「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

A dielectric film is formed at least on one surface of the opposing plate faces of metal plates firmly fitted to each other with ruggednesses formed of a height difference within a range of 5 μm or more and 50 μm or less and an arbitrary flat-pattern shape, whereby, microplasma discharge is generated between both the metal plates.例文帳に追加

金属板の対向する板面の少なくとも一方の表面は誘電体膜が形成されて、誘電体膜の表面は、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲の高低差と任意の平面パターン形状とをもった凹凸が形成された対向金属板の板面が相互に固設されて、両金属板間にマイクロプラズマ放電を生起させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminated electronic component comprises steps of printing a conductive paste, which includes a conductive powder and a ceramic powder having a mean particle size of 0.1 μm or less on a dielectric green sheet 1 to form a plurality of rectangular conductor patterns 3 at a predetermined interval, pressurizing the patterns 3 to smoothen the patterns 3, and forming a ceramic pattern 5 between the patterns 3.例文帳に追加

誘電体グリーンシート１上に、平均粒径差が０．１μｍ以下の導電性粉末とセラミック粉末とを含有する導電性ペーストを印刷して矩形状の導体パターン３を所定間隔をおいて複数形成し、前記導体パターン３を加圧して平滑化するとともに、該導体パターン３間にセラミックパターン５を形成する。 - 特許庁

To provide a screen editing device having a screen editing repeating device, capable of repeating continuous operation by a repeating function provided by the edition device in addition to just preceding repeating operation and executing a series of long operation pattern also by less input operation.例文帳に追加

画面編集作業の一連の繰り返し操作において、画面編集装置が提供する繰り返し機能が直前の繰り返し操作のみでなく連続する操作を繰り返すことが可能であり、また、長い一連の操作パターンでも少ない入力操作で実施することができる画面編集反復装置を有する画像編集装置の提供を目的とする。 - 特許庁

The decorative glass article for building 10 is composed of a glass sintered compact in which glass tubes 10b consisting of glass having the amount of alkali elution based on JIS R-3502 of 0.3 mg or less are welded together, and has a wavelike uneven pattern 10c with a height difference originated from the shapes of glass tubes 10b of 1.0 mm or more on a design surface 10a.例文帳に追加

本発明の建築用装飾ガラス物品１０は、ＪＩＳ Ｒ−３５０２に基づくアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であるガラスからなるガラス管１０ｂが互いに熔着したガラス焼結体よりなり、意匠面１０ａにガラス管１０ｂの形状に起因する高低差が１．０ｍｍ以上の波型凹凸模様１０ｃを有する。 - 特許庁

In this method, a glass having a color pattern of an arbitrary shape therein and the trace of the condensed point being colored at least in two colors is manufactured by irradiating and condensing a pulse laser light of a specified wave length inside the glass containing an Au ion with not less than two specified peak power densities while moving the condensed point, then heating the glass.例文帳に追加

Ａｕイオンを含有するガラス内部に、所定の波長のパルスレーザ光を集光点を移動させながら、二以上の所定のピークパワー密度でガラス内部に集光照射した後、該ガラスを加熱することにより、集光点の軌跡が二以上の色に着色した、内部に任意の形状のカラーパターンを有するガラスを作製する。 - 特許庁

The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加

スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。 - 特許庁

The resin composition for forming a fine pattern contains a resin containing a hydroxyl group, a crosslinking component, and an alcohol-based solvent containing alcohol and water by 10 wt.% or less of the whole solvent, wherein the resin composition contains a compound having two or more epoxy groups in the molecule as the crosslinking component.例文帳に追加

水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物。 - 特許庁

To enable precise positioning of a decorated sheet to the feeding direction of the sheet and to its with direction, make it less prone to cause positional shifting of the design pattern or the like of the decorated sheet to an injection resin molded body in an obtained decorated laminated article (a product), reduce a molding cycle, and improve the production efficiency.例文帳に追加

