pattern lessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 683件
The monitor can be recognized to have a display color resolution of 24 bits if the pattern can be recognized when the test image T is displayed on the monitor otherwise the monitor can be recognized to have a display color resolution of 16 bits or less.例文帳に追加
このテスト画像Tをモニタに表示し、パターンが確認できればそのモニタの表示色分解能は24ビットであり、パターンが確認できなければ、そのモニタの表示色分解能は16ビット以下であると認識できる。 - 特許庁
This is because of the following reasons: In an ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less, the difference in reflectivity between a white ground and printed portions of the C, M, and Y colors becomes large, and concentration difference occurs among a plurality of patterns included in the test pattern.例文帳に追加
これは、波長400nm以下の紫外域では、CMY各色において白下地と印字部分との反射率差が大きくなり、テストパターンに含まれる複数のパターン間で濃度差が発生するためである。 - 特許庁
An ejection head 33 having an ejection opening diameter of 20 μm or less imparts a plurality of liquid drops of a solution containing fine particles onto a substrate 14 to form a pattern wiring or a device on the substrate 14 and an electrode region.例文帳に追加
吐出口径がΦ20μm以下の噴射ヘッド33によって微粒子含有溶液の液滴を基板14上に複数滴噴射付与し、基板14上と電極領域にパターン配線あるいはデバイスを形成する。 - 特許庁
To provide a screen printing press which, even in the case of printing of a fine pattern, can effectively transfer cream solder filling openings in a mask to an electronic circuit board and, further, is less likely to cause bleeding of the cream solder component on the electronic circuit board.例文帳に追加
微細パターンの印刷であっても、マスクの開口部に充填されたクリームはんだを効果的に電子回路基板に転写でき、しかも、クリームはんだ成分の電子回路基板へのにじみ出しが少ない装置が要望されている。 - 特許庁
To provide a contact exposure method and an apparatus for obtaining a uniform exposure pattern with less unevenness by imparting simple alteration even when a conventional contact exposure apparatus using a light source having variance in luminance energy or irradiation direction.例文帳に追加
露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。 - 特許庁
In the prism sheet 45 in which a prism pattern is formed on the lower face, fillers (fine particles) having the average particle diameter of 1 μm or more and 20 μm or less are dispersed uniformly in a translucent resin matrix (polycarbonate resin or the like).例文帳に追加
下面にプリズムパターンが形成されたプリズムシート45にあっては、透光性樹脂マトリックス(ポリカーボネイト樹脂など)内に平均粒子径が1μm以上20μm以下のフィラー(微小な粒子)が均一に分散している。 - 特許庁
To provide inexpensive transmission terminal equipment for sensing door opening and closing of a refrigerator and a living monitor system, which have comparatively less dispersion in a pattern in terms of statistics, which do not need additional adjunctive facility construction, and which are hardly affected by the outside disturbances.例文帳に追加
統計的にパターンのばらつきが比較的少なく、別途付属的な設備工事を必要とせず、且つ外乱の影響を受けにくい低コストな冷蔵庫の扉開閉感知用伝送端末装置及び生活モニターシステムの提供。 - 特許庁
To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.例文帳に追加
露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁
A wiring board is created, which has a substrate 6, a wiring 4 disposed on the substrate 6 and having a predetermined pattern, and a layer disposed on one part or entire of the wiring 4 and containing silver nano-particles 3 having a particle size of 200 nm or less.例文帳に追加
基材6と、基材6に配置され、所定のパターンを有している配線4と、配線4の一部または全部に配置され、粒子径200nm以下の銀ナノ粒子3の層を有する配線基板を創作した。 - 特許庁
The upper side reflection film has a light reflection region and a light transmitting region by fitting an opening pattern consisting of a plurality of transparent holes transmitting light on a reflection sheet with reflectance of 80% or more and transmittance of 18% or less.例文帳に追加
上側反射膜は、反射率80%以上、透過率18%以下の反射シートに、光を透過する複数の透孔からなる開口パターンを設けることにより光反射領域と光透過領域とが形成されている。 - 特許庁
The luminance distribution uniforming sheet 10 includes square dot- or triangular dot-like halftone dots 12 printed on a translucent substrate 11 in a pattern of AM screening with an area ratio of 45% or less or with an area ratio of 55% or more.例文帳に追加
