「pattern chain」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The base resin of the objective pattern forming material comprises an acrylic resin in which a chlorine atom or a chlorinated alkyl group bonds to a carbon atom present in the principal chain of an acrylic unit and bonding to an ester moiety.例文帳に追加

パターン形成材料のベース樹脂は、アクリルユニットの主鎖中の炭素原子であってエステル部位に結合している炭素原子に、塩素原子又は塩素化されたアルキル基が結合しているアクリル系樹脂からなる。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a hydrophilic functional group within a molecule, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that is manufactured at low cost and is a main chain cleavage type superior in a pattern shape, and also is applicable to a wide range uses because it is free from corrosion of metal and the like.例文帳に追加

低コストで製造が可能でありパターン形状に優れた主鎖開裂型でありながら、金属などの腐食がないことから幅広い用途への適用が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a voice signal addition device capable of preventing generation of a non-linear noise caused by breaking of a sound signal in the middle and capable of executing the regeneration of the next rhythm pattern at once before finish of a rhythm pattern under regeneration at present at the time of chain reproduction, and its regeneration method.例文帳に追加

音声信号が途中で途切れることによる非線型ノイズの発生を防止可能とし、さらに、チェーン再生時、現在再生中のリズムパターンの終了を待たずに、ただちにつぎのリズムパターンの再生を行うことができる音声信号加算装置を得ること、およびその再生方法を得ること。 - 特許庁

A resist pattern swelling material is provided which contains at least any one of a non-ionic interfacial active agent and an organic solvent selected from a group of the alcohol based, chain or cyclic ester based, ketone based, chain or cyclic ether based organic solvents in a water-soluble or alkali- soluble composition comprising a resin and a cross linking agent.例文帳に追加

樹脂と架橋剤からなる水溶性，またはアルカリ可溶性組成物において，非イオン性界面活性剤，または，アルコール系，鎖状または環状エステル系，ケトン系，鎖状または環状エーテル系からなる有機溶剤群から選ばれた有機溶剤のうち少なくともどちらか一方を含むことを特徴とするレジストパターン膨潤化材料。 - 特許庁

The first/second tooth bottom radii R3, R2 are arranged in a pattern that is effective to redistribute the tension acting from the sprocket 30 to the chain 80 to previously set one or more of the sprocket order.例文帳に追加

第１、第２の歯底半径Ｒ3 ，Ｒ2 は、当該スプロケット３０からチェーン８０に作用する緊張力を、予め設定された一つまたはそれ以上のスプロケット次数に再分配するのに効果的なパターンで配置されている。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a functional group whose pKa is 8-14 within a molecule, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基とｐＫａが８〜１４の範囲にある官能基とを有する化合物、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

A tire pattern judging part 14 detects a shade part in the region image R13, and based on the shade, judges whether a tire chain is attached to the tire or not, a judgement result J14 is provided to an information presentation part 15.例文帳に追加

タイヤパターン判定部１４は、領域画像Ｒ１３における影の部分を検出し、該影に基づきタイヤにタイヤチェーンが装着されているか否かを判定し、該判定結果Ｊ１４が情報提示部１５に与えられる。 - 特許庁

A method for forming a pattern includes a step of forming a film which comprises a pattern forming material containing a copolymer having a polystyrene derivative and a polymethacrylate derivative containing silsesquioxane, a step of forming a microphase separation structure in the film, and a step of etching the substrate with a phase of a polymer chain containing the silsesquioxane as a mask and transferring a pattern of the microphase separation structure on the substrate.例文帳に追加

ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

The resist pattern miniaturization material is the material applied on the resist pattern formed by exposing and developing a photoresist film and miniaturizing the resist pattern by developing after the heat treatment, a liquid including alcohol of a straight-chain or forked alkyl group having one to twelve (12) carbon number filtered by a filter having a hole diameter of not more than 40 nm, and includes an interfacial active agent and/or water.例文帳に追加

