「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, less liable to scum in a developing step, having good plating resistance and useful as alkali-developable DFR (dry film resist) for manufacturing substrates for a printed wiring board, for a lead frame and for a semiconductor package.例文帳に追加

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、耐めっき性が良好で、アルカリ現像型プリント回路板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a heat resistant resin paste capable of exhibiting a thixotropic property without using a filler such as silica fine particles or insoluble polyimide fine particles, forming a uniform thick film pattern excellent in reliability without having voids or bubbles by a screen printing method, having less dust or ionic impurities and also excellent in productivity.例文帳に追加

シリカ微粒子や非溶解性ポリイミド微粒子などのフィラーを用いなくてもチキソトロピー性を発現でき、スクリーン印刷法で空隙や気泡のない信頼性に優れる均一な厚膜パターンを形成でき、塵やイオン性不純物が少なくかつ生産性に優れる耐熱樹脂ペーストの製造方法。 - 特許庁

To establish a technology capable of making patterning materials uniformly distribute in a cast molding even when a large-sized patterning material is used, thereby obtaining an artificial marble with a large-sized color pattern of high quality excellent in design, deluxe feeling and natural feeling, and with less distribution of product strength.例文帳に追加

サイズの大きい柄材を使用した場合でも、注型成形体内に該柄材を均一分布させることができ、その結果として、色柄模様が大柄で意匠性、高級感および天然感に優れ、しかも製品強度のバラツキも少ない高品質の色柄模様付き人造大理石を得ることのできる技術を確立すること。 - 特許庁

The specified pattern of the test image T has such a pixel value as color difference from the surroundings can be recognized when it is displayed on a monitor having a display color resolution of 24 bits, but color difference from the surroundings can not be recognized when it is displayed on a monitor having a display color resolution of 16 bits or less.例文帳に追加

テスト画像Ｔの所定パターンは、２４ビットの表示色分解能を有するモニタに表示した場合には周囲との色の差異を確認できるが、１６ビット以下の表示色分解能を有するモニタに表示した場合には周囲との色の差異を確認できなくなる画素値を有する。 - 特許庁

In the area array type semiconductor element in which the semiconductor element, the wiring board 7 or the package 4 for the electronic part has a plurality of connecting bumps 73 arrayed in a specified pattern, the semiconductor element has the connecting bumps 73 formed of at least pairs of solder balls separated at pitches of 200 μm or less.例文帳に追加

半導体素子、配線基板７又は電子部品用パッケージ４は、所定のパターンで配列された複数の接続バンプ７３を備えるエリアアレイ型の半導体素子であって、前記半導体素子は、２００μｍ以下のピッチで離間した少なくとも一対の、半田ボールで形成された接続バンプ７３を有している。 - 特許庁

To provide a coating method and coating device in which the application uniformity and application amount of a solvent-less type adhesive composition are secured, the interlaminar adhesiveness, the design of printing pattern and coating appearance quality are maintained and the productivity is improved in a composite film laminated with the solventless adhesive composition.例文帳に追加

無溶剤型接着剤組成物を介して積層される複合フィルムおいて、該無溶剤型接着剤組成物の塗工均一性、塗工量を確保し、層間接着性や印刷絵柄の意匠、塗工外観品質を維持し、且つ生産性を向上させる塗工方法および塗工装置を提供する。 - 特許庁

The primary differential value of a gradation value at the corresponding position of the test pattern and a neighbor reading pixel position are calculated from reading image data (S84) and the corresponding position of the unit less than one pixel of the reading pixel pitch can be obtained by referring to a multi dimensional table by making the primary differential value as an input value (S86).例文帳に追加

また読取画像データから、テストパターンの対応位置及び隣接読取画素位置における階調値の一次微分値を算出し（Ｓ８４）、この一次微分値を入力値として多次元テーブルを参照することにより読取画素ピッチの１画素未満単位の対応位置が求められる（Ｓ８６）。 - 特許庁

To provide a method for forming a film structure having a useful fine rugged pattern by a method high in productivity, a solar energy collecting prism sheet high in the amount of electric power generation per day, and an optical film for a stereoscopic vision display giving a high realistic sensation with less lateral reverse view.例文帳に追加

