pattern lessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 683件
The noise eliminating section decides a noise level of the noise image data in units of pixels on the basis of a threshold, executes elimination of the fixed pattern noise as to pixels whose noise level is the threshold or over but omits noise elimination of the fixed pattern noise as to pixels whose noise level is less than the threshold.例文帳に追加
ノイズ除去部は、ノイズ画像データのノイズレベルを画素単位に閾値判定し、閾値以上の画素について固定パターンノイズのノイズ除去を実施し、閾値未満の画素について固定パターンノイズのノイズ除去を省略する。 - 特許庁
To obtain a printed wiring board having a structure wherein the tone of color of the appearance of the board is less affected, even if a change occurs temporarily in the surface conditions of a core wiring pattern layer, as a result of modifications made to the wiring pattern formation and its pretreatment step.例文帳に追加
配線パターン形成やその前処理工程が変更されて、コア配線パターン層表面状態に仮に変化が生じても、基板の外観色調に影響が及びにくい構造を有するプリント配線基板を提供する。 - 特許庁
Plasma processing is performed while maintaining the temperature of the wafer W at 100°C or lower, and a silicon nitride film 404 having film stress of 100 MPa or less is deposited on the resist pattern 402 and an antireflection film pattern 403 (Fig. 10(c)).例文帳に追加
ウェハWの温度を100℃以下に維持した状態でプラズマ処理を行い、レジストパターン402及び反射防止膜パターン403上に、100MPa以下の膜ストレスを有するシリコン窒化膜404が成膜される(図10(c))。 - 特許庁
Based on the measured result of the dimensions, the measured wafer W is heated to a prescribed temperature of not less than a glass transition point for expanding the resist pattern on the wafer W, and the dimensions of the resist pattern are adjusted to prescribed target dimensions.例文帳に追加
そして、前記寸法の測定結果に基づいて、その測定されたウェハWをガラス転移点以上の所定の温度に加熱しウェハW上のレジストパターンを広げて、レジストパターンの寸法を所定の目標寸法に調整する。 - 特許庁
To create a new possibility for recording an intensity pattern generated in a contact surface by the principle of a disturbed total reflection, which can attain the image of the intensity pattern with high resolution and less distortion by use of a simple optical means.例文帳に追加
簡単な光学手段を用いて高解像度で歪みの少ない強度パターンの結像を達成する、妨害された全反射の原理で接触面に生じる強度パターンを記録するための新たな可能性を創作すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition for forming a rectangular pixel having a small radius at an edge or a corner of a filter face or the cross section, and for forming a pixel pattern with suppressed variations of pattern features and less development residue.例文帳に追加
フィルタ面や断面のエッジ部や角(カド)部の丸みが小さい矩形の画素の形成が可能で、パターン形状バラツキを小さく抑え、かつ、現像残渣が少ない画素パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
At this time, it is preferable that arithmetic average roughness Ra on the surface of the servo pattern area 21 is 0.3nm or more and it is preferable that the irregularity existing on the surface of the servo pattern area 21 has a step with 6nm or less.例文帳に追加
このとき、サーボパターン領域21の表面の算術平均粗さRaが0.3nm以上であることが好ましく、サーボパターン領域21の表面に存在する凹凸が6nm以下の段差を有することが好ましい。 - 特許庁
To provide a mask blank and a mask, wherein linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (actual dimensional difference) between a design dimension of the line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of the line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加
転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差(実寸法差)を抑え、Linearityを10nm以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a method for dry processing a fine structure capable of uniformly drying a substrate having a fine pattern of not more than 30 nm and a large diameter of not less than 100 mm in a short period of time without causing the fall-down of the pattern.例文帳に追加
本発明の目的は、30nm以下の微細パターンを持ち、100mm以上の大口径基板をパターン倒れ無く、短時間で均一に乾燥できる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁
Between a substrate for an anode and a phosphor layer there is provided a color filter layer having a predetermined pattern formed by firing a coated layer including transparent conductive fine particle colloids 1.0 μm or less in particle diameter and inorganic pigment colloids 1.0 μm or less in particle diameter.例文帳に追加
アノード用基板上と蛍光体層との間に、粒径1.0μm以下の透明導電性微粒子コロイドと粒径1.0μm以下の無機顔料コロイドを含む塗布層を焼成して形成された所定のパターンを有するカラーフィルター層を設ける。 - 特許庁
To efficiency enhance a coding by reducing a useless bit pattern so as to attain less calculation amount and less storage amount and to decode a variable length code in a forward direction and also in a reverse direction, even when a synchronization period is set to each prescribed period by using a stuffing code.例文帳に追加
