「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive type photosensitive composition having a wide defocus latitude when orbicular illumination is used and less liable to generate a side lobe in pattern formation using a halftone phase shifting mask and to provide a positive type photosensitive composition having the above characteristics and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a thick film pattern, on a substrate, having a good mold-releasing property after adhesion to a substrate, with less possibility of air bubbles entering, less possibility of transcription defects generqated, with good shape precision after transcription without size change, with a low cost, in better yield and with high precision.例文帳に追加

基板との密着後の離型性に優れ、気泡が入り難く、転写欠陥が発生し難く、寸法変化が無くて転写後の形状精度に優れた厚膜パターンを基板上に安価に歩留り良く高精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The multi-color pattern coating material comprising colored gel particles comprises a polymer compound having a weight average molecular weight of 2,000 or more, an acid value of 150 mgKOH/g or less, and a sum of hydroxy value and amine value of 100 mgKOH/g or less.例文帳に追加

着色ゲル粒子を含有する多彩模様塗料であって、重量平均分子量が２,０００以上、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価とアミン価の計が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の高分子化合物を含有する多彩模様塗料。 - 特許庁

To provide a game machine capable of displaying the situation of a pattern generated inside a virtual three-dimensional space by relatively less processing loads and making the interest of a player last for a long time.例文帳に追加

仮想３次元空間内に発生する図柄の様子を比較的少ない処理負担で表示するとともに、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine which prevents a player from feeling less eagerness without changing big hit probability concerning pattern change and also without imposing burden on a processing by a main control means.例文帳に追加

図柄変動に関わる大当り確率を変えず、メイン制御手段の処理に負担をかけずに、遊技者の遊技意欲が薄れることを解消することができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To realize a resist composition having dry etching resistance, that is less likely to cause collapse of a resist pattern, capable of preventing acid leaching, and is superior in basic properties as a resist.例文帳に追加

ドライエッチ耐性を有し且つレジストパターンが倒れにくく、酸の溶出防止が可能であると共に、レジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁

Pattern transfer is performed using a combination of an ultraviolet-curable resin having a surface tension of 31 to 39 mN/m and a stamper having a critical surface tension of 31 mN/m or less.例文帳に追加

表面張力は３１ないし３９ｍＮ／ｍの紫外線硬化型樹脂と、臨界表面張力が３１ｍＮ／ｍ以下のスタンパとを組み合わせて使用し、パターン転写を行う。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and less liable to shrink after baking.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない無機粒子含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processing method and its device that can superimpose additional information with visually less sense of incongruity on image information and can decrease an error rate for dot pattern detection in the case of reading the additional information.例文帳に追加

視覚的に違和感の少ない付加情報を重畳でき、付加情報の読み出し時にドットパターン検出の誤り率を低下させた画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet for flooring, which is not a vinyl chloride resin sheet, has a concave-convex pattern formed by embossing, and has a surface strength improved to such an extent that the sheet, when used in flooring or the like, is less likely to be damaged.例文帳に追加

塩化ビニル樹脂シートを使用せずエンボス加工による凹凸模様を有する化粧シートを、床材等に使用時に傷付き難い様に表面強度を向上させる。 - 特許庁

A part of the light beam projected from the light beam irradiation device 20 is shifted to the position adjoining to the exposure region, which blurs an edge of the drawn pattern and makes ruggedness of the edge less visible.例文帳に追加

光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの一部が露光領域の隣接する位置へずれ、描画されるパターンのエッジがぼやけて、エッジのぎざぎざが目立たなくなる。 - 特許庁

To provide a photosensitive element which has high sensitivity even in direct drawing exposure and which is less affected by a void, and a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

直接描画露光においても高感度であり、且つ、ボイドの影響が少ない感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

An occupation area rate of the flat part 16a is 50% or more and 70% or less to suppress the occurrence of face transfer in which a recessed and projecting pattern is left as a transfer trace on a web side.例文帳に追加

