness of 10-500 nm formed by an ion plating method due to pressure gradient type discharge and the polythiophene type transparent conductive polymeric layer provided thereon.例文帳に追加

透明導電性フィルムの一面上に、透明導電層を圧力勾配型放電によるイオンプレーティング法により１０〜５００ｎｍの厚さに形成した後、その透明導電層上にポリチオフェン系透明導電性高分子層を設けたことを特徴とする透明導電性フィルム。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode catalyst layer keeping mechanical intensity, and having a high gas dispersion property in a pattern shape in a thickness direction to a polyelectrolyte membrane, and a high effective utilization factor of a catalyst, in an electrode catalyst layer for a solid polyelectrolyte fuel cell.例文帳に追加

固体高分子電解質型燃料電池用電極触媒層において、機械的強度を保ちつつ、高分子電解質膜に対して厚さ方向にパターン状にガス拡散性が高く、触媒の有効利用率が高い電極触媒層の製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical interference pigment includes an optical interference part obtained by laminating two or more polymer layers having different refractive indexes, in which a thickness perpendicular to a lamination layer is ≤5 μm, a longitudinal length in the lamination layer is 25-75 μm, and a length of a laminating shaft direction is 10-75 μm.例文帳に追加

屈折率が異なる２種以上のポリマー層を積層してなる光学干渉部を含み、積層厚み方向の厚さが５μｍ以下、積層長手方向の長さが２５〜７５μｍ、そして積層軸方向の長さが１０〜７５μｍであることを特徴とする光干渉性顔料。 - 特許庁

In the antiferromagnetically coupled (AFC) recording layer 20', the magnetizing moments 32, 34 of the two ferromagnetic thin films 22, 24' are oriented in antiparallel, and the product (Mrt) of the real residual magnetic flux density and the thickness of the AFC recording layer 20' is a difference between the Mrt values of the two ferromagnetic thin films.例文帳に追加

反強磁性的に結合した（ＡＦＣ）記録層２０‘においては、二つの強磁性薄膜２２，２４’の磁化モーメント３２，３４はアンチパラレルに配向され、そしてＡＦＣ記録層２０‘の実残留磁束密度−厚さの積（Ｍｒｔ）は二つの強磁性薄膜のＭｒｔ値の差である。 - 特許庁

In a polymeric resin laminated molded object consisting of a hard coat layer, a polymeric resin film having a thickness of 20-500 μm and a tensile modulus at least in one direction at 160°C of 200 MPa or more and a polymeric resin, the hard coat layer is thermally cured at 150°C or higher.例文帳に追加

ハードコート層と、厚みが２０〜５００μｍで、少なくとも１方向の引張り弾性率が１６０℃で２００ＭＰａ以上である高分子樹脂フィルムと、高分子樹脂よりなる高分子樹脂積層成形体について１５０℃以上の温度でハードコート層を熱硬化させる。 - 特許庁

The print film 10 on which color print layers 31, 32 and an adhesive layer 41 on the back face of a transparent film material 20 are sequentially formed, is stuck to a circumference of the metal can side body in a winding way by the adhesive layer 41 which is formed in a whole back surface with uniform thickness.例文帳に追加

印刷フィルム１０は、透明なフィルム基材２０の裏面側にカラー印刷層３１，３２と接着剤層４１とが順に形成され、裏面全体に一定厚に形成された前記接着剤層４１により金属缶の胴部外周面に巻回状態に貼り付けられる。 - 特許庁

To provide a method of producing a transparent electroconductive film, by which crystallization of an a-Si layer being a ground layer is prevented, and the diffusion of an impurity doped is suppressed, and to provide the transparent electroconductive film exhibiting a low resistivity at a substrate temperature of about 150°C and high transmissivity when its thickness is ≤100 nm.例文帳に追加

下地層としてのａ−Ｓｉ層を結晶化させることなく、かつドーピングした不純物の拡散を生じない透明導電膜の製造方法、および約１５０℃の基板温度で低抵抗であり、かつ膜厚１００ｎｍ以下で高透過率を示す透明導電膜を提供する。 - 特許庁

A fixing layer 4 for fixing a surface acoustic wave element 2 on which at least a pair of interdigital transducers are provided on the surface of a piezoelectric substrate on a base substrate 3 is connected to the rear surface 29 of the piezoelectric substrate, and the layer 4 has a thickness set in a range of 100 μm-200 μm.例文帳に追加

