「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

When the game ball enters into a first starting slot 21 to start a special graphic pattern lot, a determination part 1312 determines whether a time period from the previous game ball' s entrance until the next game ball's entrance is less than a predetermined time period or not.例文帳に追加

特別図柄抽選を始動させる第１始動口２１へ遊技球が入賞すると、先に遊技球が入賞してから次の遊技球が入賞するまでの時間が、所定時間未満であるか否かが判定部１３１２によって判定される。 - 特許庁

Before forming the internal electrode pattern 12a on the surface of the support sheet 20, the support sheet 20 is heat-treated under a maximum tension of 0.3 N/cm or less, preferably 0 N/cm, and with a heat treatment temperature equal to the drying temperature or higher.例文帳に追加

支持シート２０の表面に内部電極パターン層１２ａを形成する前に、支持シート２０を、最大張力が０．３Ｎ／ｃｍ以下、好ましくは０Ｎ／ｃｍの状態で、乾燥温度と同等以上の熱処理温度で熱処理する。 - 特許庁

To provide a pattern recognition method for approximating distribution or class boundary of a vector group in a vector space based on a base function, capable of performing the approximation with a less base vector number for distribution or class boundary of a complicated vector group.例文帳に追加

この発明は、ベクトル空間でのベクトル集合の分布やクラス境界を基底関数に基づいて近似するものにおいて、複雑なベクトル集合の分布やクラス境界に対して、従来より少ない基底ベクトル数で近似が可能である。 - 特許庁

A plated layer 15 is formed in a thickness less than 0.1 μm by conducting first non-electrolytic plating processing to a wiring pattern 12 formed on a base board 10 utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に第１の無電解めっき処理を行って、厚みが０．１μｍ未満のめっき層１５を形成する。 - 特許庁

In order to obtain a centroid location from the detection waveforms of a resist pattern, a threshold voltage is successively varied from V1 to Vn and centroid locations P1 to Pn are computed for the waveforms of the portions not less than each of the voltages V1 to Vn (Steps S1 to S4).例文帳に追加

レジストパターンの検出波形から重心位置を求めるために、閾電圧をＶ１〜Ｖｎまで順に変化させて、各閾電圧Ｖ１〜Ｖｎ以上の部分の波形についての重心位置Ｐ１〜Ｐｎをそれぞれ算出する（ステップＳ１〜Ｓ４）。 - 特許庁

In the <1-100> direction where the growth speed of the crystal is slow at a portion, where the interval D_1 of the alignment mark 15A is larger than the interval D_2 at the seed crystal section 15, an interval D_3 of the pattern of the alignment mark 15A should be 4 μm or less.例文帳に追加

なお、アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔Ｄ_1 が、種結晶部１５の間隔Ｄ_2 より大きいところでは、結晶の成長速度が遅い＜１—１００＞方向において、アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔Ｄ_3 を４μｍ以下とする。 - 特許庁

A brake oil pressure Pb is detected, and the variation ΔPb is calculated (S2), and when the variation ΔPb is not less than a variation decision reference value Po, it is decided that deceleration due to follow-up traveling is performed, and caution warning based on a normal pattern in a long cycle is issued (S4).例文帳に追加

ブレーキ油圧Ｐｂを検出し、その変化量ΔＰｂを算出した後(S2)、変化量Ｐｂが変化量判定基準値Ｐｏ以上のときは、追従走行による減速と判定し、長い周期のノーマルパターンによる注意警報を発する(S4)。 - 特許庁

A protective film 1 having the width and the length not less than the diameter of a wheel W and an adhesive 12 on a back side thereof can be obtained by feeding a roll 10, and being irradiated with laser beams B in a predetermined pattern by a laser beam irradiation machine 2, and cut.例文帳に追加

ホイールＷの直径以上の幅と長さを持ち裏面に粘着剤１２を有する保護フィルム１は、ロール１０が送り出されてレーザー照射機２によりレーザービームＢが所定のパターンで照射されて切断されることで得られる。 - 特許庁

To provide a magnesium alloy plate polishing method in which any stripe pattern is less conspicuous on a surface of a magnesium alloy plate when the surface of the magnesium alloy plate is subjected to the wet polishing to be smooth, and a magnesium alloy plate produced by the polishing method.例文帳に追加