絵付シートをシート供給方向及び幅方向に正確に位置決めでき、得られる加飾積層品（製品）において絵付シートの絵柄模様等が射出樹脂成形体に対して位置ずれを生じ難くできるとともに、成形サイクルを短縮でき、生産効率を向上させることができる射出成形同時絵付装置を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device in which a plurality of semiconductor chips are stacked on a thickness direction are mounted, an interposer between the semiconductor chips has sufficient planarity and dimension stability even on conditions that a polyimide film 1 to be formed has a curling degree of 10% or less at 300°C and it has been subjected to mechanical, thermal and chemical stresses in a circuit pattern forming process.例文帳に追加

複数の半導体チップが厚さ方向に積層・搭載された半導体装置であって、これら半導体チップ間のインターポーザが、構成されるポリイミドフィルム１の３００℃でのカール度１０％以下で、回路パターン制作過程に於いて機械的、熱的、化学的ストレスを経ても、十分な平面性と寸法安定性を有している。 - 特許庁

The current fusing type metal fuse can be formed utilizing constitution such as one part of metal wiring, or the like which exists in a semiconductor device originally, since pads and wiring required in current-fusing of a metal fuse can be shared by arraying metal fuses in an array state, storing data of multi-bits can be performed with less pads and smaller pattern occupied area.例文帳に追加

金属配線の一部などの半導体装置が本来有する構成を利用して電流溶断型のメタルヒューズを形成でき、且つメタルヒューズをアレイ状に配置することで、メタルヒューズの電流溶断時に必要となるパッドや配線を共用できるため、少ないパッド数且つ小さいパターン占有面積で多ビットのデータ記憶が可能となる。 - 特許庁

The transparent material for forming the lattice structure is formed of a silicon nitride film and has a thickness of 800 nm or less, and provides a wide band quarter-wave plate which has a thin film thickness and is easily processed, and accordingly can enhance accuracy of a required phase difference and high transmissivity, by making a cross-sectional shape of each line pattern into a trapezoidal shape according to required characteristics.例文帳に追加

本発明は、格子構造を形成するための透明性材料は、窒化シリコン膜からなり、その厚さは８００ｎｍ以下であり、要求特性に応じ各ラインパターンの断面形状を台形形状とすることにより、薄い膜厚で加工しやすく、従って必要な位相差と高い透過率の精度を向上することができる広帯域１／４波長板を提供する。 - 特許庁

To provide an ink for use in a reverse printing process with less safety issue, which has appropriate wettability and releasability to a surface of a silicone blanket, wherein: an ink layer having uniform thickness and causing no vertical stripes, unevenness and pinhole can be formed on the surface of the silicone blanket; and an ink pattern having uniform thickness can be formed on an object to be printed such as a substrate.例文帳に追加

シリコーンブランケットの表面に対して適度の濡れ性と離型性とを兼ね備え、前記シリコーンブランケットの表面に縦スジやムラ、ピンホール等のない厚みが均一なインキ層を形成するとともに、基板等の被印刷体の表面に厚みが均一なインキパターンを形成でき、しかも安全性の問題等も生じにくい反転印刷法用のインキを提供する。 - 特許庁

By this constitution, an address signal is generated inside a semiconductor memory, a test pattern used for a test of a semiconductor memory can be realized with address control of input terminals of numbers being less than the number of address input terminals used in the normal operation by realizing this address control by the address increment function, the address decrement function, and the address holding function.例文帳に追加

この構成によれば、半導体記憶装置の内部でアドレス信号が発生され、このアドレスの制御が、アドレスインクリメント機能、アドレスデクリメント機能およびアドレス保持機能により実現されることにより、通常動作時に用いるアドレス入力端子数よりも少ない数の入力端子のアドレス制御で半導体記憶装置のテストで用いるテストパターンを実現できる。 - 特許庁

The pattern formation method comprises the steps of: forming a resist film on a semiconductor substrate; forming the antistatic film on the resist film; exposing an electron beam to the resist film; peeling the antistatic film by using peeling liquid with a temperature of 30°C or more and 35°C or less; and performing a development to the resist film to form predetermined patterns.例文帳に追加