本発明の輝度分布均一化シート10は、透光性基材11に、スクエアドットまたはトライアングルドットの網点12が、面積率45%以下または面積率55%以上の範囲のAMスクリーニングのパターンで印刷されている。 - 特許庁
Conditions for a following storage state heating process are set so as to make the total sum of stress of each data pattern as equal to each other as possible, whereby a ferroelectric memory can be less reformed through all storage state heating process.例文帳に追加
データパタンごとのストレスの総和ができるだけ等しくなるよう次記憶状態加熱工程の条件を設定することにより、記憶状態加熱工程全体を通じて、強誘電体メモリの「くせ付け」を少なくすることができる。 - 特許庁
The fixed pulse pattern generation means 12 sets a modulation factor to not less than 1.2 when on/off phase angles of a quarter cycle are nearly 11.2°(on), 13.8°(off), 16.5°(on), 20.0°(off), and 21.7°(on), and a system impedance at a side of the AC power supply 1 is 15%.例文帳に追加
固定パルスパターン発生手段12は、四半周期のオンオフ位相角が略11.2°(オン)、13.8°(オフ)、16.5°(オン)、20.0°(オフ)、21.7°(オン)で、交流電源1側の系統インピーダンスが15%のとき、変調率を1.2以上とする。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加
90nm以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、DOFとMEEFのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To display high-definition images with less distortions by precisely correcting the effect of load fluctuation in a lamp signal line caused by a pattern to be displayed, while maintaining the advantages such as the high linearity of the DA conversion system using lamp signals.例文帳に追加
ランプ信号を用いたDA変換方式の直線性の良さなどのメリットを保持しつつ、表示する絵柄によるランプ信号線の負荷変動の影響を高精度に補正し、より歪の少ない映像を高画質に表示する。 - 特許庁
To provide a method for extracting a peak of waveform data for detecting the peak to be detected by removing maximum values and minimum values of a predetermined value or less included in the waveform data acquired by an antenna pattern measuring system or the like as unwanted noises.例文帳に追加
アンテナパターン測定システム等で取得した波形データに含まれる所定大きさ以下の極大値および極小値を不要ノイズとして除去して目的とするピークを検出する波形データのピーク抽出方法を提供する。 - 特許庁
Next, while the pattern of the photo resist 14 is trimmed so as to be a predetermined thickness, length, the amount of protrusion L is made to be a predetermined amount or less, an etching mask of substantially L character shape is formed by etching an Si_3N_4 layer 13 making this as a mask.例文帳に追加
次に、フォトレジスト14のパターンを所定の太さ、長さにトリミングするとともに、はみ出し量Lを所定量以下とし、これをマスクとしてSi_3N_4層13をエッチングして略L字状のエッチングマスクを形成する。 - 特許庁
In the ceramic heater where the heating resistor is embedded in a ceramic body, the angle at an edge of the heating resistor is made 60° or less at least one place of the cross section perpendicular to the longitudinal direction of a wiring pattern.例文帳に追加
発熱抵抗体をセラミック体中に内蔵してなるセラミックヒータにおいて、前記発熱抵抗体の縁部の角度が、配線パターンの長手方向に対する垂直な断面の少なくとも1ヶ所において60°以下とした。 - 特許庁
To provide a method of forming a mask pattern that can reduce the number of processes, can prevent melting of a first resist film in depositing a second resist film, and can form fine openings having a size equal to or less than the resolution of an exposure device.例文帳に追加
工程数を削減でき、第2のレジスト膜を成膜する際の第1のレジスト膜の溶解を防止できるとともに、露光装置の解像度以下の微細な開口部を形成できるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To manufacture a glass bottle on which a label can be stuck and an uneven pattern is expressed at a low cost in utilizing merits of an uneven parison molding such that the formation of checks by molding is less and solving a problem that a mold manufacturing cost is high.例文帳に追加
ラベルが貼れて、成形によるビリの発生が少ないという凹凸パリソン成形のメリットを活かしつつ、金型作製費用が高いという問題を解決し、凹凸模様が表現されたガラスびんを安価に製造する。 - 特許庁
When the value of the number of the balls held in operation stored in the special pattern operation hold number storage area is less than '4' (S102: NO), an alarm command is outputted from a main board to an electrical ornamental board, a sound board and a shoot handle control circuit (S103).例文帳に追加
特別図柄作動保留数記憶エリアに記憶している作動保留数の値が4未満の場合には(S102:NO)、報知コマンドを主基板から電飾基板、音基板、及び発射ハンドル制御回路に出力する(S103)。 - 特許庁
To provide a micro-injector which can highly accurately form a comb tooth-shaped electrode pattern, can make fluctuation of an elastic surface wave generated thereby in a piezoelectric substrate less, and can stably inject a micro-amount of a liquid.例文帳に追加
