| 例文 |
pattern comparisonの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 377件
To provide a drive load prediction system capable of predicting a drive load with a small arithmetic processing quantity by utilizing comparison (pattern matching) of a pattern of the drive load.例文帳に追加
運転負荷のパターンの比較(パターンマッチング)を利用することにより、少ない演算処理量で運転負荷を予測することのできる運転負荷予測システムを提供する。 - 特許庁
Pattern comparison means 25 compares a word vocalization pattern obtained by extraction from the word image with a word dictionary 24 and specifies a word to be an object of the operation of a device.例文帳に追加
パターン比較手段25は、単語画像から抽出により得られた単語発声パターンを単語辞書24と比較して装置の操作の対象となる単語を特定する。 - 特許庁
To solve the drawback that it is difficult to be precise in a technique of forming a pattern in a resin film of a flexible color filter or the like in comparison with a glass material while a total pitch and a coordinate positional precision of the pattern are greatly important.例文帳に追加
フレキシブルカラーフィルター等の樹脂フィルムにパターンを形成する技術において、パターンのトータルピッチ、および座標位置精度は非常に重要である。 - 特許庁
A response information comparison part 27 determines vulnerability when all response patterns for the negative response are not matched to every response pattern for the positive response pattern.例文帳に追加
レスポンス情報比較部27は、ネガティブレスポンスに対する全てのレスポンスのパターンが、ポジティブレスポンスに対するどのレスポンスのパターンにも一致しない場合には脆弱性ありと判定する。 - 特許庁
On a photomask substrate, a comparison pattern on a mask whole or a part of which is substantially the same as a circuit pattern on the mask, and an inspection pattern on the mask whole or a part of which is substantially the same as a measurement pattern on the mask are adjacently provided.例文帳に追加
フォトマスク基板上にマスク上回路パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上比較パターンおよびマスク上測定パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上検査パターンを近接して設ける。 - 特許庁
based on comparison of a pattern (a coefficient pattern) by a coefficient of the polynomial, with a matching range corresponding to noise sound shown as the coefficient pattern, it is determined whether or not, there is noise.例文帳に追加
そして、この多項式の係数によるパターン(係数パターン)と、この係数パターンとして示されるノイズ音に対応のマッチング範囲とを比較することに基づいて、ノイズの有無についての判定を行うようにする。 - 特許庁
An error detection part 25 compares the feature section data pattern with the comparison object data pattern to detect the number of errors, and a matching determination part 26 specifies the optimal internal waveform data pattern based on the detected number of errors.例文帳に追加
エラー検出部25は、特徴区間データパターンと比較対象データパターンとを比較してエラー数を検出し、一致判定部26は、検出されたエラー数に基づき最適な内部波形データパターンを特定する。 - 特許庁
The voltage comparator 53 compares a current detection signal with the solenoid constant current control target pattern waveform and controls the variation pattern of the solenoid current value so as to make it a target variation pattern on the basis of the result of the comparison.例文帳に追加
電圧比較器53は、電流検出信号とソレノイド定電流制御目標パターン波形を比較し、該比較結果に基づいてソレノイド電流値の変化パターンを目標変化パターンとするように制御する。 - 特許庁
A switching circuit 4 switches and outputs the illumination pattern of the image signal on the basis of the comparison result of the determination circuit 3.例文帳に追加
切替回路4が、判断回路3の比較結果に基づいて、映像信号の点灯パターンを切り替えて出力する - 特許庁
A comparison means 30 compares a coded data string with a prescribed synchronization pattern and discriminates detection of synchronization when they are coincident.例文帳に追加
比較手段30は符号化されたデータ列を所定の同期パターンと比較し、一致した場合に同期検出と判定する。 - 特許庁
A comparison part 112 compares the standard pattern of the selected type with the speech input feature data and detects the voices.例文帳に追加
比較部112は、選択された種類の標準パターンと、入力特徴データとを比較して音声の検出を行なう。 - 特許庁
The comparison means 13 compares the template pattern with the change of the characteristic amount when hierarchically reducing the detection target image.例文帳に追加
比較手段13は、テンプレートパターンと検出対象画像を階層的に縮小する際の特徴量の変化とを比較する。 - 特許庁
An error rate detecting part 3 identifies the pattern of the measured signal, holds partial or whole data from a position determined as the top of an identification pattern data as a top pattern, detects an error bit by comparison between the identification pattern data and a known pulse pattern when the measured signal coincides with the top pattern after one go-around, and holds bit strings before/after including the error bit.例文帳に追加