フォトレジスト膜を露光および現像することによって形成されるレジストパターン上に塗布し、該レジストパターンを熱処理後現像することで微細化させるための材料であって、該レジストパターン縮小化材料は、孔径４０ｎｍ以下のフィルターで濾過された炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基のアルコールを含む液体であり、さらに界面活性剤および／または水を含有する。 - 特許庁

In the method for producing the ceramic green sheet, after a prescribed electrode pattern is formed on the heat-peelable adhesive layer of the carrier sheet having the adhesive layer containing a side chain type crystalline resin on one side of a base film, the ceramic green sheet is molded by ceramic slurry on the adhesive layer on which the electrode pattern is formed.例文帳に追加

ベースフィルムの片側に、側鎖型結晶性樹脂を含む加熱剥離粘着層を有するキャリアシートの当該加熱剥離粘着層上に、所定の電極パターンを形成した後、当該電極パターンの形成された加熱剥離粘着層上にセラミックスラリーによりセラミックグリーンシートを成形することを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。 - 特許庁

A curable material, which contains a compound (A) having a perfluoro(polyoxyalkylene) chain and a curable group, is brought into contact with a mold 14 having an uneven pattern 13 with the minimum dimension of 50 μm or below formed on its surface and cured to obtain the transfer body to which the uneven pattern 13 of the mold 14 is transferred.例文帳に追加

ペルフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖と硬化性基とを有する化合物（Ａ）を含有する硬化性材料を、最小寸法が５０μｍ以下の凹凸パターン１３が表面に形成されたモールド１４と接触した状態で硬化させ、モールド１４の凹凸パターン１３が転写された転写体を得る製造方法により解決される。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having at least two substituents capable of chain transfer per molecule, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the polymerizable compound contains at least a compound having one polymerizable group per molecule.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、該重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device having a circuit constitution which allows a faulty part to be more easily detected when electrically measuring a plurality of elements in a large-scale contact chain or a large-scale wiring pattern, and to provided an evaluation method thereof.例文帳に追加

大規模なコンタクトチェーン又は大規模な配線パターンにおける複数の素子の電気的な測定を行う際に、不具合箇所の検出をより容易に行える回路構成を有する半導体装置とその評価方法を得られるようにする。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt in which when used for a resist material, there are little elution and pattern dependence (dark bright difference) to a soaking water, and which is useful as a photoacid generator of a chemistry amplification resist material, and has a fluoro alkoxy chain into a cation part.例文帳に追加

レジスト材料に用いた場合に液浸水への溶出およびパターン依存性（ダーク・ブライト差）が少なく、化学増幅レジスト材料の光酸発生剤として有用である、カチオン部分にフルオロアルコキシ鎖を有するスルホニウム塩の提供。 - 特許庁

The CPU refers to a chaining rule table stored in a chaining rule table ROM to retrieve a chain pattern about 'the classification' of the input word (step S4) and updates a first reference date in accordance with a corresponding interpretation rule (step S5).例文帳に追加

ＣＰＵは、連鎖ルールテーブルＲＯＭに記憶されている連鎖ルールテーブルを参照して、入力単語の「種別」についての連鎖パターンを検索し（ステップＳ４）、さらに対応する解釈ルールから第１の基準日時を更新する（ステップＳ５）。 - 特許庁

To obtain a new copolymer suitable as a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern highly adhesive to a substrate and slight in pattern spoilage in an ultrafine pattern formation step in semiconductor production process through eliminating drawbacks involved in conventional techniques, to provide a method for producing the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in producing the copolymer.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

To obtain a new copolymer suitable for a film-forming polymer to obtain a resist pattern having a high close adhesion with a substrate and less pattern collapse in forming a very fine pattern in the production of a semiconductor, a method for forming the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in the production of the copolymer suitable for the polymer for forming these patterns.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

A scan chain circuit 1 temporarily holds data output and input to a combination logic circuit 2 during normal operation, and serially transfers a test pattern signal SCANIn by making a plurality of flip-flops F/F function as a shift register during execution of the scan test.例文帳に追加