マグネシウム合金板の表面を平滑に湿式研磨した場合に、その表面に縞模様が目立たないようにすることができるマグネシウム合金板の研磨方法およびその研磨方法によって作製されたマグネシウム合金板を提供する。 - 特許庁

Furthermore, recording of BD at 12× speed can be achieved with parameters twice or less those in conventional 4×4 type recording strategy by simplifying the parameters as for a leading pattern composed of the shortest mark and the shortest space with large heat interference.例文帳に追加

さらに，熱干渉が大きい最短マークと最短スペースが先行パターンのときに着目してパラメータを簡素化することによって，従来の４×４型記録ストラテジの２倍以内のパラメータ数でＢＤ１２倍速の記録を実現できた。 - 特許庁

The filter device includes: a resonator filter pattern (17) including not less than one resonator (12) formed on a dielectric substrate (11); and a tuning member (15) that is separately placed on a desired resonator in the resonator and changes its thickness.例文帳に追加

フィルタ装置は、誘電体基板（１１）上に形成される１以上の共振器（１２）を含む共振器フィルタパターン（１７）と、前記共振器の中の所望の共振器の上に個別に置かれ、厚さの変更が可能なチューニング部材（１５）と、を含む。 - 特許庁

The ceramic heater is structured by forming a heater element on the surface or the inside of a ceramic board, and the heater element is at least partly structured in a bent pattern, and at the same time, has sheet resistivity of less than 50 mΩ/sq.例文帳に追加

セラミック基板の表面または内部に発熱体を形成してなるものであって、その発熱体は少なくとも一部が屈曲パターンにて構成されていると共に、前記発熱体はその面積抵抗率が50 ｍΩ／□未満のものであるセラミックヒーター。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a circuit board such as an electronic tag capable of forming a wiring circuit pattern for a circuit board with high accuracy, less time, low environmental impact and low cost.例文帳に追加

本発明の課題とするところは電子タグ等の回路基板の製造方法において、回路基板が備える配線回路のパターンの形成に当たり、高精度、短時間、低環境負荷かつ経済的な回路基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for producing surface-smoothened copper foil where the pattern of the stripes in the marks of bubbles is less liable to be generated on the surface of electrolytic copper foil, productivity is high because of short electrolytic polishing time, and further, the load of wastewater treatment for a polishing liquid is reduced.例文帳に追加

電解銅箔の表面に気泡痕の縦筋模様が発生し難く、電解研磨時間が短く済むことから生産性が高く、さらに研磨液の廃水処理の負荷が小さい表面平滑化銅箔の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since the surface energy of the base film is smaller than that of the object to be printed with a printed matter, the printed matter is less pulled outwards and the width of a line part of even a fine pattern can be maintained, preventing the generation of bleeding.例文帳に追加

このため、印刷用下地膜の表面エネルギが被印刷物の表面エネルギに比べて小さいため、印刷物が外側に引っ張られる量も小さくなり、ファインパターンであってもライン部分の幅を保持して滲みの発生を抑制することができる。 - 特許庁

Then, reach noticing direction is drawn according to a sorting ratio fixed to the selected reach direction groups A, B, C or the reach-less direction groups, and one of graphics P1, P2, P3 for each pitching direction is displayed in a special pattern display device 10.例文帳に追加

次に、選択されたリーチ演出Ａ，Ｂ，Ｃ群、またはリーチなし演出群に設定された振り分け率に基づいてリーチ予告演出が抽選され、特別図柄表示装置１０にいずれかの投法演出の画像Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３が表示される。 - 特許庁

To provide a capacitance sensor and its manufacturing method, making an assembling property between a circuit pattern and a decoration layer enhanced, capable of setting at a mounting site in a three-dimensional shape easily, and with less restriction for producing high-class feeling or high-quality feeling.例文帳に追加

回路パターンと加飾層の組み合わせ性を向上させ、三次元形状の取付箇所に容易に設置することができ、高級感や上質感の演出に制約の少ない静電容量センサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

While the control section executes the flushing executed prior to jetting the ink to the recording paper based on the flushing pattern determined based on the long or short state of the second lapse time T2 when the first lapse time is less than the cleaning time threshold value.例文帳に追加