平坦部１６ａの占有面積率を５０％以上７０％以下にすることにより、凹凸パターンがウェブ側に写り跡として残る面写りの発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a method having less steps than a conventional method, and capable of easily forming a metal pattern on various kinds of base materials such as a substrate for an integrated circuit in a short time.例文帳に追加

従来の方法と比べて少ない工程を有し、短時間で容易に、集積回路用基板等の各種基材上に金属パターンを形成することのできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a paint feeding device and a paint feeding method wherein the swell of a coating pattern is less liable to be generated by using a cylinder when a substrate is intermittently coated with a paint.例文帳に追加

塗料を基材に間欠的に塗布する際にシリンダーを用いて、塗布パターンに盛り上がりを生じさせにくい塗料供給装置および塗料供給方法を提供する。 - 特許庁

The recording position of the test pattern is calculated from the corresponding position of the pixel unit of the reading pixel pitch obtained from the result of S82 and S86 and the corresponding position of the unit less than one pixel (S88).例文帳に追加

Ｓ８２及びＳ８６の結果から取得された読取画素ピッチの画素単位の対応位置及び１画素未満単位の対応位置からテストパターンの記録位置が算出される（Ｓ８８）。 - 特許庁

To provide a resist material that has high sensitivity with respect to light and electron beams and can form a clear and fine pattern with less exposure.例文帳に追加

本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide an antenna system with a lightning stroke protection apparatus at a low cost wherein an effect of a lightning rod onto an antenna less deteriorates the radiation pattern of the antenna even during transmission or reception.例文帳に追加

送信中又は受信中においても避雷針がアンテナに影響してアンテナの放射パターンを劣化させることが少なく，かつ，ローコストな雷撃保護装置付きアンテナ装置を提供する。 - 特許庁

To provide the forming method of a metal film with which a resist pattern with less deformation by heat and high anti-stress nature and an electrode is highly precisely formed even if the metal film is thick.例文帳に追加

熱による変形が少なく、耐応力性も高いレジストパターンを作製し、金属膜厚が厚い場合でも高精度に電極を形成できる金属膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the number of steps for forming a pattern having a dimension less than a lithographic exposure resolution limit, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of improving the yield.例文帳に追加

リソグラフィの露光解像限界未満の寸法を有するパターンを形成するための工程数を削減し、また、歩留まりを向上させる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Specifically, the tulip 33b is opened for about 4.5 seconds in the situation that the variable display of the big object pattern is made to stand by for less than three times during the probability variation state.例文帳に追加

具体的には、確率変動状態中に大物図柄の変動表示が３回未満待機されている状況においてチューリップ３３ｂを略４．５秒間開放する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide resin composition which has excellent positive photosensitive characteristics and good resolution in pattern formation, is less liable to warp because of relieved thermal stress, and is easily worked.例文帳に追加

ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、熱応力を緩和して反りの発生が少なく、加工性の容易な感光性ポリイミド樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide an absolute angle detection device which has a resolution of 1.5° or less and a common divisor of 360° with a good separation, forms a double-line cord pattern and has eight pieces of a detection element is eight.例文帳に追加

コードパターン列の数が２列、検出素子の数が８個で、分解能が１．５度以下かつ区切りの良い３６０度の公約数である絶対角検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pinball game machine enabling the number of suspended balls to be displayed in which even a user familiar with a game machine having one special pattern display device within a narrow display space feels less feeling of irregularity.例文帳に追加

少ない表示スペースで、特別図柄表示装置１個の機械に慣れ親しんだユーザにも違和感の少ない保留個数表示を行うことが可能な弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

Ink for printing a conductor pattern comprises platinum powder containing 70% or more of platinum particles based on the whole platinum, each of the platinum particles having a particle size of 0.05 μm or more and 0.5 μm or less.例文帳に追加

導体パターン印刷用インクは、粒径が０．０５μｍ以上、０．５μｍ以下の白金粒子を白金全体に対して７０％以上含んだ白金粉末を含有している。 - 特許庁

The colorless transparent resin pattern 27 of which the thickness is equal to that of the coloring layer 16 and of which the size is less than that of the transparent portion is to be formed on the transparent portion 17.例文帳に追加