くし歯型電極パターンを高精度に形成することが可能で、それにより圧電性基板に発生する弾性表面波のばらつきが小さく、微少量の液体を安定して射出できるマイクロインジェクタを提供する。 - 特許庁
To provide a concentration distribution mask that performs exposure to correct distortion of an optical imaging pattern due to an optical interference effect when a microlens array having a lens pitch of 1 μm or less is formed on a substrate of an imaging device using the concentration distribution mask.例文帳に追加
撮像デバイスの基板上にレンズのピッチが1μm以下のマイクロレンズアレイを、濃度分布マスクを用いて形成する際に、光の干渉効果による光の結像パターンの歪みを補正した露光をする濃度分布マスクを得る。 - 特許庁
If an inorganic compound powder particle CP with an average grain diameter of 500 nm or less is contained, the baking contraction of a wiring pattern layer 6 can be delayed properly when the ceramic green sheet 5 is formed to a laminated body and baked.例文帳に追加
500nm以下の平均粒径を有する無機化合物粉末粒子CPを含有させると、該セラミックグリーンシート5を積層体となして焼成する際に、配線パターン層6の焼成収縮を適度に遅らせることができる。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
Next, centering is performed so that the eccentric quantity becomes a standard value or less by photographing the reticle pattern while moving the glass pane 3 by a grinding wheel 9 by making the eccentric direction coincide with the direction of the grinding wheel 9 by rotating the holder 4.例文帳に追加
次に、ホルダー4を回転させて、偏心方向を砥石9の方向に一致させ、砥石9によりガラス板3を移動させながらレチクルパターンを撮影して偏心量が規格値以下になるように芯出しを行う。 - 特許庁
When the captured amount of SOx is less than a predetermined amount, a first HC feed control is executed according to a predetermined pattern with which HC is supplied into exhaust gas at the upstream of SOx capturing material.例文帳に追加
SOx捕獲量が所定量よりも少ないときには、HC供給制御として、所定のパターンでSOx捕獲材上流において排気ガス中にHCを供給する第1のHC供給制御を実行する。 - 特許庁
Bell (symbol 94) making up a pattern of blank-bell is displayed within a range of slipping frame counts less than its maximum on a reel (3C) in the central train and on a reel (3R) in the right train out of the reels (3L, 3C and 3R) of the game machine.例文帳に追加
遊技機(1)のリール(3L,3C,3R)のうち、中央の列のリール(3C)、右の列のリール(3R)では、ブランクベルを構成する“ベル(図柄94)”が最大滑りコマ数以下の範囲で表示されるように構成されている。 - 特許庁
To achieve a high-precision double-stage pattern matching (double-stage collation) even if the tomographic images of a present three-dimensional image are less in number than the three-dimensional reference image when positioning a patient under radiation therapy.例文帳に追加
放射線治療の患者位置決めの際に、3次元現在画像の断層画像数が3次元基準画像よりも少ない場合であっても、精度の高い2段階パターンマッチング(2段階照合)を実現することを目的にする。 - 特許庁
Further, the drive of the relay circuit 70 is controlled so as to validate the first circuit 73 in the case that a special pattern variation holding number U is two or larger and to validate the second circuit 74 in the case that it is less than two.例文帳に追加
さらに、特別図柄変動保留数Uが2個以上の場合には第一回路73が有効となり、2個未満の場合には第二回路74が有効となるようにリレー回路70を駆動制御するようにした。 - 特許庁
The source electrode 17 and the drain electrode 18 are formed on the semiconductor film 15 so as not to stick out from a pattern of the semiconductor film 15, at a distance equal to or more than 0 and equal to or less than 0.3 μm from the edge of the semiconductor film 15.例文帳に追加
ソース電極17及びドレイン電極18は、半導体膜15上において、半導体膜15のパターンからはみ出さないように形成され、半導体膜15端からの距離が0以上0.3um以下である。 - 特許庁
To provide a memory cell array where a ferroelectrics layer constituting a ferroelectrics capacitor has a specific pattern for less floating capacity of a signal electrode, manufacturing method thereof, and a ferroelectrics memory device.例文帳に追加
強誘電体キャパシタを構成する強誘電体層が特定のパターンを有し、信号電極の浮遊容量を小さくすることができるメモリセルアレイ、およびその製造方法、ならびに強誘電体メモリ装置を提供する。 - 特許庁
The attachment verifying print pattern (S) comprises not less than one kind of elements, such as characters, figures, marks, and the like, which are formed, for example, through a heat coloring reaction of a heat coloring ink layer or a transfer on a hologram metallic foil.例文帳に追加
係着証明印影(S)は、文字,数字,記号,マーク等の1種又は2種以上の要素で構成され、例えば、感熱発色性インキ層の加熱発色反応により、あるいはホログラム金属箔の転写等により表出される。 - 特許庁
