「next process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The progress status which is stored in the customer information storage part 31 is updated as the state that the process is completed based on the input of information for the next process by a second level information registering means 24.例文帳に追加

第２レベル入力情報登録手段２４は、次工程に対する情報投入に基づいて顧客情報記憶部３１に格納されている進捗ステータスを当該工程が完了した状態に更新する。 - 特許庁

Thus the water usage can be saved and reduced, and as the cooled water remaining in the water supply tank 5 can be effectively utilized after the ice-making process, the cooling efficiency of the next ice-making process can be improved.例文帳に追加

このため、使用水量が節減できるとともに、製氷工程後にこの給水タンク５内に残留していた冷却された水が有効に利用できるため、次の製氷工程の冷却効率が高い。 - 特許庁

Thereafter, the soft magnetic layer is heated while a first magnetic field is applied to the first axis magnetization direction (first annealing process), next the soft magnetic layer is heated while a second magnetic field is applied to the second axis magnetization direction (second annealing process).例文帳に追加

そののち、第１軸磁化方向に第１磁界を印加しつつ軟磁性層を加熱し（第１アニール工程）、次いで、第２軸磁化方向に第２磁界を印加しつつ軟磁性層を加熱する（第２アニール工程）。 - 特許庁

A lot control part 1 receives the instruction from the master managing part 2, and prepares an in-process lot list chart (delay time order), and decides the next lot, and instructs the next lot to a rack control part 4 and a carrier control part 5 and the manufacturing device control part 6.例文帳に追加

ロット制御部１はマスタ管理部２からの指示により、仕掛ロット一覧表（遅れ時間順）を作成して次ロットを決定し棚制御部４と搬送車制御部５と製造装置制御部６とに次ロットの指示を行う。 - 特許庁

In the next place, the alignment plate 6 is turned in a state where article is sucked to each air vent 5; then each article is transported in the neighborhood of a discharge port to subsequently be in contact with a baffle plate and delivered to the discharge port, and they are fed to the next process.例文帳に追加

次いで、各通気口５にそれぞれ物品を吸着した状態でその整列板６を回転し、各物品を排出口付近へ搬送して邪魔板に当接させて排出口へ払出して、次工程へ供給する。 - 特許庁

Work processing units 53 and 54 are arranged reciprocating to/from a work arranging position Z as the next process, applying a processing to the work W by putting the work in engagement with tools 532 and 542, and the work W is transferred to the next process while the engaging condition of the tools 532 and 542 with the work W is well maintained.例文帳に追加

ワーク処理ユニット５３，５４は、次工程のワーク配置ポジションＺとの間を往復移動可能に構成され、工具５３２、５４２をワークに係合させることによりワークＷに対する加工処理を行い、工具５３２、５４２のワークＷに対する係合状態を維持したままでワークＷを次工程に移送する。 - 特許庁

When an icon 'DISP' is selected, the data (replay data) of individual solution process expressions stored in the ALG memory 18a are switched to an optional stage before or after a current stage by clicking icons 'BACK', 'NEXT' and displayed, and when icon 'DEL' is clicked, invalid information is written in the data record of the solution process expression being displayed at present.例文帳に追加

[DISP]を選択すると前記ALGメモリ18aに保存された個々の求解過程式のデータ（リプレイデータ）が[BACK][NEXT]のアイコン操作により前後任意の段階の求解過程式に切り替えられて表示され、[DEL]のアイコンを操作すると現在表示中の求解過程式のデータレコードに無効情報が書き込まれる。 - 特許庁

When the processing of a process managing program execution part 320 ends in a successive processing standby time t_1 defined for the node and it is judged that the user can process a next user, the client request managing program execution part 330 requests the computer terminal 20 for operation to start the processing of the next node.例文帳に追加

そのノードに定義された連続処理待機時間ｔ_1中に、プロセス管理プログラム実行部３２０の処理が終了し、次のノードがそのユーザによって処理可能であると判断されると、クライアント要求管理プログラム実行部３３０は操作用コンピュータ端末２０に対して次のノードの処理開始を要求する。 - 特許庁