有用な微細な凹凸パターンを備えたフィルム構造体を、生産性の高い方法で形成することのできるフィルム構造体の形成方法と一日の総発電量が高い太陽エネルギー収集用プリズムシート及び左右逆視が少なく臨場感の高い立体視ディスプレイ用光学フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an ultrathin copper foil with a carrier which has few pinholes and small surface roughness and which has the thickness of less than 5 μm, and to provide the method of producing the foil, and further to provide a printed circuit board for a fine pattern, a multilayer printed circuit board and a chip on film circuit board by using the ultrathin copper foil with a carrier.例文帳に追加

5μｍ以下の極薄銅箔で、ピンホール数が少なくかつ表面粗さの小さいキャリア付き極薄銅箔とその製造方法を提供し、更に、かかるキャリア付き極薄銅箔を使用したファインパターン用途のプリント配線板、多層プリント配線板、チップオンフィルム用配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing solution composite for a semiconductor substrate that improves the dependence of addition agent concentration and enables fast polishing relatively free from the concave/convex pattern density on the surface to be polished and the concave/convex size with a less amount of polishing solution, a method for manufacturing a substrate using this polishing solution composite, and a method for polishing the substrate.例文帳に追加

添加剤濃度への依存性が改善され、且つ被研磨面の凹凸パターンの密度や凹凸サイズの影響を受けにくい研磨を、少ない研磨量で速やかに達成できる半導体基板用研磨液組成物およびこの研磨液組成物を用いた基板の製造方法並びに研磨方法を提供する。 - 特許庁

A joining pattern is formed by printing resin-coated metal particles 10 each comprising a metal particle 1 having a melting point of 250°C or below and an average diameter of 0.1-20 μm and a resin layer 2 covering it and having a melt viscosity of 500 Pa*s or less at 200°C on a circuit board 40 by using an electrophotography method.例文帳に追加

２５０℃以下の融点を有する平均粒径０．１〜２０μｍの金属粒子１と、これを被覆する２００℃における溶融粘度が５００Ｐａ・ｓ以下の樹脂層２からなる樹脂被膜金属粒子１０を、回路基板４０上に電子写真法を用いて印刷して接合パターンを形成する。 - 特許庁

The pattern length of the magnetostatic field magnet of the shield coil 12shield is determined so that an eddy current generated at the axial end part thereof on the surface of the bore of the magnetostatic field magnet attribute to a magnetic field leaked at the axial end part thereof is equal to or less than an eddy current that is generated at a part other than it.例文帳に追加

シールドコイル１２_ｓｈｉｅｌｄの静磁場磁石の軸長に対するパターン長は、軸方向端部から洩れた磁場に因り静磁場磁石のボア表面の軸方向端部に発生する渦電流がそれ以外の部分で発生する渦電流と同等又はそれ以下となるように決められている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a buildup type multilayer printed circuit board by which a roughening process of a resin surface is omitted, and disconnection at pattern forming in thinning of 30 μm or less, and an increase in a transmission loss by a roughened surface involved in making a frequency higher are suppressed, in manufacturing the printed circuit board.例文帳に追加

ビルドアップ型多層プリント配線板を製造するに際し、樹脂表面の粗化工程を省略すると共に、３０μｍ以下の細線化におけるパターン形成時の断線や、高周波化に伴う伝送損失の粗面による増大を抑制することが可能な、ビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively.例文帳に追加

実デバイスパターン６２はサブフィールド４２に形成され、線幅が５００ｎｍを越えるパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１、線幅が４００ｎｍ〜５００ｎｍのパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／２、線幅が４００ｎｍ未満のパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／４であるデバイスパターンとする。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μｍ以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

Even when the abnormal pattern formation occurs on a boundary part between the transmissive pixel electrode 17 and the transparent pixel electrode adjacent thereto around the flat part 30, because there is less probability of contact of the two neighboring transparent pixel electrodes with each other, the probability of short-circuiting between the electrodes is reduced.例文帳に追加

平坦部分３０の周囲において透明画素電極１７及びこれと隣り合う透明画素電極との境界部分にパターン形成異常が発生していても、隣り合う２つの透明画素電極が互いに接触する可能性が低くなるため、電極間でのショートの発生確率を減らすことができる。 - 特許庁