圧電基板の表面に少なくとも一対の櫛歯電極が設けられる表面弾性波素子２をベース基板３に固定する固定層４が、圧電基板の裏面２９に接続され、この固定層４の厚みが１００μｍ〜２００μｍの範囲に設定される。 - 特許庁

The near infrared ray reflecting film 101 comprises a cholesteric liq. crystalline polymer- solidified layer 61 having a left spiral axis and a cholesteric liq. crystalline polymer-solidified layer 71 having a right spiral axis and each of the cholesteric liq. crystalline polymer-solidified layers 61 and 71 has a thickness thicker than 3 pitches of the spiral axis.例文帳に追加

近赤外線反射フィルム１０１は、左螺旋軸を有するコレステリック液晶高分子固化層６１と、右螺旋軸を有するコレステリック液晶高分子固化層７１からなり、各コレステリック液晶高分子固化層６１，７１の厚さは螺旋３ピッチ以上である。 - 特許庁

The humidity sensor is formed also with a deposition layer 60 consisted of fine particles each containing tobacco molecules, of which the electrostatic capacitance (dielectric constant) changes by taking the moisture in, to cover the electrodes 31, 32 and a space therebetween, with a prescribed layer thickness, on a surface of the humidity sensitive film 50.例文帳に追加

また、煙草分子を含む微粒子からなって、水分を取り込むことによって静電容量（誘電率）が変化する堆積層６０が、電極３１及び３２並びにこれら電極間を覆うように、感湿膜５０の表面上に所定の層厚で形成されている。 - 特許庁

This method for modifying the polytetrafluoroethylene is provided by continuously conveying the powdery baked polytetrafluoroethylene 3 by making it a layer 8 having a prescribed thickness with first to third conveyer belt 6, 10 and 13, and irradiating a radiation on the continuously conveyed layer 8 at the radiation zone 12 to modify it continuously.例文帳に追加

焼成ポリテトラフルオロエチレン粉末３を所定の厚さの層８にして第１〜第３のコンベアベルト６、１０および１３によって連続搬送し、連続搬送される層８に照射ゾーン１２において放射線を照射することにより連続的に改質する。 - 特許庁

The sheet laminated metallic plate is formed by laminating the sheet-like material on a metallic having a thickness of 3 mm or smaller with a self-adhesive layer or an adhesive layer therebetween.例文帳に追加

厚みが３ｍｍ以下の金属板に粘着剤層または接着剤層を介してシート状材料を積層したシートラミネート金属板であって、前記シートラミネート金属板に特定条件を満たす曲げ加工を施した際に、 （γ×Ｋ）／（σ_p×ｐ）＜０．０５８ を満足するシートラミネート金属板である。 - 特許庁

Thereby difference of the film thickness T of the alignment layer 9 does not occur in a region outside a region of a substrate surface 1a formed by projecting a peripheral end of the transparent layer 7 on the substrate surface 1a, that is, in a transmission region 6, so that the difference of contrast per one pixel does not occur and reduction in display quality can be prevented.例文帳に追加

そのことにより、基板面１ａの、透明層７の周端を基板面１ａに投影した領域の外、すなわち透過領域６では、配向膜９の膜厚Ｔに差が生じないので、一画素当たりのコントラストの差が発生せず、表示品位の低下を阻止できる。 - 特許庁

A recess 16a is formed on the surface of a glass substrate 16, and an undercoating layer 23 is formed on the recess, on which a p-Si semiconductor layer 21, gate insulating film 24, and auxiliary capacitance line 38 are laminated so that the auxiliary line 38 is formed in the thickness direction of the glass substrate 16 to obtain a sufficient effective area.例文帳に追加

ガラス基板１６表面に凹部１６ａを形成し、この凹部にアンダーコート層２３を介し、ｐ−Ｓｉ半導体層２１、ゲート絶縁膜２４、補助容量線３８を積層して、ガラス基板１６の厚み方向にも補助容量線３８を形成して十分な実効面積を得る。 - 特許庁

The protective film contains a low moisture-permeable layer and a hard coat layer having an average thickness of 10 μm or more, which are laminated in that order over one surface of a transparent substrate film, and has a moisture permeability at 60°C and 95% relative humidity of 500 g/m^2 per day or less.例文帳に追加