パターン形成方法が、レジスト膜を半導体基板上に形成する工程、前記レジスト膜上に帯電防止膜を形成する工程、前記レジスト膜に対して電子線を露光する工程、温度３０℃以上３５℃以下の剥離液を用いて前記帯電防止膜を剥離する工程、および前記レジスト膜に対して現像を行い所定のパターンを形成する工程とを含む。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes steps of applying a chemically amplified resist composition on a base 1 to form a resist film 2 and selectively exposing the resist film 2 through a photo mask 5 a plurality of times, wherein a total of transmissivity of a light-shielding part of the photo mask 5 used for each of selective exposures is 0 to less than 12%.例文帳に追加

支持体１上に、化学増幅型レジスト組成物を塗布してレジスト膜２を形成し、当該レジスト膜２に対して、フォトマスク５を介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎に用いられるフォトマスク５の遮光部の透過率の総和を０〜１２％未満とすることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide an anisotropic conductive sheet which has high adhesive strength and connection reliability, used for combining two printed circuit boards having circuit pattern on the surface such as a flexible printed circuit board (FPC) and a glass substrate of a liquid crystal panel having ITO terminals, having flowability and reactivity at low temperature such as 150°C and in a short time such as 10 sec or less.例文帳に追加

フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）とＩＴＯ端子が形成された液晶パネルのガラス基板の組み合わせなど、表面に配線パターンが形成された２枚の配線基板の接合に用いられる、１５０℃程度の低温、かつ１０秒程度以下の短時間でも流動性および反応性を有し、高い接着強度と接続信頼性を有する異方導電性シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

For a device having 300 V breakdown voltage rating, the die has a buffer layer with substrate specific resistance of less than 10 mΩ cm, thickness of about 8 μm, and specific resistance of 0.05 to 0.1 Ω cm; and epitaxial layer to support a joint pattern and trench, with thickness of 31 to 37 μm and specific resistance of 14 to 18 Ω cm.例文帳に追加

３００Ｖのブレークダウン電圧定格を有するデバイスに対し、ダイは、１０ｍオームｃｍ未満の基板抵抗率、厚さが約８μｍで、０.０５〜０.１オームｃｍの範囲の抵抗率を有するバッファ層と、３１〜３７μｍの厚さ、および１４〜１８オームｃｍの範囲の抵抗率を有する、接合部パターンおよびトレンチを支持するためのエピタキシャル層とを有する。 - 特許庁

A printing technique wherein pixel locations that are requested to be marked with only black are identified, black is applied to the identified pixel locations, and non-black color is applied to a subset of the identified pixel locations that correspond to on-pixels of a reference pattern of non-black color pixels having an on-pixel population of at least 20% and a toner transfer efficiency of less than about 20%.例文帳に追加

黒色のみでマークされるように要求されるピクセル位置を識別し、識別されたピクセル位置に黒色を適用し、識別されたピクセル位置のうち、少なくとも２０パーセントのオン・ピクセル母集団と少なくとも約２０パーセントより少ないトナー転写効率とをもつ非黒色カラーピクセルの基準パターンのオン・ピクセルに対応するサブセットに非黒色カラーを適用する印刷技術である。 - 特許庁

In this print dyeing, a fabric (for example, polyester fiber woven fabric having a refractive index of 1.6 to 1.7) is treated (printed) with deep color processing solution including a resin having a refractive index lower than that of the fabric (for example, a silicone resin with a refractive index of less than 1.4 ) to form an image-like pattern.例文帳に追加

捺染印刷において、色材を有するインクにより布帛（例えば、ポリエステル繊維織物、 屈折率は１．６〜１．７程度）へ記録された画像様に、布帛表面より屈折率が低い皮膜形成能を持つ樹脂（例えば、屈折率が１．４以下と低いシリコーン樹脂）を含有する濃色加工液を付与（例えば、インクジェット方式）することを特徴とする濃色加工方法。 - 特許庁

To provide a less-expensive shading wrapping material for liquid soup for restricting influence of color of the liquid soup such as liquid seasoning or the like against a printed picture pattern, restricting promotion of photooxidation of fats and oils contained in the stored contents, showing a barrier characteristic, capable of detecting irregular metallic substances through usage of a metal detector, visual confirmation of irregular seal and further adapting for a small lot.例文帳に追加