一方、制御部は、第１経過時間がクリーニング時間閾値未満である場合には、記録用紙へのインク吐出前に実行されるフラッシングを、第２経過時間Ｔ２の長短具合に基づいて決定されたフラッシングパターンに基づいて実行させる。 - 特許庁

To provide a method of forming an attraction surface of an electrostatic chuck by using a method other than an embossing method so that an irregular pattern formed on the electrostatic chuck having the resin attraction surface has a shape and dimensions that are less likely to be changed by time passage or temperature rise.例文帳に追加

吸着面が樹脂性の静電チャックに形成される凸凹パターンが、時間の経過や温度の上昇によっても寸法や形状が崩れにくく、型押しによらない方法の、静電チャックの吸着面形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower-layer film, by which a lower-layer film can be formed, wherein the lower-layer film is excellent in etching resistance, is less likely to be bent when subjected to dry-etching process, and can transfer a resist pattern precisely with good reproducibility to a substrate to be processed.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

The p-dichlorodiketopyrrolopyrrole has a 9 nm or less crystallite size in the direction perpendicular to the (-1 5 1) plane calculated based on the X-ray diffraction pattern, and a 60% or more of α-crystallinity.例文帳に追加

ｐ−ジクロロジケトピロロピロール顔料におけるＸ線回折パターンより算出される（−１ ５ １）面垂直方向の結晶子サイズが９ｎｍ以下であり、かつ該顔料のα型結晶化度が６０％以上であるｐ−ジクロロジケトピロロピロール顔料。 - 特許庁

When the stop time ta is 5 seconds or more and less than 25 seconds (S128: Yes), a stop message M1 indicating that launching is stopped and an urge message M2 for urging resumption of launching are displayed in a pattern display device 32a (S130).例文帳に追加

そして停止時間ｔａが５秒以上２５秒未満になると（Ｓ１２８：Ｙｅｓ）、発射が停止していることを示す停止メッセージＭ１および発射の再開を促す催促メッセージＭ２を図柄表示器３２ａに表示する（Ｓ１３０）。 - 特許庁

Consequently, when setting of the upper limit speed pattern is completed within time shorter than the predetermined time from the start of YP signal reception, train speed can be reduced to be the predetermined terminal speed or less in front of the target stop position more securely.例文帳に追加

これにより、ＹＰ信号受信開始から前記所定時間以下の時間で上限速度パターンの設定が完了した場合については、より確実に目標停止位置の手前で列車速度を所定の終端速度以下とすることができる。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film, from which a resist underlay film having excellent etching durability can be formed, and the composition which has excellent filling performance for a stepped substrate and generates less outgas during forming a resist underlay film, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

優れたエッチング耐性を有するレジスト下層膜を形成でき、段差のある基板に対する埋め込み性能に優れ、レジスト下層膜形成時のアウトガスの少ないレジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

When an oscillation level at acceleration and an oscillation level at deceleration are less than a threshold value TH1, a standard driving pattern is selected in which starting time T1 is a stationary value, closing time T2 is a stationary value and target velocity V1 is a normal value.例文帳に追加

加速時振動レベル及び減速時振動レベルが閾値ＴＨ１未満である場合は、立ち上げ時間Ｔ１が定常値、立ち下げ時間Ｔ２が定常値、且つ到達目標速度Ｖ１が定常値である標準駆動パターンを選択する。 - 特許庁

In other words, the pattern of transactions by manufacturing SMEs appears to be growing increasingly “meshed” as they become less intimately dependent on a small number of customers and develop thinner, broader, and multifaceted transactions with a larger clientele (Fig. 2-3-7). 例文帳に追加

すなわち、モノ作り中小企業の取引構造は、少数の取引先に密接に依存したものから、多数の取引先との薄く広い多面的な取引へと、いわゆる取引構造の「メッシュ化」が進んでいると考えられるのである（第2-3-7図）。 - 経済産業省

The ink for conductor pattern formation, for forming a conductor pattern imparted to a ceramic molding body structured of materials including ceramic particles and a binder by a droplet discharge method, contains an aqueous dispersion medium, and metal particles dispersed in the aqueous dispersion medium, with a total content of oxygen and nitrogen in the ink for conductor pattern formation measured by the gas chromatography of 12 ppm or less.例文帳に追加

