「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lithography apparatus for semiconductor processing for generating a mask-less pattern using a MDI process technique.例文帳に追加

ＭＤＩプロセス技法を使用してマスクレス・パターン生成用の半導体処理リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming wiring pattern not including disconnected area and short-circuit by obtaining bubble-less resist layer.例文帳に追加

気泡のないレジスト層を得て、断線や短絡のない配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure technology capable of forming a fine pattern on the level of the wavelength of illumination light or less inexpensively.例文帳に追加

照明光の波長程度以下の微細パターンを安価に形成可能な露光技術を提供する。 - 特許庁

A pattern narrowed part A having a narrowed pattern width is formed in a pattern 2a to be detected, and when the current of the pattern 2a is shunted into the pattern narrowed part A and a primary winding 31a of a current transformer 30a, the current of the primary winding 31a is made to flow less.例文帳に追加

検出すべきパターン２ａにパターン幅を細くしたパターン狭窄部Ａを設け、パターン２ａの電流をパターン狭窄部Ａと変流器３０ａの一次巻線３１ａとに分流させる際に、前記一次巻線３１ａの電流をより少なくする。 - 特許庁

A drop in inductance value can be suppressed by increasing the number of turns of the many-turn side coil pattern 3L by the reduced number of turns of the less-turn side coil pattern 3S.例文帳に追加

少ターン側コイルパターン３Ｓの巻回数を少なくした分、多ターン側コイルパターン３Ｌの巻回数を多くしてインダクタンス値低下を抑制できる。 - 特許庁

Thus, the highly shiny pattern part in black color appears to be raised from the non-pattern part in less shiny black ink.例文帳に追加

したがって、同じ黒色であっても光沢感の高い図柄部分が、光沢感の低い黒色インクのみの非図柄部分よりも浮き上がって見えるものである。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting apparatus that has less erroneous detection and enables relatively easy defect inspection even in a wiring pattern having different wiring widths.例文帳に追加

異なる配線幅からなる配線パターンであっても、誤検出が少なく、比較的容易な欠陥検査を可能とするパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

A waveform pattern selection part selects a waveform pattern PT1 including at least one ON period if the tone to be displayed is less than a threshold value.例文帳に追加

波形パターン選択部は、表示すべき階調がしきい値未満の場合には、少なくとも一つのオン期間を含む波形パターンＰＴ1を選択する。 - 特許庁

To provide a stamper having a pattern to obtain a desired pattern when a servo pattern is formed as a magnetic medium, and to provide a method of manufacturing the stamper and a magnetic disk in which the servo pattern with less generation of noise is formed.例文帳に追加

磁気媒体としてサーボパターンが形成されたときに所望のパターンを得られるパターンを有したスタンパ、そのスタンパの製造方法、さらにはノイズを生ずることが少ないサーボパターンが形成された磁気ディスクを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high sensitivity and high resolution, excellent in adhesion and temporal stability of sensitivity, and capable of forming a high-definition pattern with less residue on development, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A stamper 1 comprising a pattern whose protrusions/recesses are opposite to a wiring pattern is used to transfer the wiring pattern to at least a resin on the surface of a board 20, and a wiring pattern comprising a groove whose width is 30 μm or less is formed.例文帳に追加

配線パターンと凹凸が逆のパターンを備えたスタンパ１を用いて、基板２０の少なくとも表面にある樹脂に前記配線パターンを転写させることにより、溝幅が３０μｍ以下の溝を含む配線パターンを形成する。 - 特許庁

Though the winding route of the many turn-side coil pattern 3L is almost fixed and the degree of freedom for design of the pattern 3L is low, the degree of freedom for setting the winding route of the less-turn side coil pattern 3L becomes higher accordingly to the reduced number of turns of the pattern 3S.例文帳に追加

多ターン側コイルパターン３Ｌの巻回経路はほぼ定まってしまい、その設計の自由度は低いのに対して、少ターン側コイルパターン３Ｓは、巻回数が少ない分、その巻回経路の設定の自由度は高くなる。 - 特許庁