透明基材フィルムの一方の面に、低透湿層、及びハードコート層がこの順に積層され、前記ハードコート層の平均膜厚が１０μｍ以上であり、６０℃９５％相対湿度での透湿度が５００ｇ／ｍ^２・日以下であることを特徴とする保護フィルム等である。 - 特許庁

The power generation device 1 further comprises: a second pad 24c formed of a part of a portion of the second conductive layer 24 overlapping with a supporting portion 11 in a thickness direction of the device substrate 10; and a second wire 24b formed of a part of the second conductive layer 24 connecting the second electrode 24a and the second pad 24c.例文帳に追加

第２導電層２４のうちデバイス基板１０の厚み方向において支持部１１に重なる部分の一部からなる第２パッド２４ｃと、第２導電層２４のうち第２電極２４ａと第２パッド２４ｃとを繋いでいる部分からなる第２配線２４ｂとを備える。 - 特許庁

In this case, the conductive paste is thinly formed such that the thickness is lower than crownings of the protrusions formed in an insulating layer, thereby openings (air gap portions) of a mesh type can be substantially formed in the ground layer by the conductive paste by the existence of the protrusions.例文帳に追加

この場合、前記導電性ペーストの膜厚が絶縁層に形成された前記突起部の頂部よりも薄く形成されることで、導電性ペーストによるグランド層には前記突起部の存在により、実質的にメッシュ状の開口（空隙部）を形成させることができる。 - 特許庁

The layer 3 is formed of W, and the layer 5 comprises a high melting point film formed of HfC, one kind of a material of melting point higher than that of a silicon, and its film thickness is set at thermal diffusion or low which is decided by a thermal conductivity, a thermal capacitance and a waveform.例文帳に追加

発熱体層３は、Ｗにより形成され、酸化防止層５は、シリコンよりも高融点の材料の一種であるＨｆＣにより形成された高融点膜からなり膜厚が熱伝導率と熱容量と上記波形とで決まる熱拡散長以下に設定されている。 - 特許庁

The electrode for a secondary battery has an active material filled up in pores of a three-dimensional metal porous body, and a metal-rich layer of the three-dimensional metal porous body having higher metal density than other parts is arranged at parts other than a surface layer part in a thickness direction.例文帳に追加

本発明の二次電池用電極は、三次元金属多孔体の空隙に活物質を充填したものであって、厚み方向の表層部を除く箇所に、三次元金属多孔体の金属密度が他の箇所より大きい金属リッチ層を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

In the method for forming the multilayered polyimide film, the thickness variation of the surface layer of the film in the middle of manufacturing is measured by a method selected from the Schlieren method and the shadow graph method, and the amount of the extrusion of the polyimide precursor solution in the surface layer is controlled so as to be uniform.例文帳に追加

多層ポリイミドフィルムの製法であって、製造途中でフィルム表層の厚みムラをシュリーレン法およびシャドーグラフ法から選択される方法により測定し、表層部分のポリイミド前駆体溶液の押出す量を均一になるよう制御することを行う、多層ポリイミドフィルムの製法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrically conductive member by which film thickness unevenness of a covering layer can be suppressed without performing a plurality of times of dip coating and without changing lifting speed of an object to be coated when forming the covering layer around the object to be coated by performing dip coating.例文帳に追加

浸漬塗工を行って被塗工物の周囲に被覆層を形成するに際し、複数回の浸漬塗工を行わなくとも、被塗工物の引き上げ速度を変化させることなく、被覆層の膜厚ムラを抑制することのできる導電性部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly accurate micro-fabrication method with high manufacturing efficiency by reducing laser power required in exposure and reducing constraint conditions such as flexibility in selection of a laser light source, linear speed of a substrate, that in selecting a material of an intermediate layer and in selecting of film thickness of the intermediate layer in the exposure.例文帳に追加

露光時に必要なレーザーパワーを小さくしレーザー光源の選定自由度、基板の線速や中間層の材料選定自由度、中間層の膜厚選定自由度等露光時の条件の制約を緩和し、生産効率の高い高精度の微細加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a particle moving type display device wherein suitable pixel display according to a voltage signal is obtained by reducing fluctuation of connection states of a resistance layer and a second electrode of a display surface for every pixel in the whole display device without increasing film thickness of the resistance layer.例文帳に追加

抵抗層の膜厚を増すことなく、表示装置全体で、画素ごとの表示面の抵抗層と第二電極との接続状態のばらつきを減らして、電圧信号に応じた適正な画素表示が得られるようにした粒子移動型表示装置を提供する。 - 特許庁