本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、セラミックス粒子とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体へ付与され、導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、水系分散媒と、水系分散媒に分散した金属粒子とを含み、ガスクロマトグラフィー法によって測定される導体パターン形成用インク中の酸素と窒素との合計の含有量が１２ｐｐｍ以下であることを特徴とする特徴とする。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

The layout pattern data correction system for correcting the layout patterns of circuits by using simulation has means (53, 54 and 55) for correcting the layout pattern data in case a difference in level produced by an OPC reaches a prescribed reference value or above, by redividing the edge of the object for correction by repeating the division until the above difference in level attains the reference value or less.例文帳に追加

シミュレーションを用いて、回路のレイアウトパターンを補正するレイアウトパターンデータ補正装置において、ＯＰＣにより発生する段差が、所定の段差の基準値以上となる場合に、段差が段差の基準値未満となるように繰り返し補正対象のエッジを再分割して、レイアウトパターンデータを補正する手段（５３、５４、５５）を有するレイアウトパターンデータ補正装置である。 - 特許庁

The generation of a low frequency pattern, which causes a degradation of BER while overwriting random data, is suppressed by providing a function to limit the run length of '0' to a prescribed value or less for a coder 2 and decoder 4 and the BER is improved.例文帳に追加

符号化器２および復号器４に”０”のランレングスを一定の値以下に制限する機能を持たせることにより、ランダムデータを上書きしたときにＢＥＲの悪化を招く低周波パターンの発生を抑制することができ、ＢＥＲを改善することが可能となる。 - 特許庁

The ionizing radiation-cured resin which shows a viscosity of 30-200 cps at 25°C and a surface tension of 40 dyne/cm or less as measured based on JIS K7117, is selectively irradiated with ionizing radiation to form an irregular surface pattern.例文帳に追加

ＪＩＳ Ｋ７１１７に基づいて測定された２５℃における粘度が３０〜２００ｃｐｓの範囲にあり、表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である電離放射線硬化樹脂に選択的に電離放射線を照射して表面凹凸パターンを形成する。 - 特許庁

To enable sure formation of a lead pattern with a narrow pitch of 60 μm or less and enhancement of a long-term reliability such as temperature cycle of a semiconductor device by restricting the roughened face of a TAB tape which constitutes a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置を構成するＴＡＢテープの銅箔の粗化面を最大粗さにより規制して、６０μｍ以下といった狭ピッチのリードパターンを確実に形成することを可能とし、半導体装置の温度サイクル等の長期信頼性を高めることを可能とする。 - 特許庁

When the energy balance is plus, the processing part calculates an alternative activity pattern for bringing the energy balance to zero or less, taking an action schedule data planned to be executed on the date, and fixability and selectivity of an activity time and an activity place into account (S14).例文帳に追加

エネルギー収支がプラスの場合には、処理部は、その日実行することが予定されている活動スケジュールデータ、活動時間及び活動場所の固定性及び選択性を考慮してエネルギー収支を０以下にするための代替活動パターンを計算する（Ｓ１４）。 - 特許庁

A conductive electrode pattern is formed on the tubular front surface made of high polymer materials, one or more electrode protecting layers are formed on it, and the outermost peripheral layer of the electrode protecting layers is constituted of a material having tensile elastic modulus of not less than 300 MPa.例文帳に追加

高分子材料の管状物表面に、導電性を有する電極パターンを形成し、その上に１層以上の電極保護層を形成し、この電極保護層の最外周層を引張弾性率３００ＭＰａ以上の材料で構成する。 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a pattern by using a high energy beam or electron beam having a wavelength of 300 nm or less, and to provide a resin that is used for a topcoat composition in immersion lithography and has water repellency, especially a large receding contact angle.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。 - 特許庁

Alternatively, a nonmagnetic part for magnetically separating the magnetic recording pattern part is formed by partially implanting atoms into a deposited Co-containing magnetic layer, and setting Co (002) or Co(110) peak strength of X-ray diffraction of the magnetic layer of a relevant part to 1/2 or less.例文帳に追加

または、磁気記録パターン部を磁気的に分離する非磁性部を、すでに成膜されたＣｏ含有磁性層に部分的に原子を注入し、該箇所の磁性層のＸ線回折によるＣｏ（００２）またはＣｏ（１１０）ピーク強度を１／２以下にして形成する。 - 特許庁