The voice determining section 10 executes pattern matching between the analyzed uplink pattern and the sign pattern stored in the storage section 9 to determine whether a rate of matching between the uplink pattern and the sign patterns is not less than a predetermined threshold value.例文帳に追加

また、音声判定部１０は、その解析した上りパターンと記憶部９に記憶された兆候パターンとのパターンマッチングを行い、その上りパターンと兆候パターンの上り一致率が予め定められた閾値以上か否かを判定する。 - 特許庁

A hole pattern or the like free from a development defect, the pattern having a crosslinked hardened layer 5 on the surface of the resist pattern and having a size less than the resolution limit of the exposure wavelength is formed by developing the coating layer 4.例文帳に追加

被覆層４を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層５を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 - 特許庁

A graphic pattern to be included in a divided region 72 is transferred to a resist layer 74 via a mask 73 by using a pattern transfer method of an optical contact-less system to form a latent image 75b of the graphic pattern.例文帳に追加

光学的非接触方式のパタン転写方法を用いて、分割領域７２に含まれる図形パタンをマスク７３を介してレジスト層７４に転写し、図形パタンの潜像７５ｂを形成する。 - 特許庁

Further, a low frequency component in an arrangement pattern of record permitting pixels obtained by the logical multiplication of the mask pattern C1 and the mask pattern M1 is made to be less than a high frequency component.例文帳に追加

更に、マスクパターンＣ１とマスクパターンＭ１との論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少なくなるようにする。 - 特許庁

An edge-less uneven pattern 8g in a smooth shape may be given to the surface of the light reflecting film 8a.例文帳に追加

従って、光反射膜８ａの表面に、エッジのない、なだらかな形状の凹凸パターン８ｇを付与できる。 - 特許庁

To provide a preamble pattern recognition method and a frequency deviation detecting method requiring less calculation.例文帳に追加

演算量が少なくて済むプリアンブルパターン識別方法及び周波数偏差検出方法を提供すること。 - 特許庁

Moreover, regions having a pitch of a stepwise periodic structure of 7 μm or less is masked by the resist pattern 21a.例文帳に追加

また、階段状周期構造のピッチが７μｍ以下の領域をレジストパターン２１ａによってマスキングする。 - 特許庁

To provide a system which can change a pattern more quickly and at less cost compared with a mask base system.例文帳に追加

マスク・ベース・システムに比べてパターンがより迅速にかつより少ないコストで変更できるシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a developing solution composition which can form a satisfactory thick-film resist pattern and has less in foaming.例文帳に追加

良好な厚膜レジストパターンを形成できるとともに、泡立ちが少ない現像液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of drawing an interatomic force electron beam line which draws an electron beam line of a detailed pattern of 10 nm or less.例文帳に追加

１０ｎｍ以下の微細パターンの電子線描画を可能とする原子間力電子線描画法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a patterned magnetic recording medium which has a good pattern shape using a thin etching mask, and can efficiently deactivate the magnetism of a pattern recess while suppressing magnetic deterioration of a pattern projection with less pattern irregularity.例文帳に追加

薄いエッチングマスク厚での加工ながらも加工後のパターン形状がよく、少ないパターン凹凸でパターン凸部の磁性劣化を抑えつつ、効率的にパターン凹部の磁性を失活させることが可能なパターンド磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁

By preparing 202 an intermediate pattern based on a special filter, then generating 204 the pattern of the dither matrix for which the elements provided with the value equal to 1 are less than the intermediate pattern, then generating 206 the pattern of the dither matrix for which the elements provided with the value equal to 0 are less than the intermediate pattern and further, adding all the generated patterns, the dither matrix is generated 208.例文帳に追加