スキャンチェーン回路１は、通常動作時には、組み合わせ論理回路２に入出力されるデータを一時保持する一方、スキャンテスト実行時には、複数個のフリップフロップＦ／Ｆをシフトレジスタとして機能させテストパターン信号ＳＣＡＮＩｎをシリアル転送する。 - 特許庁

When introducing a photoreactive group to a molecular orienting liquid-crystalline mesogen and introducing the photoreactivity-imparted side chain to a bifunctional polymerizable low molecular compound, the orientation pattern and birefringence of the liquid-crystalline mesogen can be controlled also after polymerized.例文帳に追加

分子配向性の液晶性メソゲンに光反応性基を導入し、光反応性を付与した側鎖を、二官能性重合性低分子化合物に導入させれば、重合化させた後も液晶性メソゲンの配向パターンや複屈折率を制御しうる。 - 特許庁

When changing a pattern of the printed body sheet 2 while operation stops, two coaxial shafts to which the sprocket wheels of both conveyor devices are attached, respectively, are relatively rotated, and each chain is relatively rotated to change an interval between both holding rungs 14 and 20.例文帳に追加

運転停止中に被印刷体枚葉紙２の判型を変更する時には、両コンベヤ装置のスプロケットホイールがそれぞれ取り付けられた同心の２つのシャフトを相対的に回転させ、各チェーンを相対的に回転させて、両保持横木１４と２０の間隔を変える。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having at least two substituents capable of chain transfer per molecule, a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a polymerization inhibitor, wherein the polymerizable compound contains a compound having three or more polymerizable groups per molecule.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を含み、該重合性化合物が、分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

The semiconductor device includes a run-stop circuit RUNSTOP for outputting a run-stop control signal RS; a first random number pattern generating circuit RDG_PT for generating a pseudo-random number pattern; an inversion control unit INV_BLK for inverting the output according to the value of a data input signal Din from outside; and a scan chain unit SC_BLK for scan-inputting the output through the INV_BLD.例文帳に追加

例えば、ランストップ制御信号ＲＳを出力するランストップ回路ＲＵＮＳＴＯＰと、擬似乱数パターンを生成する第１乱数パターン発生回路ＲＤＧ＿ＰＴと、その出力を外部からのデータ入力信号Ｄｉｎの値に応じて反転させる反転制御部ＩＮＶ＿ＢＬＫと、ＩＮＶ＿ＢＬＫを介した出力がスキャン入力されるスキャンチェーン部ＳＣ＿ＢＬＫとを設ける。 - 特許庁

After a Mo/Al/Mo laminated film 9, which is to be a material of signal lines, source electrodes and drain electrodes of pixel TFTs of a liquid crystal display, is formed, a resist pattern 10 is formed on the upper surface and a wet etching is carried out by using an etching solution containing long chain alkyl ester.例文帳に追加

本発明は、液晶表示装置の信号線や、画素ＴＦＴのソース電極やドレイン電極の材料となるMo/Al/Mo積層膜９を形成した後、その上面にレジストパターン１０を形成し、長鎖アルキルエステルを含んだエッチング液を用いてウエットエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a method for producing a bottom-up type nano-device, which initiates a reaction from a potential singular point on a substrate, and regularly arranges compound molecules so as to accelerate a chain reaction utilizing the arranging pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上のポテンシャル特異点から反応を開始させた、ボトムアップ式のナノデバイスの製造方法を提供すること、規則性をもって化合物分子を配列させ、この配列パターンを利用して連鎖反応を促進するナノデバイスの製造方法を提供することなどを目的とする。 - 特許庁

A conductive pattern material has a conductive material layer, formed by locally applying and making a conductive material adsorb to a surface phydrophilic member where a phydrophilic graft polymer chain exists extending over the entire surface of at least one surface of a support body.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材に、導電性素材を局所的に適用して吸着させてなる導電性素材層を有することを特徴とする導電性パターン材料である。 - 特許庁