誤り率検出部3は、被測定信号のパターンを識別し、識別パターンデータの先頭と決めた位置から一部又は全部のデータを先頭パターンとして保持し、被測定信号が1周回して先頭パターンと一致したときに、識別パターンデータと既知のパルスパターンとの比較によりエラービットを検出し、エラービットを含む前後のビット列を保持する。 - 特許庁
In this image recognizing method using pattern matching, a plurality of teaching pattern candidates are generated when a teaching pattern is set, an appropriate teaching pattern candidate is subjected to comparison operation with a recognition object to calculate the variance and the average value of similarity, and a teaching pattern that is the most easily recognized is selected and set among the teaching pattern candidates.例文帳に追加
パターンマッチングを用いた画像認識方法において、教示パターンの設定に際して複数の教示パターン候補を発生し、適当な教示パターン候補について認識対象と比較演算して類似度の分散と平均値を求め、教示パターン候補の中から最も認識し易い教示パターンを選択して設定するようにした。 - 特許庁
Data is sequentially written into a triangular wave comparison value register 43 and a waveform pattern register 45, whenever the PWM comparison data of each phase and space vector arithmetic operation are processed with an arithmetic operation circuit 41.例文帳に追加
そして、演算回路41により各相のPWM比較データと空間ベクトル演算が処理される毎に三角波比較値レジスタ43および波形パターンレジスタ45にデータが順次書き込まれている。 - 特許庁
A logical comparator circuit 84-L-K compares the data K(bitL) with the key pattern K(bitL) simultaneously as another bit data comparator circuit performs data comparison and outputs a comparison result M-K-L to a group of totaling circuits to be constituted of a plurality of AND circuits.例文帳に追加
論理比較回路84-L-Kは、データK(bitL)とキーパターンK(bitL)を、他のビットデータ比較回路と同時に比較し、比較の結果M-K-Lを複数のAND回路から構成される集計回路群に出力する。 - 特許庁
A comparison pattern calculating section 6 extracts a first specific portion and a second specific portion on a captured image outputted from a camera 2 and calculates a comparison pattern by modeling a positional relation between these extracted first and second specific portions.例文帳に追加
比較パターン算出部6は、カメラ2から出力された撮像画像上において、第1の特定部位と第2の特定部位とを抽出し、これらの抽出された第1の特定部位と第2の特定部位との位置的関係をモデル化した比較パターンを算出する。 - 特許庁
A comparison circuit 303 operates EOR between a section header stored in a section buffer 301 and a matching pattern stored in a matching pattern RAM 302 (obtains EOR operation data).例文帳に追加
比較回路303は、セクションバッファ301に蓄積されたセクションヘッダとマッチングパターンRAM302に格納されたマッチングパターンとをEOR演算する(EOR演算データを得る)。 - 特許庁
When reference data are to be compared with sensor data by a comparison means 6, a correction value where an adjacent pattern whose measurement is completed is corrected by predetermined pattern conditions.例文帳に追加
比較手段6で参照データとセンサデータとを比較する際に、参照データは、測定が終了した隣接したパターンを予め定められたパターン条件により補正した補正値を用いる。 - 特許庁
A code comparator 73 compares the stored recognition result with the latest recognition result obtained through the pattern recognition performed using the pattern detector 59, and in accordance with a result of the comparison, the stored recognition result is updated.例文帳に追加
コード比較部73は、記憶した認識結果と、パターン検出部59がパターン認識した最新の認識結果とを比較し、比較結果に応じて、記憶した認識結果を更新する。 - 特許庁
To provide an image processor by which an image with successful graininess is obtained in comparison with an invention for judging which of a black core pattern and an all white pattern is generated based on a fixed threshold.例文帳に追加
固定の閾値を基に黒核パターンまたは全白パターンのいずれを発生させるかを判断する発明に比べて、粒状性がよい画像を得られる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
Processing result records are read one by one from a work processing result DB 10, judged whether they are OK or NG, confirmation results are held by sorting them into an OK pattern file and an NG pattern file of a comparison processing result pattern DB 30.例文帳に追加
業務処理結果DB10から処理結果レコードを1件づつ読み出して、OKかNGかの判定を行い、確認結果を比較処理結果パターンDB30のOKパターンファイルとNGパターンファイルとに振り分け保持する。 - 特許庁
A correcting device 1 comprise a pattern correcting mechanism 2, image detecting mechanism 3, drive part 6, drive-part control part 7, defect discriminating circuit 11, pattern comparison circuit 12, matching identifying circuit 13, and correction pattern control circuit 14, etc.例文帳に追加
修正装置1は、パターン修正機構2、画像検出機構3、駆動部6、駆動部制御部7、欠陥選別回路11、パターン比較回路12、一致指摘回路13、および修正パターン制御回路14等を備えている。 - 特許庁