ディザーマトリクスは、まず、特別なフィルタに基づいて中間パターンを作成することによって生成し、次に、１に等しい値を有する要素が中間パターンより少ないディザーマトリクスのパターンを生成し、次に、０に等しい値を有する要素が中間パターンより少ないディザーマトリクスのパターンを生成し、さらに、生成された全てのパターンを加算することにより形成される。 - 特許庁

To provide glass paste which can realize a coating film having a reflectance with less variation even after execution of coating and thermal treatment and which can offer a pattern with less variation in its bottom width when using the glass paste as an underlying layer in pattern processing by a photolithographic method.例文帳に追加

塗布、加熱処理を行った後も塗布膜の反射率のばらつきが少なく、フォトリソグラフィ法によりパターン加工を行う際の下地層として用いた場合に、パターンの底部幅のばらつきの少ないガラスペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus having a mask pattern forming machine which facilitates the pressure adjustment of a print roller and a backup roller and improves the productivity by increasing the operational speed with less unclear pattern or less wear/breakage of projecting parts.例文帳に追加

印刷ローラとバックアップローラの押し圧調整を容易にし、パターンの不鮮明や凸部の磨耗破損の少ない、かつ、高速化により生産性向上が可能なマスクパターン形成機を設けた真空蒸着機を提供する。 - 特許庁

Consequently, the detection pattern is stably detected with less erroneous detection, irrespective of variation in the reflectance and shape of the base of the irradiation surface or in the optical density of the detection pattern.例文帳に追加

このため、照射面の下地の反射率や形状あるいは検出パターンの光学濃度の変動に関わらず、誤検出の少ない安定した検出が可能となる。 - 特許庁

Subsequently, in a second process, a straight line pattern in the transverse direction in the entire grid-shape pattern is plotted with a low printing frequency of 100 Hz or less, for example.例文帳に追加

次いで、第２の工程において、格子状パターンの全体における短手方向の直線パターンを、例えば１００Ｈｚ以下の低い印字周波数により描画する。 - 特許庁

To prevent the disconnection of a wiring pattern even when the width of the wiring pattern is made to be, for example, 1 mm or less to reduce the area of a printed wiring board.例文帳に追加

プリント配線板の面積を小型化すべく配線パターンの幅を例えば１ｍｍ以下としたときにも、配線パターンの断線がないようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a ceramic heater capable of reducing the entire width of a heater pattern, without damaging the printing state, and capable of forming a heater pattern that has less dispersions in the heater resistance.例文帳に追加

印刷状態を損なうことなく、パターン全幅を小さくすることができ、かつヒータ抵抗のばらつきが少ないヒータパターンを形成できるセラミックヒータを提供すること。 - 特許庁

With this, the pattern is allowed to be seen clearly by the difference of the brightness of the display pattern part with less brightness and other parts with comparatively high brightness.例文帳に追加

これにより、他の部分に比べて輝度の低い表示パターン部と、相対的に輝度の高い他の部分との輝度の差によりパターンを明瞭に視認することができる。 - 特許庁

In dry etching for forming a pattern involving isolated pattern regions and dense pattern regions on a substrate having conductive members formed thereon using a hard mask, the thickness of the hard mask is set so that the pattern size of the dry etched hard mask minus the size of a pattern formed on a resist film is less than a specified (allowable) value at the isolated pattern regions and the dense pattern regions.例文帳に追加

導電部材が形成された基板上に、孤立パターンと密集パターンを含むパターンをハードマスクによりドライエッチングする場合に、ハードマスクの厚さを、レジスト膜に形成したパターン寸法からハードマスクをドライエッチングした後のハードマスクのパターン寸法を差し引いた値が、前記孤立パターン領域と前記密集パターン領域とで所定の値（許容値）以下となるような膜厚とする。 - 特許庁

In a photomask 100 used in a semiconductor manufacturing process, a first mask pattern 106 transferred to a resist pattern and a second mask pattern 108 of a resolution limit or less for suppressing the light proximity effect are provided.例文帳に追加