A process is repeated in which a representative point selected last is regarded as a next reference point, and a data point corresponding to a data point direction of a minimum clockwise angle viewed from a direction via the next reference point toward the reference point used to select the last representative point among data point directions toward respective data points via the next reference point is regarded as a next representative point.例文帳に追加

直前に選定された代表点を次の基準点とし、次の基準点を通って各データ点へ向かうデータ点方向のうち、次の基準点を通り、直前代表点の選定で用いられた基準点へ向かう方向に対してその方向から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向に対応するデータ点を次の代表点とする処理を繰り返す。 - 特許庁

If a process in a series of information processing is equal to and in the same internal state as the input data of a previously implemented process, the process is not implemented and the output of output data and state transition to the next internal state are directly performed.例文帳に追加

一連の情報処理において、ある処理が、以前行われたことのある処理の入力データと同等であってかつ同じ内部状態であれば、その処理は行わずに、出力データの出力と次の内部状態への状態遷移を直接行うようにする。 - 特許庁

Whether data to be written are real time data is determined, and when the data to be written are the real time data, one process between a process for writing the data to an encountered defective block as it is and a process for skipping the defective block to write the data to the next normal block is carried out.例文帳に追加

本発明では、書き込むべきデータがリアルタイムデータであるか否かを決定し、書き込むべきデータがリアルタイムデータであれば、出合った欠陥ブロックにそのままデータを書き込むかあるいは欠陥ブロックをスキップして次の正常なブロックに書き込むかのいずれか１つを実行する。 - 特許庁

Next, analysis reliability M of an arbitrary point (process condition) in the exposure amount-focus space is defined and reliability R of the process window 15 is calculated by averaging M^α (α is a value about -1) for the points in the process window 15 using the analysis reliability M.例文帳に追加

次に、露光量−フォーカス空間内の任意の点（プロセス条件）の解析信頼性Ｍを定義し、この解析信頼性Ｍを用いてプロセスウィンドー１５内の点についてＭ^α（αは−１程度の値）を平均化してプロセスウィンドー１５の信頼性Ｒを算出する。 - 特許庁

This pipette tip storage method has a process for moving the pipette tip to an introduction part of the storage container, a process for cutting at least a part of the pipette tip, a process for taking the cut pipette tip into the storage container, and a process for piling up a pipette tip to be taken next to the taken pipette tip.例文帳に追加

ピペットチップを収納する方法において、ピペットチップを収納容器の導入部へ移動させる工程と、このピペットチップの少なくとも一部を切断する工程と、切断されたピペットチップを収納容器に取り込む工程と、取り込まれたピペットチップに次に取り込まれるピペットチップを積み重ねる工程とを有する収納方法。 - 特許庁

IC tags 12 each recording an ID are attached to all the works, IC tag readers 14 are installed on all conveying paths between the work places, the IC tag is read during conveyance by the IC tag reader, and it is decided that the work has moved from one process to the next process in the process order at that time, to manage the process of the work.例文帳に追加

すべてのワークにＩＤを記録したＩＣタグ１２を１つずつ取り付け、作業場所間のすべての搬送経路上にＩＣタグ読み取り器１４を設置し、ＩＣタグ読み取り器により搬送中にＩＣタグを読み取って、その時点でワークの位置が工程順の前工程から次工程へ移動したと判断し、ワークの工程を管理する。 - 特許庁

In this hyper frame synchronous process of a hyper frame including a FEXT frame and a Next frame, the difference between the number of continuous FEXT frames and the number of continuous NEXT frames is calculated and the unique arrangement of the difference is detected.例文帳に追加

ＦＥＸＴフレームとＮＥＸＴフレームとを含むハイパーフレームのハイパーフレーム同期処理において、ＦＥＸＴフレームが連続する個数とＮＥＸＴフレームが連続する個数の差分を算出し、この差分のユニークな並びを検出する。 - 特許庁

During this process, the larger the difference between the jitter measured immediately before and the threshold, the larger is the tilt angle change Δθ made when measuring next; and the smaller the difference, the smaller is the tilt angle change Δθ made when measuring next.例文帳に追加