To provide low permittivity glass suitable for coating an electric conductor pattern on a substrate, etc., with moderate coefficient of thermal expansion, low thermal expansion yielding point, and glass transition point, and less prone to deposit devitrification even in melting-cooling process or reheat treating without liquation of P2O5-B2O3.例文帳に追加

適度なガラス熱膨張係数、低い熱膨張屈伏点、ガラス転移点を有し、溶融−冷却過程や再熱処理においても失透が析出し難く、P_2O_5−B_2O_3の不混和もなく、基板上の導電体パターン等の被覆に適した誘電率の低いガラス。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus having less amplification of a quantization noise without using a special table to obtain an output image in which the generation of a unique pattern is suppressed; and to provide an image processing method, an image processing program, and a recording medium recording the program.例文帳に追加

特異パターンの発生を抑えた出力画像を得るため、特別なテーブルを用いず量子化ノイズの増幅が少ない画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム、またはそのプログラムを記録した記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor film uses a semiconductor film, having a crystal structure containing silicon as a main component where among lattice planes detected by the reflected electron diffraction pattern method, the plane {101} occupying proportion is 10% or more, and the plane {111} occupying proportion is less than 10%.例文帳に追加

珪素を主成分とし結晶構造を有する半導体膜であって、反射電子回折パターン法で検出される格子面の内、｛１０１｝面が占める割合が１０％以上であり、｛１１１｝面が占める割合が１０％未満である半導体膜を用いる。 - 特許庁

The cellulose nanofiber has an average polymerization degree of not less than 600 and not more than 30,000, an aspect ratio of 20-10,000, and an average diameter of 1-800 nm, and has an X-ray diffraction pattern having a Iβ type crystal peak.例文帳に追加

本発明のセルロースナノファイバーは、平均重合度が６００以上３００００以下であり、アスペクト比が２０〜１００００であり、平均直径が１〜８００ｎｍであり、Ｘ線回折パターンにおいて、Ｉβ型の結晶ピークを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive element having high sensitivity, even in direct plotting exposure with a less degradation change of sensitivity, even when leaving the photosensitive element coated with a protective film over a long period and to provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

保護フィルムで被覆した感光性エレメントを長期間放置しておくことによる感度の低下変化が少なく、直接描画露光でも高感度である感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When an error contained in reproduced data from maximum likelihood decoding section 24 is equal to or less than the error correction ability of an error correction system 10, data for which the error correction has been performed by holding, in a register 12, an error position and pattern determined by an error calculating section 11 are sequentially output.例文帳に追加

最尤復号部２４からの再生データ中のエラーが、エラー訂正系１０のエラー訂正能力以下であれば、エラー計算部１１によって求めたエラー位置、パターンをレジスタ１２に保持してエラー訂正を行ったデータを順次出力する。 - 特許庁

The unit has N (N is an even number of not less than 4) plane air cores 40A-40D, and each of N plane air cores is composed of a spiral conductive pattern formed on an insulating board and is laminated in the thickness direction of the insulating board.例文帳に追加

ユニットは、Ｎ（Ｎは４以上の偶数）個の平面状空芯コイル４０Ａ〜４０Ｄを有し、Ｎ個の平面状空芯コイルの各々は、絶縁基板上に形成された渦巻状の導電パターンにて構成され、絶縁基板の厚さ方向にて積層される。 - 特許庁

In the screen printing method, in which ink is adhered to a base material to be printed with a squeegee through a cylindrical screen plate in a pattern, printing is performed with the printing ink, the solvent evaporation speed of which is set to be 34 or less as compared with that of n-butyl acetate as 100.例文帳に追加

インクをスキージにより円筒状スクリーン版を通して被印刷基材にパターンとして付着させるスクリーン印刷方法において、該印刷インクの溶媒蒸発速度を酢酸正ブチルを１００としたときに３４以下の印刷インクを用いて印刷する。 - 特許庁

The optical element 200 includes a glass optical system 202 having 1,000 μm or less of thickness between the first surface and the second surface, and a pattern 203 arranged on the first surface of attenuating the light incident into the first surface of the glass optical system 202.例文帳に追加

光学素子200が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターン203とを包含する。 - 特許庁