Otherwise, the luminance distribution uniforming sheet 10 includes round dot-like halftone dots 12 printed on a translucent substrate 11 in a pattern of AM screening with an area ratio of 74% or less or with an area ratio of 82% or more.例文帳に追加
あるいは、本発明の輝度分布均一化シート10は、透光性基材11に、ラウンドドットの網点12が、面積率74%以下または面積率82%以上の範囲のAMスクリーニングのパターンで印刷されている。 - 特許庁
The display having a bit-depth less than the bit-depth of the image utilizes a dithering pattern generated based on spatial modulations for the purpose of a Bit Depth Extension (BDE) technique for preventing contouring artifacts within the displayed image.例文帳に追加
画像のビット深度未満のビット深度を有するディスプレイがディスプレイした画像内のコンターアーティファクトを防止するためのビット深度拡張(BDE)技術のために、空間演算に基づいて発生されるディザパターンを使用する。 - 特許庁
A phosphor layer 9 having a peak wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less is formed into a predetermined light emitting pattern shape on an inner face of the anode substrate 6, and a metal back layer 10 is formed so as to cover the phosphor layer 9.例文帳に追加
陽極基板6の内面には、300nm以上400nm以下のピーク波長を持つ蛍光体層9が所定の発光パタン形状に形成され、蛍光体層9を覆うようにメタルバック層10が形成される。 - 特許庁
Hole 104 of the depth less than the thickness of a screen 103 are formed on one face of the screen, while holes 107 formed of the depth less than the thickness of the screen and forming a printed pattern are formed on the other face, and a printing material 109 is applied on a body 108 to be printed by a squeegee 110 through holes 104 and 107.例文帳に追加
スクリーン103には、その厚さ未満の深さに孔104が一方の面に形成され又、前記厚さ未満の深さで印刷パターンを形成する孔107が他方の面に形成されており、印刷材料109はスキージ110によって、前記孔104、107を介して被印刷体108に被着される。 - 特許庁
The waterless lithographic printing plate original has at least a thermosensitive layer or a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein a center-line-average roughness Ra on the surface of the silicone rubber layer is 0.4 μm or less and is used for the formation of the display pattern and the formation of the wiring pattern.例文帳に追加
基板上に、少なくとも感熱層あるいは感光層とシリコーンゴム層とを有する水なし平版印刷版原版であって、該シリコーンゴム層表面の中心平均粗さ(Ra)が0.4μm以下であり、ディスプレイパターン形成用または配線パターン形成用であることを特徴とする水なし平版印刷版原版により達成される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board which causes no deterioration of patterning accuracy and less pattern fault, and is relatively easy to downsize its production equipment and its lead time can be relatively shortened and can be cut out by laser cutting method, even if the pattern pitch of the flexible wiring circuit board is made extremely small.例文帳に追加
フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができ、レーザーカッティング法で抜き加工を実施することもできるフレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
When it is determined that appearance frequency in the past of a prediction condition is equal to or less than a predetermined frequency by the appearance frequency determination unit 21, the similar condition search unit 23 obtains a similar condition corresponding to the prediction condition from a similar condition database 24c and obtains data on a demand model pattern corresponding to the similar condition obtained from a demand pattern database 24d.例文帳に追加
類似条件探索部23は、出現頻度判定部21で予測条件の過去の出現頻度が所定頻度以下であると判定された場合に、類似条件データベース24cから予測条件に対応する類似条件を取得し、かつ、需要パターンデータベース24dから該取得した類似条件に対応する需要モデルパターンのデータを取得する。 - 特許庁
A photomask is provided in which a light-blocking film pattern 111 is formed on a translucent substrate 100, and by keeping the residue amount of sulfate ions and sulfate on at least a surface of the photomask on the side of which the light-blocking film pattern 111 is formed should be less than 0.30 ppb, a variation in element size can be suppressed.例文帳に追加
透光性基板100上に遮光性膜パターン111が形成されたフォトマスクであって、少なくとも遮光性膜パターン111が形成された側のフォトマスク表面における硫酸イオンや硫酸塩の残渣量を0.30ppb未満とすることによって素子寸法変動を抑制させられることが確認できた。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加
発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