To provide a technique for preferentially polishing a projection under the control for polishing of a recess and for highly flattening polishing surface with extraordinary small quantity of polishing work, with less dependence on pattern of polishing velocity on the occasion of polishing the surface to be polished of a material layer of the silicon dioxide system during manufacture of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造において、二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する場合の研磨速度のパターン依存性が少なく、凹部の研磨を抑制しながら凸部を優先的に研磨でき、極めて少ない研磨量で被研磨面を高平坦化することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the organic EL element at least has a process to form a barrier rib pattern on a transparent substrate, and a process to form a layer by transferring hole transport ink to an region surrounded by the barrier rib by a letterpress printing method, and the surface tension of the hole transport ink is 40 mN/m or less.例文帳に追加

透明基板上に隔壁パターンを形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域に凸版印刷法により正孔輸送インキを転写して層を形成する工程とを少なくとも有し、該正孔輸送インキの表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁

The inhibition layer is removed by using a chemical liquid comprising tetraalkylammonium hydroxide, alkanolamine, sugar alcohol having a carbon number of not less than 5, at least one kind selected from acids and acidic salts, and the balance water, and showing a rate of not more than 2,000 Å/min for dissolving the organic film pattern 4 in a portion except for the inhibition layer.例文帳に追加

水酸化テトラアルキルアンモニウム、アルカノールアミン、炭素数が５以上の糖アルコール、酸及び酸性塩から選択される少なくとも１種、及び残部の水からなり、有機膜パターン４における阻害層以外の部分を溶解させる速度が、室温において、２０００Å／分以下である薬液を用いて、阻害層を除去する。 - 特許庁

In the EL element comprising a substrate which at least a heat-resistant temperature or a melting point is 800 degrees C or more, and the dielectric layer which is formed by thick-film calcination, the dielectric layer is formed in a rectangle pattern with a side length of 2 times or more and 30 times or less in film thickness.例文帳に追加

少なくとも耐熱温度ないし融点が８００℃以上の基板と、厚膜焼成により形成された誘電体層を有するＥＬ素子であって、上記誘電体層が少なくとも膜厚の２倍以上、３０倍以下の長さの辺を有する矩形パターンに形成されている構成のＥＬ素子とした。 - 特許庁

The electrophotographic coating sheet is made by imparting a rugged pattern to one surface of the coating sheet prepared by forming at least one of coating layer on both surfaces of a base paper, wherein the electrophotographic coating sheet has the rugged surface in which the solid content coating amount on the rugged surface is 5 g/m^2 or more and the BEKK smoothness is 200 sec or less.例文帳に追加

原紙の両面に１層以上の塗工層を設けた塗工シートの片面に凹凸模様を付与した電子写真用塗工シートにおいて、該凹凸面の固形分塗工量が５ｇ／ｍ^2以上で、ＢＥＫＫ平滑度が２００秒以下である事を特徴とする凹凸面を付与した電子写真用塗工シート。 - 特許庁

The charged particle beam aligner for exposing a work to a pattern with a charged particle beam is characterized in that a region exposed en block has a maximum length of 1 mm or more on the work and the half- value width of an aperture angle distribution over the work is 1 mrad or less.例文帳に追加

荷電粒子線によってパターンを被露光物上に露光する荷電粒子線露光装置であって、一括露光する領域の大きさが、被露光物上で最大長が１mm以上とされており、かつ被露光物上での開き角分布の半値半幅が１mrad以下とされていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁

For detecting a spacer 7 as a granular matter, this lighting system radiates light beams 5 toward a desired detection position in at least two directions which are not orthogonal to any linear part of a wiring pattern in the view from the upper side and make an angle of 3° or less with the upper face of a glass substrate 6.例文帳に追加

この照明装置は、粒状体としてのスペーサ７を検出するために、所望の検出位置に対して、上方から見て配線パターンのいずれの直線部分に対しても略垂直でない少なくとも２方向であって、ガラス基板６の上面となす角度が３°以下となるような照射方向で、光５を照射する。 - 特許庁

A dummy conductor pattern 9 that is arranged adjacent to a wiring conductor 4ap for high-frequency signal transmission is made by forming a plurality of conductor pieces 9a whose length is less than one fourth of a wavelength of a signal for transmitting the wiring conductor 4ap for high-frequency signal transmission, along the wiring conductor 4ap.例文帳に追加