本発明は、液体調味料などの液体スープの色による印刷絵柄への影響を抑制し、また内容物に含有される油脂の光酸化促進を抑制し、バリア性があり、金属探知器の使用による金属異物検出ができ、シール異常の目視確認もでき、小ロット対応可能で安価な液体スープ用遮光性包装材料を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a source of light with 157 nm is used, having a wide defocus latitude, less liable to cause line edge roughness, free of concern for negative formation because a resist film is substantially thoroughly dissolved when developed with a developer and ensuring slight trailing of a line-and-space pattern.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが発生し難く、現像液で現像した際にレジスト膜が実質的に完全に溶解してネガ化の懸念がなく、ラインアンドスペースパターンの裾引きが小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When a time clocked by a display time timer 141 when the display control is completed is less than a specific time, the display control part 143 controls the display of the liquid crystal display device 131, based on the performance pattern data 10 to be finally used in the display control concerning the prescribed order, during a period till the time clocked by the display time timer 141 becomes the specific time.例文帳に追加

表示制御部１４３は、当該表示制御が終了したときにおいて表示時間タイマ１４１により計時された時間が特定時間に満たない場合には、表示時間タイマ１４１により計時された時間が特定時間になるまでの間、上記所定の順番での表示制御で最後に用いられる演出パターンデータ１０に基づいて液晶表示装置１３１を表示制御する。 - 特許庁

This solid pharmaceutical administration pattern includes diphosphonic acid or physiologically appropriate salts of the same such as ibandronate, etidronate, clodronate, risedronate, pamidronate or alendronate, as the active substance, wherein the active substance (in certain instances contains also a pharmaceutical adjuvant drug) exists in a granule form in the inner phase, and the outer phase contains less than 5 wt.% lubricant in a form of stearic acid.例文帳に追加

活性物質として、イバンドロネート、エチドロネート、クロドロネート、リセドロネート、パミドロネート、またはアレンドネートなどのジホスホン酸または生理学的に適合するその塩を含有し、その活性物質が、（場合によっては製薬学的佐剤を共に含む）顆粒の形態で内相に存在し、外相が、投与形態の総重量に対し５重量％未満のステアリン酸の形態の潤滑剤を含有する、固体の製薬学的投与形態。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

Adhesive layers (102, 103, ...) having different flowability are laminated in at least two or more layers as an adhesive layer 104 of the adhesive film 105 and the coverlay film 100, and a surface (103 side) having less flowability of the adhesive layer 104 is provided on the wiring pattern.例文帳に追加

本発明は、接着フィルム１０５、カバーレイフィルム１００の接着剤層１０４としてフロー性の異なる接着剤層（１０２、１０３、・・）を少なくとも２層以上積層し、前記接着剤層１０４のフロー性の小さい面（１０３側）を配線パターン上に設けることで、プレス後の表面平滑性に優れ、且つ配線パターン端子部等の開口部分に接着材料が流れ出すのを極力抑え、前記接着剤層１０４を極力薄くすることが可能な接着フィルム１０５、カバーレイフィルム１００を提供するものである。 - 特許庁

A process of transcribing decorative patterns on textile by applying transcription material layered on a flexible base sheet, consisting of dyes, pigments, film-forming polymers, …a catalyst activated by the heat emitted from cross bonding reactions in which the catalyst comprises: a base of a mono-basic organic compound having pKa of less than 3.50 in water at 20oC and A base of a monobasic organic compound having pKa of over 3.75 in water at 20oC. Characterized in that layered transcription material is pressed against the textile while being heated, flexible base sheet except the layer attached to the textile is removed, and the textile is heated at higher temperature to fix the transcribed pattern. 例文帳に追加

織物生地の装飾加工法及び転写材料染料又は顔料、フィルム形成性重合体、交叉結合反応用の熱によって活性化されうる触媒よりなる転写層を可撓性基材シート上に有する転写材料であって、該触媒が、20℃の水溶液中で3.50以下のpKaをもつ有機塩基との塩、及び20℃の水溶液中で3.75以上のpKaをもつ有機塩基との塩よりなる転写材料の転写層を加熱しながら織物生地に押し付け、織物生地に付着した層を残して可撓性基材シートを除去し、次いで織物生地を高温に加熱して転写を固定することを特徴とする織物生地の装飾加工方法。 - 特許庁