Since the pattern size of the master mask is made larger than the pattern size of the objective mask, the rounding of the pattern due to diffraction can be decreased and the time for inspection can be reduced even when a die-to-DB comparison method is applied.例文帳に追加
マスターマスクは、目的とするマスクのパターンサイズよりもパターンサイズを十分大きくできるため、回折によるパターンの丸まりを小さくできるため、Die to DB比較法を適用させても検査時間を短くできる。 - 特許庁
To provide a pattern recognizing device more improved in accuracy in comparison with a conventional recognizing device for performing rough classification on the basis of main component analysis or the like.例文帳に追加
主成分分析等に基づいて大分類を行う従来の認識装置と比べ、より高精度なパターン認識装置の提供。 - 特許庁
As an another correction, a superposed color pattern is printed and its RBG values are brought close to predetermined values by comparison.例文帳に追加
別の修正として重色パターンを印字して、そのRGB値の比較が規定値に近くなるようにする方法も別実施例とする。 - 特許庁
Therefore, the occupation area can be reduced in comparison with a case when a plane wiring is used to form an impedance added pattern.例文帳に追加
よって、平面的な配線によりインピーダンス付加パターンを構成する場合と比較して占有面積を削減することが可能となる。 - 特許庁
As a result, the Euclid distance in the case of the reproduced signal having a high error rate is used for calculation of the evaluation value by the pattern comparison.例文帳に追加
これにより、パターン比較により、誤り率の高い再生信号の場合のユークリッド距離を評価値計算用として用いる。 - 特許庁
To provide a polishing pad having a groove pattern realizing a more effective and useful polishing pad in comparison with a well-known pad.例文帳に追加
研磨パッドの設計者は、公知のパッドと比較して、より有効かつ有用な研磨パッドを実現する溝パターンを常に追求している。 - 特許庁
A defect is determined according to the result of comparison between the generated ideal pattern and the unit patterns contained in the inspection image S.例文帳に追加
そして、この生成された理想パターンと被検査画像Sに含まれる単位パターンとを比較した結果を用いて欠陥を判定する。 - 特許庁
In this method and device, appearances of inspection areas 16a-16i having repeated patterns are inspected based on comparison with the prescribed master pattern.例文帳に追加
繰り返しパターンを有する検査領域16a〜16iの外観を所定のマスタパターンとの比較に基づき検査する方法および装置。 - 特許庁
A pattern comparison unit 25 compares pieces of information which are recorded in each of an application log, a kernel log, and a communication log with the plurality of patterns.例文帳に追加
パターン比較部25は、アプリケーションログ、カーネルログ、および通信ログのそれぞれに記録されている情報と複数のパターンとを比較する。 - 特許庁
An image processing section 13 performs comparison (pattern matching) by a predetermined image processing using the imaging signal generated by the ultraviolet light L_UV.例文帳に追加
画像処理部13が、この紫外光L_UVによる撮像信号を用いて、所定の画像処理による比較(パターンマッチング)を行う。 - 特許庁
The comparison determining part 17 compares the difference in the luminance with a reference value to detect the abnormal resistance value portion in the wiring pattern.例文帳に追加
比較判定部17で、この輝度差を基準値と比較することにより、配線パターンの抵抗値異常個所の検出が行われる。 - 特許庁
When setting the pseudo code string as a pattern, and defining texts whose number is equal to the number of the components of the pattern as partial texts successively from the leading of the text as the pseudo code string, a comparison part 32 successively compares the partial texts with the pattern from the tailing pseudo code of the pattern toward the leading pseudo code.例文帳に追加
比較部32は擬似コード列をパターンとして、擬似コード列であるテキストの先頭から順にパターンの構成要素の数と同数のテキストを部分テキストとしつつ、当該部分テキストとパターンとの比較をパターンの最後尾の擬似コードから先頭の擬似コードに向かって順に行う。 - 特許庁
The system acquires two or more synthetic light emission integration images while changing an end test pattern address, and carries out comparison of synthetic light emission integration images on good and defective semiconductor devices in an ascending order of the end test pattern addresses, i.e., in ascending order of the end test pattern addresses close to the starting test pattern address.例文帳に追加
終了テストパターンアドレスを変化させながら複数の合成発光積分画像を取得し、終了テストパターンアドレスが小さい順、すなわち開始テストパターンアドレスに近い終了テストパターンアドレスから順に良品および不良品半導体装置の合成発光積分画像の比較を行う。 - 特許庁
In addition, the ECU 12 determines a symmetrical flag FRG through a comparison of front deceleration speeds Gl, Gr and a front judgment map applied as a front threshold value pattern and a comparison of the floor deceleration speed Gf and a Low map or a High map applied as a starting threshold value pattern.例文帳に追加
また、ECU12は、フロント減速度Gl,Grとフロントしきい値パターンとしてのフロント判定マップとの比較およびフロア減速度Gfと起動用しきい値パターンとしてのLowマップまたはHighマップとの比較により、対称フラグFRGを決定する。 - 特許庁