高周波信号伝送用の配線導体４ａｐに隣接して配置されたダミーの導体パターン９は、高周波信号伝送用の配線導体４ａｐを伝播する信号の波長の４分の１未満の長さの導体片９ａが配線導体４ａｐに沿って複数形成されている。 - 特許庁

The intermediate transfer belt for an electrophotographic device has a surface of the intermediate transfer belt, which comprises a resin layer having a concavo-convex pattern formed by independent spherical resin particles embedded with an embedment rate of over 50% and less than 100% in a depth direction.例文帳に追加

電子写真装置用中間転写ベルトにおいて、該中間転写ベルトの表面が、独立した球形樹脂粒子により、深さ方向に５０％を超え１００％に満たない埋没率で埋め込まれた粒子によって凹凸形状を形成している樹脂層であることを特徴とする中間転写ベルト。 - 特許庁

The quantity of exposure (exposure energy to a sufficiently large opening pattern) at exposure of a photoresist by the use of the photomask 5 is more than four times and less than twenty times of the exposure quantity at the boundary, in which the photoresist reaches insolubility from solubility to a developing solution by exposure, or the exposure quantity at the boundary in which the photoresist reaches solubility from insolubility.例文帳に追加

このフォトマスク５を用いてフォトレジストを露光する際の露光量（十分大きい開口パターンへの露光エネルギ）は、露光によりフォトレジストが現像液に対して溶解性から不溶解性になる境界の露光量または不溶解性から溶解性になる境界の露光量の４倍以上２０倍以下である。 - 特許庁

To provide a high molecular compound having excellent reactivity, inflexibility and adhesion to a substrate and less liable to swell in development and a resist material using the high molecular compound as a base resin and having much higher resolution and etching resistance than conventional resist materials and to provide a pattern forming method using the resist material.例文帳に追加

反応性、剛直性及び基板密着性に優れ、かつ現像時の膨潤の小さい高分子化合物、該高分子化合物をベース樹脂とし、従来品を大きく上回る解像性及びエッチング耐性を有するレジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this system 10, a first upper limit speed pattern in which speed is gradually reduced from a predetermined speed to a predetermined terminal speed in a section C1 to be controlled whose distance is a distance L1 from a position B1 where the train arrives after a predetermined time elapses from the start of YP signal reception to the target stop position S or less is used.例文帳に追加

このシステム１０では、ＹＰ信号受信開始から所定時間経過後に到達する位置Ｂ１から目標停止位置Ｓまでの距離Ｌ１以下の制御対象区間Ｃ１において所定速度から所定の終端速度まで漸減する第一の上限速度パターンが、用いられる。 - 特許庁

To provide an image processing method wherein the total consumption of consumption articles is reduced, while the character quantity of a font part of a printer is maintained by making periodic unevenness, caused by dot thinning processing using a conventional pattern, is less likely to appear, when image density or the consumption of consumption articles is reduced by the dot thinning processing.例文帳に追加

ドットの間引き処理により画像濃度あるいは消耗品使用量を低減する場合、従来のパターンを用いたドットの間引き処理により生じる周期ムラを発生しにくくし、プリンタのフォント部の文字品位を保ったまま、全体の消耗品使用量を低減する画像処理方法を提供する。 - 特許庁

The coating plate roll 1 includes at least its outermost layer on a circumferential side made by a material with a rubber hardness of less than 50 by an ASKER rubber durometer C type, a coating recess 2 for forming the coating pattern on the circumferential surface, and the surface on the circumferential side in the coating recess 2 is smoothly formed.例文帳に追加

塗装用版ロール１は、少なくとも外周側の最外層がアスカーゴム硬度計Ｃ型によるゴム硬度が５０度未満の材質で形成され、外周面に塗装模様の形成のための塗装用凸部２が形成され、前記塗装用凸部２の外周側の表面が平滑に形成されている。 - 特許庁

Thus, the dimensional accuracy and the positional accuracy at the conveying time, mounting time and bonding time are improved while the layer 2 is formed thinly, and an electric part can be surely mounted in a high density wiring in which a pitch of inner leads 9 in the pattern 7 becomes 60μm or less with the reduction of the weight and the thickness.例文帳に追加