A composition containing a hydrophilic polymer having a photoactive group in at least a side chain or an end is brought into contact with the top of a hydrophobic support, energy is imagewise imparted to fix the hydrophilic polymer on a hydrophobia polymer-containing layer, thereby forming a hydrophilic pattern, and then a coloring material is stuck to the hydrophilic pattern or to a hydrophobic region with no imparted energy.例文帳に追加

疎水性支持体上に、少なくとも側鎖又は末端に光活性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層上に該親水性ポリマーを固定化して親水性パターンを形成し、該親水性パターン、或いはエネルギーを付与されていない疎水性領域のいずれかに色材を付着させることを特徴とする。 - 特許庁

When signals in a scan clock unit outputted from a random pattern generator 102 for generating pseudo random signals at prescribed periods are matched with patterns in a scan clock unit inputted to the scan chain 101 of the ATPG patterns, a scan clock selection decoder 103 supplies a clock for inputting the signals in a scan clock unit outputted from the random pattern generator 102.例文帳に追加

スキャンクロック選択デコーダ１０３は、所定周期の擬似ランダム信号を発生するランダムパタン発生器１０２から出力されるスキャンクロック単位の信号とＡＴＰＧテストパタンの前記スキャンチェーン１０１に入力されるスキャンクロック単位のパタンとが一致するときに、前記ランダムパタン発生器１０２から出力されるスキャンクロック単位の信号を入力するためのクロックをスキャンチェーン１０１に供給する。 - 特許庁

To provide a semiconductor test circuit for remarkably reducing an amount of a scanning test pattern and shortening a full scanning test time by modifying the constitution of an inside scanning chain at any time without increasing a test terminal and remarkably shortening a once-scanning shift action period in an LSI full scanning design, and to provide its test method.例文帳に追加

ＬＳＩのフルスキャン設計において、テスト端子を増加させずに、内部スキャンチェーンの構成を随時変更し、１回のスキャンシフト動作期間の大幅な短縮を行うことで、スキャンテストパターン量の大幅な削減とフルスキャンテスト時間の短縮を可能とする半導体テスト回路及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

This single particle pattern laminated membrane is manufactured by developing a fine particle-containing liquid or the like on the support having the surface on which the hydrophilic graft polymer chain is present patternwise and two-dimensionally flocculating the fine particles while controlling the developing thickness of the fine particle-containing liquid or the like to form the single particle layer.例文帳に追加

このような単粒子パターン積層薄膜は、微粒子含有液体等を親水性グラフトポリマー鎖がパターン状に存在する表面を有する支持体上に展開し、該微粒子含有液体等の展開厚みを制御しつつ微粒子を２次元凝集させ、単粒子層を形成させることにより製造しうる。 - 特許庁

To provide a new copolymer suitable for a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern which is high in adherence to a substrate and little in pattern collapse in forming ultrafine patterns in manufacturing semiconductors while solving problems in the conventional technologies, a method of manufacturing the copolymer, and a new thiol compound useful as a chain transfer agent in manufacturing these copolymers suitable for coating film-forming polymers.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

The pattern is obtained by bringing a composition containing a hydrophobic compound having a photoactive group into contact with a support having the surface where a hydrophilic graft chain is present, imparting imagewise energy to fix the hydrophobic compound to form a hydrophilic/ hydrophobic region, and adsorbing a conductive material to the hydrophilic region.例文帳に追加

親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親／疎水性領域を形成し、該親水性領域に導電性材料を吸着させてなることを特徴とする。 - 特許庁

The image processor is realized by combining respective functions for scan data generation, generates scan data at a high speed by the band memory of small capacity regardless of color/monochrome by transfer using chain DMA (direct memory access) with no interposition of a CPU halfway and can constitute hardware flexible to a specification change, such as a change in the number of nozzles of a print head and in a print pattern.例文帳に追加