このとき、直前に測定したジッタ値と閾値との差が大きいほど、次に測定するときのチルト角変化量Δθを大きくし、直前に測定したジッタ値と閾値との差が小さいほど、次に測定するときのチルト角変化量Δθを小さくする。 - 特許庁

In the contents reproducing device, when key input is detected (YES in S113), selectable objects extracted and saved in a prior process is acquired (S115), and a "next selection target" object to be provided in a selectable state next is determined therefrom (S117).例文帳に追加

コンテンツ再生装置では、キー入力が検出されると（Ｓ１１３でＹＥＳ）、先の処理で抽出し保存された選択可能オブジェクトが取得されて（Ｓ１１５）、その中から、次に選択状態とする「次の選択中」オブジェクトが決定される（Ｓ１１７）。 - 特許庁

To obtain a picking device and a picking method capable of improving work efficiency, by shortening a time from ending of a picking process for a pallet on a branch conveyer to starting of a picking process for the next pallet.例文帳に追加

分岐コンベアー上のパレットのピッキング処理が終了してから次のパレットのピッキング処理を開始するまでの時間を短縮することにより、作業能率を向上することのできるピッキング装置及びピッキング方法を得ること。 - 特許庁

In a transaction using contactless communication of the cellphone, a guide to remove the cellphone is given after a predetermined communication or transaction process, and the next transaction process is prohibited if the cellphone is not removed.例文帳に追加

携帯電話の非接触通信を利用して取引を行い、所定の通信或いは所定の取引を終了した後に、携帯電話を取るように案内し、携帯電話を取らないときは、次ぎの取引処理に進まないようにした。 - 特許庁

The first apparatus has a first display control means configured such that after the first process allotted by the allotting means is performed by the first apparatus, information indicating the second process to be performed next is displayed on the display part of the first apparatus.例文帳に追加

第１機器は、割当手段により割り当てられた第１処理を第１機器が実行した後、次に実行すべき第２処理を示す情報を、第１機器の表示部に表示する第１表示制御手段を備える。 - 特許庁

A heat medium of low temperature from a cooling portion 5 is supplied and passed to a heat exchanger 23a of the condensation process this time, then allowed to flow to a heat exchanger 23b performing the condensation process in the next through a bypass passage 14, and returned.例文帳に追加

冷却部５から低温の熱媒を今回は凝縮工程の熱交換器２３ａに供給し、通過後にバイパス通路１４を通して次回に凝縮工程を行う熱交換器２３ｂに流した上で戻す。 - 特許庁

In a third process, a pair of regular pilot holes 13 are punched, and a regular pilot pin is then engaged with the regular pilot holes 13 to send the iron-core material S sequentially and conduct the next process while positioning.例文帳に追加

第３の工程において１対の正規のパイロット孔１３を打ち抜き、その後はこれらの正規のパイロット孔１３に正規のパイロットピンを係合し、鉄心材料Ｓを順送りし、かつ位置決めしながら次の工程を実施する。 - 特許庁

Next, the decryptor module outputs a decrypted code CD2[2] by performing a two-stage pipeline process to CD'2, and the decryptor module outputs a decrypted code CD3[3] by performing a three-stage pipeline process to CD'3 (and subsequent codes).例文帳に追加

次いで、ＣＤ’２に対しては、２段分のパイプライン処理を行って復号化コードＣＤ２［２］を出力し、ＣＤ’３（それ以降も同様）に対しては、３段分のパイプライン処理を行って復号化コードＣＤ３［３］を出力する。 - 特許庁

A minute amount reverse sending means is set for reversing and sending a label continuous body in a second direction by an amount smaller than its printing process amount, after one printing process (S3-S5) finishes and before a next label is transferred to a printing position.例文帳に追加

一つの印字処理(Ｓ３〜Ｓ５)が終了した後で、次のラベルを印字位置へ搬送する前に、ラベル連続体をその印字処理量未満の寸法だけ第２の方向へ逆送させる微量逆送手段を設ける。 - 特許庁