透明部１７に、着色層１６の厚さと同一の厚さで、且つ透明部の寸法よりも小さい寸法の無色透明樹脂パターン２７が形成されていること。 - 特許庁

To form a pattern of arbitrary size including a size less than resolution in an arbitrary shape through exposure using one mask realizing phase shift effect.例文帳に追加

位相シフト効果を実現する１枚のマスクを用いた露光によって、解像度程度以下の寸法を含む任意の寸法のパターンを任意の形状について形成できるようにする。 - 特許庁

A use condition analysis server 4 determines a combination pattern of an area where and a time zone when mobile terminals are less frequently used, from the use condition list 5 when the total number of accesses exceeds a preliminarily designated threshold and informs a resource control function 22 of the combination pattern as position registration control information.例文帳に追加

利用状況分析サーバ４は総アクセス回数が予め指定された閾値を超えた時点で、利用状況リスト５から低利用エリア及び時間帯の組合せパターンを決定し、位置登録制御情報としてリソース制御機能２２に通知する。 - 特許庁

To prevent presence of information from being clearly grasped in mixing the specified information for mechanical read-out different from a diffraction grating pattern in a decorative picture consisting of the pattern, to increase the information content and to make a display body less liable to a counterfeit and an imitation.例文帳に追加

回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。 - 特許庁

To provide a photosensitive copper paste having high adhesive strength to a substrate, capable of forming a fine thick copper pattern, less liable to gel and excellent in shelf stability and to provide a copper pattern forming method, a circuit board and a ceramic multilayer substrate each using the paste.例文帳に追加

基板との密着力が高く、微細かつ膜厚の大きい銅パターンを形成することが可能で、しかもゲル化が生じにくく、保存安定性に優れた感光性銅ペースト、それを用いた銅パターンの形成方法、回路基板、及びセラミック多層基板を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus with less machine down time and of high productivity by simultaneously reading a reference pattern image for misregistration detection and/or a reference pattern image for density error detection by using a plurality of sensors and attaining quick and accurate detection.例文帳に追加

複数のセンサを用いて位置ずれ検出用基準パターン像及び／又は濃度誤差検出用基準パターン像を同時に読み込み、短時間で高精度の検出を行うことにより、マシンダウンタイムの少ない、生産性の高い画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The device makes a light 17 be incident on a finger print measuring part 12a at an angle not less than a critical angle and projects a light totally reflected from the measuring part 12a to an imaging device 11, and images an optical pattern corresponded to an uneven pattern of a finger 16.例文帳に追加

臨界角以上の角度で指紋測定部１２ａに光１７を入射し、この指紋測定部１２ａで全反射した光を撮像素子１１に出射し、指１６の凹凸パターンに応じた光パターンを結像させる凹凸パターン検出装置である。 - 特許庁

To provide an etching solution which causes less changes in an etching speed and a formable narrowest wiring pitch of a pattern due to the change of a spray pressure when forming a fine wiring pattern by executing etching using an etching solution in which oxalic acid is added to an iron chloride aqueous solution.例文帳に追加

塩化鉄水溶液にシュウ酸を添加したエッチング液を用いてエッチングを行い、微細な配線パターンを形成する際に、スプレー圧力の変化によって生じるエッチング速度やパターン形成可能な最狭配線ピッチの変化が少ないエッチング液を提供する。 - 特許庁

21.(1) Each representation of a design which consists of a repeating surface pattern shall show the complete pattern and a sufficient portion of the repeat in length and width to disclose adequately the design, and such representation shall be of a size not less than A5.例文帳に追加

規則21 (1) 反復平面模様から成る意匠の各表示においては，模様全体並びに意匠を適切に開示するのに十分な長さ及び幅での反復模様の部分を明示するものとし，かつ，当該表示の大きさは，A5以上でなければならない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank and a mask, wherein the linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (real dimensional difference) between a design dimension of a line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of a line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加