これによって、絶縁層２を薄く形成できながら、搬送時、実装時およびボンディング時の寸法精度や位置精度を向上させ、軽量化、薄型化を図りつつ、導体パターン７における各インナリード９のピッチが６０μｍ以下となる高密度配線において、確実に電子部品を実装することができる。 - 特許庁

The copper foil for the fine pattern printed circuit has a roughened surface on the untreated copper foil, wherein the untreated copper foil before being roughened has a surface roughness of 2.5 μm or less by 10 points average roughness Rz, and a distance between the lowest peaks of undulation on a base material in a length of 5 μm or more.例文帳に追加

本発明は、未処理銅箔の表面に粗化処理を施してなるファインパターンプリント配線用銅箔において、前記粗化処理を施す前の未処理銅箔は、表面粗さが１０点平均粗さＲｚで２．５μｍ以下であり、素地山の最小ピーク間距離が５μｍ以上であるファインパターンプリント配線用銅箔である。 - 特許庁

In the outside tread OT, each of big blocks 34 is constituted of a body part 36 and an extending part 38 and the number of pitches of the big blocks 34 is set 1/3 or less of the number of pitches of the width-directional lateral grooves 28, so that reduction of the drainage can be prevented and pattern rigidity and the maneuvering stability can be improved.例文帳に追加

外側トレッドＯＴでは、大ブロック３４を本体部３６と延長部３８とで構成しかつ大ブロック３４のピッチ個数を幅方向横溝２８のピッチ個数の３分の１以下としたことにより、排水性の低下を防止でき、かつパターン剛性を向上でき操縦安定性を向上させることができる。 - 特許庁

An image data selection part 12 selects the image data before the compression in the case that the number of the matching image parts is equal to or more than a predetermined reference number and selects the image data after the compression in the case that the number of the matching image parts is less than the reference number based on the detected result of the pixel pattern detection part 8.例文帳に追加

画像データ選択部１２は、画素パターン検出部８の検出結果に基づき、前記一致する画像部分の数が予め定める基準数以上である場合、圧縮前の画像データを選択し、前記一致する画像部分の数が前記基準数未満である場合、圧縮後の画像データを選択する。 - 特許庁

On the top surface of a 1st thin film electrode 2 of a capacity element constituted by forming the 1st thin film electrode 2 and a 2nd thin film electrode 3 on both the main surfaces of a dielectric plate 1 whose specific permittivity is 20 or larger, a resin insulating film 4 whose specific permittivity is 5 or less and an inductor pattern 5 formed of a thin film are laminated one after another.例文帳に追加

比誘電率が２０以上の誘電体板１の両主面に第一の薄膜電極２と第二の薄膜電極３を形成して成る容量素子の第一の薄膜電極２の表面に、比誘電率が５以下の樹脂絶縁層４と薄膜から成るインダクタパターン５とが順次積層されて成る。 - 特許庁

When getting the "win" and the number of the game balls stored in the feed tray 8 is determined to be less than the prescribed number, the shooting of the game balls by a game ball shooting device 57 is made to stop by a command from a shooting control board till "win patterns" are displayed on a regular pattern display device 11.例文帳に追加

また、「当たり」となった場合であって、かつ、供給皿８に貯留した遊技球の個数が所定の個数より少ないと判断された場合には、発射制御基板からの指令によって、普通図柄表示装置１１に「当たり図柄」が表示されるまで、遊技球発射装置５７による遊技球の発射を停止させる。 - 特許庁

The sign display object 1 is provided with a sign display layer 10a and an external layer 20 made of translucent resin provided on both sides or one side of the sign display layer 10a, wherein the sign display layer 10a is a layer in which many foaming dots in air bubbles with diameter of 20 μm or less gather are arranged by a predetermined pattern of signs.例文帳に追加

本発明のサイン表示体１は、サイン表示層１０ａと、サイン表示層１０ａの両面または片面に設けられた透光性樹脂製の外側層２０とを備え、サイン表示層１０ａは、透光性樹脂製のシートに、直径２０μｍ以下の気泡が集合した発泡ドットが、所定のサインのパターンで多数配置された層である。 - 特許庁

In a decorative sheet for whitening preventing three-dimensional molding equipped with a colored thermoplastic resin base material layer 2, a concealing printing layer 3, a pattern layer 4 and a transparent or translucent thermoplastic resin layer 6, the lightness L^*_1 (JIS Z8730) of the concealing printing layer 3 is less than the lightness L^*_2 of the colored thermoplastic resin base material layer 2 by 5 or above.例文帳に追加