A heat medium of an intermediate temperature from a radiating portion 4 is supplied and passed to a heat exchanger 22a of the desorption process this time, then allowed to flow to a heat exchanger 22b performing the desorption process in the next time through by a bypass passage 12, and returned.例文帳に追加

放熱部４から中温の熱媒を今回は脱着工程の熱交換器２２ａに供給し、通過後にバイパス通路１２を通して次回に脱着工程を行う熱交換器２２ｂに流した上で戻す。 - 特許庁

To provide an exhaust device and an exhaust method for a ladle for effectively preventing gas and dust generated from the ladle used when carrying a solution to the next process, from being discharged in a factory, in a metal refining process.例文帳に追加

金属製錬工程において溶体を次工程へ搬送する際に使用されるレードルから発生するガスやダストが工場内に放出されるのを有効に防止するためのレードル用排気装置及び排気方法を提供する。 - 特許庁

The treatment of a lot wherein the earlier process is made the next process at the end time is performed in advance.例文帳に追加

次工程が複数ある装置の場合には、その次工程における現在処理しているロットと仕掛りロットの全ロットに対する処理終了時間を検出し、その終了時間に早い方の工程を次工程とするロットの処理を先に行う。 - 特許庁

Recognition conditions of a value information chain structure are estimated by having a questionnaire survey on at least one of a previous process and a next process in a value chain of the organization and community on the basis of personal affiliation information and results of the questionnaire survey.例文帳に追加

組織やコミュニティの価値連鎖における前工程と次工程の少なくとも１つをアンケート調査して、個人の所属情報とアンケート結果に基づいて価値情報連鎖構造の認識状況を推定する。 - 特許庁

In each following sequence, the next-stage process key is calculated from the process key stored in the key storage section 47, and a contents key is calculated for writing to the key storage section 47 when a command having specific contents is inputted in a specific order.例文帳に追加

以下の各シーケンスでは、鍵記憶部４７に記憶されたプロセス鍵から次段のプロセス鍵を算出し、所定内容のコマンドが所定の順序で入力されたとき、コンテンツ鍵を算出して鍵記憶部４７に書き込む。 - 特許庁

When the screw reaches the dwelling starting position, the filling process is moved to the dwelling process and as the next positional command, a value to which an amount of correction set in advance is added is provided from the positional command at that time to slow down or retreat the screw.例文帳に追加

スクリュが保圧開始位置に到達したとき、充填工程から保圧工程に移行し、次回の位置指令としてその時の位置指令から予め設定された補正量を加えた値を与えて、スクリュを減速または後退させる。 - 特許庁

To provide a sheet material conveying method capable of transporting not only a ferromagnetic member such as iron sheet but also a conductive plate so far as it has conductivity, regardless of its size from a former process to a next process while sufficiently reducing speed.例文帳に追加

鉄板などの強磁性体の板材のみならず導電性を有する導体板であれば、その寸法サイズに関わらず、前段工程から次段工程へ充分に減速させて搬送できる板材搬送方法を提供すること。 - 特許庁

Next, on a rotating process, a glass tube 11 is vertically held by a holding means 15, and rotated around a tube axis as a center by a rotation means.例文帳に追加

次に、回転工程において、保持手段１５によってガラス管１１を鉛直に保持させ、回転手段によってガラス管１１をその管軸を中心に回転させる。 - 特許庁

To transport mechanically a soot preform for optical fiber at the time of transition from the OVD stage (out fitting stage) included in the optical fiber manufacturing process to a sintering stage as the next.例文帳に追加

光ファイバ製造工程の中のＯＶＤ工程（外付け工程）から次の焼結工程へ移行する際に、光ファイバ用スート母材を機械的に搬送する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a high breakdown voltage system MIS element capable of coping with microfabrication of next generation, and to provide its fabrication process, and to provide an MIS high breakdown voltage transistor.例文帳に追加

次世代型の微細化に対応可能な高耐圧系のＭＩＳ型素子を有する半導体装置及びその製造方法、ＭＩＳ型高耐圧トランジスタを提供する。 - 特許庁

The articles W conveyed to the downstream-side through the respective channels 11a of the article aligning and conveying boards 11 are conveyed to the next process through a coiled tube 16.例文帳に追加