転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Ｌｉｎｅａｒｉｔｙを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

This carrier is a master carrier 1 of a disk shape having a transfer pattern 10 of a concentric circle shape corresponding to transfer information, Eccentricity quantity between an inner diameter center of an internal part 1a used for positioning and a center of the transfer pattern 10 is made 20 μm or less to 3μm or more.例文帳に追加

転写情報に対応した同心円状の転写パターン１０を有する円盤状のマスター担体１で、位置決めに使用される内径部１ａの内径中心と、転写パターン１０の中心との偏心量を２０μｍ以下、３μｍ以上としてなる。 - 特許庁

The photomask 10 includes a long main pattern 11 having a dimension equal to or more than the resolution limit of exposure optical conditions and long shaped auxiliary patterns 12a, 12b having a dimension less than the resolution limit of the exposure conditions, extended parallel to the main pattern 11.例文帳に追加

フォトマスク１０は、露光光学条件の解像限界以上の寸法を有する長尺状の主パターン１１と、主パターン１１と平行に延在し、露光光学条件の解像限界未満の寸法を有する長尺状の補助パターン１２ａ，１２ｂとを有する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a conductive pattern forming substrate, a laser beam L of extremely short pulses with the pulse width being less than 1p second is irradiated in a given pattern on a transparent conductive layer A_1, made of an organic conductor formed on at least one surface of a transparent base material A_2.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材Ａ_２の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層Ａ_１に、パルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

This semiconductor device is provided with a substrate (1) whose thickness is 100 μm or less, an electrode pattern (2) formed on the semiconductor substrate, and an insulating film (3') whose thickness is 50 μm or more left in at least any part other than the electrode pattern at the substrate surface.例文帳に追加

半導体装置は、厚さが１００μｍ以下の半導体基板（１）と、前記半導体基板上に形成された電極パターン（２）と、基板表面側の少なくとも前記電極パターン以外の部分に残置された厚さ５０μｍ以上の絶縁膜（３'）を有する。 - 特許庁

The wire grid polarizer comprises a substrate with a 1st surface and a 2nd surface, two or more metal wire formed on the 1st surface, a grating pattern which is formed on the 2nd surface and has a grating pattern with a grating cycle less than a half of incident light wavelength.例文帳に追加

ワイヤーグリッド偏光子は、第１表面と第２表面を有する基板と、前記第１表面の上に形成された複数の金属ワイヤーと、前記第２表面に形成され、入射光の波長の半分以下のグレーティング周期を有するグレーティングパターンとを含む。 - 特許庁

To prevent presence of information from being clearly grasped in mixing the specified information for mechanical read-out different from a diffraction grating pattern in a decorative picture comprising the pattern, to increase the information content and to make a display body less liable to a counterfeit and an imitation.例文帳に追加

回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。 - 特許庁

This payment display device 1 forms a combination pattern of payment and change such that the number of denominations of change to the total amount of commodities purchased by a customer is a fixed number or less, and displays the combination pattern of payment and change.例文帳に追加

支払金額表示装置１は、顧客の購入した商品の合計金額に対する釣り銭の金種枚数が一定枚数以下になるような支払金額と釣り銭の組み合わせパターンを作成し、支払金額と釣り銭の組み合わせパターンを表示する。 - 特許庁

The luminous layer is less in film thickness on the light pattern layer than at the circumference of the pattern layer, so the pattern layer is visible in a dark place by generating a difference in intensity of light emission by the difference in film thickness of the luminous layer and is hidden behind the luminous flux when no light is emitted the pattern layer is made invisible in a light place.例文帳に追加

明るい絵柄パターン層上に形成した蓄光層の膜厚が絵柄パターン層周囲の蓄光層の膜厚に比べて薄くすることで、暗い場所では蓄光層の膜厚の差により発光の強度に差を生じさせて絵柄パターン層を視認でき、かつ非発光時は蓄光層が絵柄パターン層を隠蔽するように形成することで、明るい場所では絵柄パターン層が視認できないようにできる。 - 特許庁