For example, recent total moving labor when using each of a first printing device and a second printing device is obtained based on the moving labor in each moving pattern and the number of occurrences of each recorded moving pattern when printing with the printing devices, and one requiring less total moving labor is defined as the default printer.例文帳に追加
たとえば、第1の印刷装置と第2の印刷装置について、それぞれの印刷装置で印刷した場合の各移動パターンでの移動労力と記録されている各移動パターンの発生回数とに基づいてその印刷装置を使用した場合の総移動労力近年を求め、総移動労力の少ない方をデフォルトプリンタとする。 - 特許庁
While a rim 131 to which a screen 120 having an opening pattern OP corresponding to the pattern is circularly attached is rotated and circularly moved synchronously with the transportation of the construction board 10, a coating material P is sprayed from a low-pressure air-less gun 141 through the circular screen 120 to apply the coating material P to the prescribed positions of the coating face 10A of the construction board 10.例文帳に追加
模様に対応する開口パターンOPが形成されたスクリーン120を環状に張ったリム131を、建築板10の搬送に同調して回転させ循環移動させながら、環状スクリーン120を介して低圧エアレスガン141から塗装材Pを噴射して、建築板10の塗装面10Aの所定位置に塗装材Pを塗装する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a decoration material capable of forming a coating material film on the whole surface including the inner surface of a recessed part without burying the recessed part of an emboss pattern of a base material in which the emboss pattern is formed on a surface and capable of forming the coating material film whose coating surface is smooth, luster unevenness is less and a design quality is excellent.例文帳に追加
表面にエンボス模様が形成された基材の、該エンボス模様の凹部を埋没させることなく、該凹部の内面を含む全面に、塗料塗膜を形成することが可能であり、しかも、塗面が平滑で艶ムラの少ない、意匠品質に優れた塗料塗膜を形成することが可能な化粧材の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a multilayer film for forming a wiring pattern of a wiring board which can maintain high resolution of a photosensitive resin film, can form a wiring pattern of 30 μm or less, has high adhesiveness between the photosensitive resin film and a resin film, and is suited to mobile communication equipment, semiconductor element storing packages, etc., and to provide a wired multilayer film.例文帳に追加
感光性樹脂膜の解像度を高く維持し、30μm以下の配線パターン形成が可能で、感光性樹脂膜と樹脂フィルムとの密着性が良好な移動体通信機や半導体素子収納用パッケージなどに適した配線基板の配線パターン作製用の多層フィルムおよび配線付き多層フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁
To obtain a new copolymer suitable for a film-forming polymer to obtain a resist pattern having a high close adhesion with a substrate and less pattern collapse in forming a very fine pattern in the production of a semiconductor, a method for forming the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in the production of the copolymer suitable for the polymer for forming these patterns.例文帳に追加
従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁
To provide an information processor capable of accurately executing the voice recognition of a character string which has less difference of display pattern with an HTML sentence of an original sentence, and has difficult reading or has a plurality of reading, and capable of easily following a link by voice operation.例文帳に追加
原文のHTML文章と表示形態の相違が少なく、読みが難しいまたは読みが複数ある文字列があっても正確に音声認識でき、音声操作によりリンクを容易にたどることのできる情報処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a back-face substrate for a PDP and its forming method which by forming partition walls and electrodes on a glass substrate in pattern- less manner, even if the size of the substrate has changed at the time of its baking, no-malfunction occurs and the manufacturing cost can be reduced.例文帳に追加
パターンレスで隔壁と電極をガラス基板上に形成することにより、焼成時に基板が寸法変化しても何の不都合も生じることがなく、製造コストを低減できるPDP用背面基板及びその成形方法を提供する。 - 特許庁
However, if an inorganic compound powder particle CP having an average grain diameter of 500 nm or less is incorporated, it is possible to delay the baking contraction of the wiring pattern layer 6 properly when the ceramic green sheet 5 is formed at a laminated body 30 and baked.例文帳に追加
しかしながら、500nm以下の平均粒径を有する無機化合物粉末粒子CPを含有させると、該セラミックグリーンシート5を積層体30となして焼成する際に、配線パターン層6の焼成収縮を適度に遅らせることができる。 - 特許庁
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