なお、物品整送板１１の各溝１１ａを介して下流側に搬送されてきた物品Ｗはコイル状チューブ１６を介して次工程へ送られる。 - 特許庁

Next, a solution applying process 12 is effected in non-oxidizing atmosphere to apply a solution obtained by dispersing the powder of amorphous silicon into a solvent on the pattern forming region of the glass substrate.例文帳に追加

次に、非酸化雰囲気において溶液塗布工程１２を行ない、アモルファスシリコンの粉末を溶媒に分散させた溶液を、ガラス基板のパターン形成領域に塗布する。 - 特許庁

Next, the sheet resistance RS of the temperature monitoring wafer 10 having completed the process is measured under the heat treatment condition including the unknown temperature with the heat treatment furnace as the temperature measuring object.例文帳に追加

つぎに温度測定対象である熱処理炉にて未知の温度を有する熱処理条件で処理を施した温度モニタウェーハ１０のシート抵抗ＲＳを検出する。 - 特許庁

During a process involved in fitting of the waterproof seal 20 accommodated in the seal holder 31a to an electric wire, the next waterproof seal 20 is put on standby within the threading passway 23a.例文帳に追加

シールホルダ３１ａに収容された防水シール２０を電線に装着する工程等の間に、次の防水シール２０を挿通路２３ａ内に待機させておく。 - 特許庁

To deliver a fully wound package from a package stock part to the next process by making effective use of a limited space in a factory.例文帳に追加

限られた工場内のスペースを有効に利用して、パッケージストック部から満巻になったパッケージを次工程に搬送する巻取装置のパッケージ搬出搬送装置を提供する。 - 特許庁

To contribute to cost reduction by reducing the amount and time of processing needed for updating the next address for a process such as repeat operation, and for updating a repeat counter value.例文帳に追加

繰り返し演算等の処理における次アドレスの更新や繰り返しカウンタ値の更新処理に要する処理量及び時間を短縮しコスト低減に寄与する。 - 特許庁

To provide a peeling device capable of sucking a cushion sheet with a seal to a suction plate while maintaining the positional precision on a mount and capable of accurately stacking it to a machine in a next process.例文帳に追加

シール付クッションシートを台紙上での位置精度を維持したまま、吸着プレートに吸着でき、次工程の機器への正確な貼付けができる剥離装置を提供。 - 特許庁

Even when the trouble of the sensor LS2 or its wiring system is generated, the reverse turn process is skipped and such inconvenience that it is shifted to next primary compression is not generated.例文帳に追加

センサーＬＳ２またはその配線系統が故障した場合であっても、反転行程をスキップし、次の１次圧縮に移行してしまうという不具合が生ずることはない。 - 特許庁

Next, unwanted part of the metal underlayer 7 is removed by etching process using the wiring protecting metal film 9 as a mask, leaving the metal underlayer 7 only under the wiring 8.例文帳に追加

次に、配線保護金属膜９をマスクとして下地金属層７の不要な部分をエッチングして除去し、配線８下にのみ下地金属層７を残存させる。 - 特許庁

In the next vaporization process, the polyurethane resin solution applied to the film forming base is guided into an atmosphere of 50-80°C, and it is subjected to heat treatment for 10-60 minutes.例文帳に追加

次の気化工程で、成膜基材に塗布されたポリウレタン樹脂溶液が、５０℃〜８０℃の雰囲気下へ案内され、１０分〜６０分間の熱処理が施される。 - 特許庁

Next, a state where a platinum thin film 103 with a film thickness of about 200 nm is deposited on the silicon oxide layer 102 by an ECR (Electron Cyclotron Resonance) sputtering process using a platinum target is made.例文帳に追加

次に、白金ターゲットを用いたＥＣＲスパッタ法により、酸化シリコン層１０２の上に、膜厚２００ｎｍ程度の白金薄膜１０３が形成された状態とする。 - 特許庁