半導体製造工程に用いられる露光用１００において、レジストパタンに転写される第１マスクパタン１０６と光近接効果を抑制するための、解像限界以下の第２マスクパタン１０８を設ける。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprints, in which the components on a substrate are less vaporized during its application to a thin film, capable of forming a good pattern, and a pattern forming method using this, and a pattern obtained thereby.例文帳に追加

薄膜塗布時にも基材上の成分の揮発が少なく、良好なパターンが形成できるインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法およびこれにより得られるパターンを提供する。 - 特許庁

To create such a threshold array that low-frequency noise, such as moires, is less apt to occur, based on a dot pattern which is a collective pattern made of dots, consisting of one or more blackening pixels in a certain gradation, when the dot pattern is given.例文帳に追加

ある階調での１以上の黒化画素からなるドットの集合パターンであるドットパターンが与えられているとき、このドットパターンに基づき、モアレ等の低周波ノイズの発生の起きにくい閾値配列を作成する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming system capable of forming a test pattern with less uneven density.例文帳に追加

濃淡ムラを抑えたテストパターンを形成できる画像形成装置、及び、画像形成システムを実現することにある。 - 特許庁

The distance between the line of the first wiring pattern and the contact pad is the predetermined pitch, and the predetermined pitch is 100 nm or less.例文帳に追加

第１配線パターンのラインとコンタクトパッドとの間隔は所定ピッチであり、所定ピッチは１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

To provide technique capable of easily forming a transparent electrode pattern, which is less in surface roughness and is high in light transmittance.例文帳に追加

表面荒れが少なく、光の透過率の高い透明電極パターンを容易に形成できる技術を提供する。 - 特許庁

To detect even a pattern equal to or less than one pixel size low in detection sensitivity with high accuracy.例文帳に追加

本発明は、検出感度の低かった１画素サイズと同等乃至１画素サイズ以下のパターンでも精度高く検出する。 - 特許庁

To eliminate missing of data even when there are more or less errors in a frame synchronization pattern with a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成で多少のフレーム同期パターンの誤りがあっても、データの欠落がないようにすることを目的とする。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR RECORDING INTENSITY PATTERN GENERATED IN CONTACT SURFACE BY DISTURBED TOTAL REFLECTION WITH LESS DISTORTION例文帳に追加

妨害された全反射により接触面に生じる強度パターンを少ない歪みで記録するための方法及び装置 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color imaging device by which a pattern shape (three-dimensional shape) sis not collapsed by a film hardening treatment and a pattern width is not widened in the lateral direction even when the pattern of a color filter is a fine pattern of 3 μm×3 μm or less.例文帳に追加

カラーフィルタのパターンが３μｍ×３μｍ以下の微細なパターンであっても、硬膜処理によってパターン形状（立体形状）が崩れることのない、同時に横方向にパターン幅が拡がることのないカラー撮像素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

It is favorable that the aluminum foil which constitutes the circuit pattern layer 13 includes silicon of 0.03 mass % or more to 0.5 mass % or less or includes silicon of 0.03 mass % or more to 0.5 mass % or less and copper of 0.3 mass % or less.例文帳に追加

好ましくは、回路パターン層１３を構成するアルミニウム箔は、シリコンを０．０３質量％以上０．５質量％以下、または、シリコンを０．０３質量％以上０．５質量％以下、銅を０．３質量％以下含む。 - 特許庁

The exposure mask 1 for transferring a pattern onto a wafer by exposure includes: a pattern formation region 15 where a pattern 16 having a size not smaller than a resolution limit after being transferred onto the wafer, and a sub-pattern formation region 18 where a sub-pattern 19 having a size less than the resolution limit after being transferred onto the wafer, on a substrate 11.例文帳に追加

露光によりウェーハ上にパターンを転写する露光用マスク１において、基板１１上に、ウェーハ上で解像限界以上となるサイズのパターン１６が形成されたパターン形成領域１５と、ウェーハ上で解像限界未満となるサイズのサブパターン１９が形成されたサブパターン形成領域１８とを設ける。 - 特許庁