着色熱可塑性樹脂基材層２、隠蔽印刷層３、絵柄層４、透明又は半透明熱可塑性樹脂層６を具備した化粧シートにおいて、隠蔽印刷層３の明度Ｌ^＊_１（ＪＩＳ Ｚ ８７３０）が着色熱可塑性樹脂基材層２の明度Ｌ^＊_２より５以上小さい事を特徴とする白化防止立体成形用化粧シート。 - 特許庁

To provide a substrate having a multilayer reflection film suppressed the generation of particles caused by the peeling of the conductive film and abnormal discharge at the electrostatic chucking of substrate provided with the conductive film, a high quality reflection type mask blanks for exposure having less surface defects caused by particles, and a high quality reflective type mask for exposure having no defect pattern caused by particles.例文帳に追加

導電膜を設けた基板の静電チャック時の導電膜の膜剥れや異常放電によるパーティクルの発生を抑制した多層反射膜付き基板、パーティクルによる表面欠陥の少ない高品質の露光用反射型マスクブランクス、及びパーティクルによるパターン欠陥のない高品質の露光用反射型マスクを提供する。 - 特許庁

To solve the problem that almost no reaction mechanisms of highly practicable organic molecules such as photochromic molecules with quantum beams have been made clear and that no promising proposals have been made concerning next-generation recording systems that enhance recording density by leaps and bounds though utilization of quantum beams having a wavelength of a pattern size or less is inevitable as light used for densification.例文帳に追加

高密度化のために用いる光は、その波長がパターンサイズ以下の量子ビームの利用が必須となるが、フォトクロミック分子など実用性の高い有機分子の量子ビームによる反応機構はほとんど解明されておらず、記憶密度を飛躍的に向上させる次世代の記録システムに関する有力な提案はなされていない。 - 特許庁

Then the organic anti-reflection film 8 is etched to form an embedded mask covering a recess part 7a of the silicon oxide film 7, and the silicon oxide film 7 is etched to expose the etching member to be etched which does not overlap the side wall core or the embedded mask, and the etching member to be etched is etched to obtain the pattern with a dimension of less than a resolution limit of lithography.例文帳に追加

次いで、有機反射防止膜８をエッチングすることによって、シリコン酸化膜７の凹部７ａを覆う埋込マスクを形成し、シリコン酸化膜７をエッチングすることにより、サイドウォールコアまたは埋込マスクと重ならない被エッチング部材を露出させ、被エッチング部材をエッチングすることでフォトリソグラフィー解像限界未満のパターンを得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photosensitive resin composition which can maintain high adhesion and peeling characteristics, even if using a less rugged circuit board and is superior in plating and etching resistance and resolution, and a photosensitive element and a resist pattern which uses this resin composite, and to provide a printed circuit board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

The single layer prism sheet comprises a vinyl ester composition as a main structural component and has a prism pattern formed on the surface, wherein a plurality of triangular prisms the cross-sectional figure of which is a triangle having a vertex angle of 70 to 110° are arranged in a pitch of 100 μm or less on one surface of the sheet comprising a vinyl ester composition and further containing a polyfunctional acrylate.例文帳に追加

ビニルエステル組成物を主たる構成成分とし、表面にプリズム形状が形成されてなる単層プリズムシートであって、ビニルエステル組成物、更には多官能アクリレートを併用したシートの片面に、その断面形状が頂角７０〜１１０°の三角形をなす三角柱状のプリズムをピッチ１００μｍ以下で複数並列に設けている。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same.例文帳に追加

銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

The ink for correcting the minute defect in colored pattern contains monomer having at least a colorant, a dispersing agent, and a reactive functional group and a solvent, wherein the solvent contains 40-100 wt.% of a solvent (A) having boiling point of 160-250°C and specific evaporation rate of 40 or less based on the total amount of solvent.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、分散剤と、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤が、沸点が１６０℃〜２５０℃で、且つ比蒸発速度が４０以下の溶剤（Ａ）を溶剤全量に対して４０重量％〜１００重量％の範囲で含有することを特徴とする、微小着色パターン欠陥修正用インキ。 - 特許庁