この画像処理装置は、スキャンデータ生成の為の各機能を組み合わせて実現し、途中ＣＰＵの介在の無いチェーンＤＭＡを用いた転送でカラー・モノクロを問わず小容量のバンドメモリでスキャンデータを高速生成すると共に、印字ヘッドのノズル数や、印字パターンの変更など仕様変更に対して柔軟なハードウェアを構成することができる。 - 特許庁

In an image forming method by a reaction development comprising a step for irradiating a photoresist layer masked with a desired pattern with UV and a step for washing the layer with an alkali-containing solvent, it is characterized in that the photoresist layer comprises a condensation polymer containing carbonyl groups (C=O) bonding to heteroatoms in its principal chain and a photo-acid generator and the alkali is an amine.例文帳に追加

本発明は、所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層がヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に含む縮合型ポリマーと光酸発生剤とから成り、該アルカリがアミンであることを特徴とする反応現像画像形成法である。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁

The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and the erosion rate of the section shape of a pattern formed from the radiation sensitive composition is ≤ 30% or the radiation sensitive composition contains the components (A)-(D) and (E) a chain transfer agent.例文帳に追加

カラー液晶表示装置用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、該感放射線性組成物から形成されたパターンの断面形状の浸食率が３０％以下であることを特徴とするか、または前記（Ａ）〜（Ｄ）および（Ｅ）連鎖移動剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁

63 The 2011 White Paper on International Economy and Trade analyzed the differences in SCM by types of business, such as differences in inventory level and inventory pattern, to assess the impact of the2011 earthquake in Japan on the global supply chains. The flood case in Thailand is reasonably consistent with its results (Chapter IV-2-1- (2) "A meaning of the global supply-chain judging from the situation of the inventory control," 2011 White Paper on International Economy and Trade).例文帳に追加

63 2011年版通商白書において、先の震災がグローバルサプライチェーンに与える影響を分析する中で、業種ごとの在庫水準の違いや在庫の持ち方等のSCM の違いについての分析を行っており、タイでの今回のケースもその結論とおおむね整合的である（2011 年版通商白書 第4 章第 2 節 1（. 2）「在庫管理の在り方からみたグローバルサプライチェーンの意味」参照）。 - 経済産業省

The inspection pattern 501 is provided with multiple lower wirings 502, multiple upper wirings 503, an insulating layer 504 disposed between the lower wring 502 and upper wiring 503 and multiple contact units 505 with electrically connect upper wiring 503 and lower wiring 502, so that a contact chain where upper wirings 503 and lower wirings 502 are mutually connected in series and a pair of electrode terminals 506 and 507.例文帳に追加

検査パターン５０１は、複数の下層配線５０２と、複数の上層配線５０３と、下層配線５０２と上層配線５０３との間に備えられた絶縁層５０４と、上層配線５０３と下層配線５０２とが交互に直列に接続されたコンタクトチェーンを構成するように上層配線５０３と下層配線５０２とを電気的に接続する複数のコンタクトユニット５０５と、１対の電極端子５０６，５０７とを有する。 - 特許庁

In this conductor film, the metal pattern layer 3 is formed on the laminated layer film 4a with a vapor phase film forming method and the laminated layer film 4a is formed of a composition including, as the main structural elements, a melamine system cross linking agent, and a polyester resin having carboxylic acid group and sulfonic acid group in the side chain.例文帳に追加

ポリエステルフィルム４の少なくとも片面に積層膜４ａを有し、該積層膜上に金属層がパターン形状に加工された金属パターン層３を有する導電性フィルムであって、前記金属パターン層３が前記積層膜４ａ上に気相製膜法で形成されたものであり、前記積層膜４ａが、メラミン系架橋剤と側鎖にカルボン酸基及びスルホン酸基を有するポリエステル樹脂を主たる構成成分とする組成物から形成されたものであることを特徴とする、導電性フィルム。 - 特許庁