A pattern comparison processing part 108 compares in pattern the specific object on a screen included as an image in video data S6 decoded by a decoding part 103 with image data of a comparison source included in the other data S4 to generate position information of the specific object on the screen.例文帳に追加
パターン比較処理部108は、デコード部103でデコードされたビデオデータS6に画像として含まれる画面上の特定のオブジェクトを、その他のデータS4に含まれる比較元の画像データとパターン比較し、画面上における特定のオブジェクトの位置情報を生成する。 - 特許庁
Then, a position relation comparison part 53 compares the pen tip position information and the operation target position information, and outputs start information indicating a vibration pattern or a pulse shape to be transmitted to the pen tip based on a comparison result thereof.例文帳に追加
すると、位置関係比較部53が、ペン先位置情報と操作対象位置情報とを比較し、この比較結果に基づいてペン先に伝えるパルス形状又は振動パターンを示す起動情報を出力する。 - 特許庁
A comparison result generation part 110 generates comparison result between the time series pattern of utility demand and actual utility usage acquired from each type of a utility amount measurement sensor 107 of the production line of factory.例文帳に追加
比較結果生成部110は、この用役の需要の時系列パターンと、工場の生産ラインの各種用役量測定センサ107から取得した実際の用役の使用量との比較結果を生成する。 - 特許庁
An external inspection circuit 24 includes a control circuit 38 stored with a test pattern producing program for producing a test pattern according to a signal SIG2, a signal generator 40 for outputting a signal SIG4 (frequency setting signal) according to the test pattern, and a comparison discriminator 42 for comparing a signal SIG3 with an expected value to output a comparison result.例文帳に追加
外部検査回路24はテストパタン生成プログラムが記憶され、信号SIG2に応じてテストパタンを生成する制御回路38と、テストパタンに応じて信号SIG4(周波数設定信号)を出力する信号発生器40と、信号SIG3と期待値とを比較して比較結果を出力する比較判定器42とを含む。 - 特許庁
To solve the problem that the contour processing speed is made lower since it takes a long time to compare the pattern of an object area with all correction patterns in order to determine whether the pattern of the object area and a correction pattern coincide with each other or not by comparison between them.例文帳に追加
対象領域のパターンと補正パターンとを比較して両者が合致しているか否かを判定するために対象領域のパターンと全ての補正パターンとを比較するために比較判定に時間がかかり輪郭処理速度が遅くなる。 - 特許庁
An irradiation positions of the plurality of primary electron beams on the sample are set in accordance with a repetition pattern interval of the sample for the inspection, and repetition pattern images of the comparison object are obtained at the same time.例文帳に追加
前記複数一次電子ビームの試料上の照射位置を前記被検査試料の繰り返しパターン間隔に合わせて設定して、比較対象の繰り返しパターン画像を同時に取得する。 - 特許庁
It is possible therefore to perform time shortening movement without reducing an effect of the pattern changing in comparison with a constitution in which the pattern changing is shortened and an ineffective ball for memory of starting is prevented from being generated.例文帳に追加
このため、図柄変動を短縮する構成に比して、図柄変動の効果を減殺することなく、時短作動が可能となって、始動記憶の無効球の発生が防止されることとなる。 - 特許庁
A binarization part 21 cuts out a picture in a color area of a comparison decision object from color picture data as a binary picture and a pattern matching part 22 decides similarity between the cut out binary picture and a reference pattern.例文帳に追加
2値化部21はカラー画像データから比較判定対象のカラー領域の画像を2値画像として切り出し、パターンマッチング部22は切り出された2値画像と基準パターンの類似性を判断する。 - 特許庁
The game is transferred to the probability variation game in response to a result obtained by comparing information concerning identifying information being a stopped and displayed pattern with reference identifying information being a reference pattern to be reference for comparison.例文帳に追加
停止表示された図柄である識別情報に関する情報と、比較基準となる基準図柄である基準識別情報との比較結果に応じて、確率変動遊技に移行する。 - 特許庁
To produce a two-dimensional electrophoretic pattern of control which is a comparison object easily in various conditions, and to quickly and accurately analyze.例文帳に追加
比較の対象となるコントロールの二次元電気泳動パターンを容易に、且つ、様々な条件で作成し、迅速且つ正確な解析を行う。 - 特許庁
The semiconductor integrated circuit 1 comprises a logic circuit 10, a pattern generation circuit 30, a step-number adjustment circuit 40, and a comparison circuit 60.例文帳に追加
半導体集積回路1は、論理回路10、パターン生成回路30、段数調整回路40、及び比較回路60を備えている。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|