無駄なビットパターンを減らして少ない計算量と記憶量により符号化効率を高め、またスタッフィング符号を用いて同期区間を一定周期毎に設定しても順方向にも逆方向にも可変長符号を復号可能とする。 - 特許庁
To provide a game machine for eliminating the problem of a fixed prize ball number when a game ball enters a large prize hole or start hole which causes a player to have less interest in displayed patterns in a pattern display device, and have less fun.例文帳に追加
大入賞口または始動口に遊技球が入賞した場合の賞球個数が固定しているために、図柄表示装置の表示図柄に対する遊技者の関心が薄く、興趣にかけるのを解決する遊技機を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive type photosensitive composition having high resolving power when a bracelet illumination lamp is used, having a broad defocus latitude, less liable to produce a side lobe in pattern formation using a halftone phase shift mask and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加
輪帯照明を用いた際に高解像力であり、デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a mirror-polished wafer providing a high level flatness, especially for a mirror-polished wafer which permits the deposition process for pattern size 0.13 μm or less.例文帳に追加
高平坦度な鏡面ウェーハ、特にパターン寸法が0.13μm以下の成膜工程が可能な鏡面ウェーハを製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for fabricating electronic apparatus for controlling shape and thickness of fine pattern in higher accuracy with less amount of damage on a device with a simplified process.例文帳に追加
簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fashion accessory giving less extent of pollution to surroundings on its break, displaying a constant shape pattern, inexpensive and having a unique good appearance.例文帳に追加
破損時の周囲の汚染度合いが少なく、一定形状の図柄が表示でき、安価で、個性的な見栄えを有する服飾装身具を提供することを課題とする。 - 特許庁
If the periphery of a recess pattern is assumed as equal to or less than a crystal grain size in a direction vertical to the beam scanning direction, the band-like crystal grain can be continuously formed side by side.例文帳に追加
また、凹パターンの周囲をビーム走査方向と垂直方向の結晶粒径以下とすれば、連続的に帯状結晶粒を並べて形成することが可能である。 - 特許庁
A pattern 31 wherein triangles are drawn alternately up and down taking a reference line having length not less than the visual field range of a camera is formed on the surface of a standard plate as the center.例文帳に追加
表面に前記カメラの視野範囲以上の長さの基準線を中心にして上下に互い違いに三角形が描かれたパターン31を具備してなる。 - 特許庁
In a region-less labeling block 13, a labeling process relative to a binarized image of the inspecting pattern is executed by using a processing region having a predetermined shape as a labeling object range.例文帳に追加
領域なしラベリングブロック13では、被検査パターンの2値化画像について所定形状の処理領域をラベリング対象範囲としてラベリング処理を実施する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a liquid crystal display element substrate which can form a column spacer pattern through a simpler and less costly method than the photolithographic process.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程に比べてより低価で簡単な方法を通じてカラムスペーサーのパターンを形成できる液晶表示素子の基板形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a wiring-less mosaic panel as a mosaic type display panel which has a board surface constituted by mounting solid color tiles etc., at respective square paths of a grid in longitudinal/lateral grid pattern.例文帳に追加
縦横碁盤目状のグリッドの各桝路に、無地タイルなどを装着して盤面を構成するモザイク式表示パネルにおいて、配線レスモザイクパネルを実現する - 特許庁
To provide a mask for vapor deposition by which an exact vapor deposition pattern can be formed and a structure less likely to generate bending by its own weight can be obtained.例文帳に追加
正確な蒸着パターンを形成することができ、しかも自重によって撓みが発生しづらい構造を得ることが可能な蒸着用マスクを提供すること。 - 特許庁
To provide a cover member for a push-button switch, having less likehood of crazing, melting, etc., from generating on a symbol pattern, while a hot-stamping method suitable for metallic color, hologram color, etc., is used.例文帳に追加
メタリック色、ホログラム色等に適するホットスタンプ方式を用いながら、符号パターンにひび割れ、溶解等が生じるおそれの少ない押釦スイッチカバー部材を提供する。 - 特許庁
To provide a design device capable of forming a knitting program which optimizes a knitting time even by a technician with less experience by facilitating a design of pattern.例文帳に追加
柄の設計を容易にし、かつ編成時間を最適化された編成プログラムを経験の少ない編成技術者でも短時間で形成できる設計装置を提供する。 - 特許庁
To provide a surface treatment agent for forming a pattern that offers sufficiently high oil/water repellency to an oil repellency area even when there is a short chain Rf group whose number of carbons is 6 or less.例文帳に追加
炭素数6以下の短鎖Rf基を有していても、撥液領域に充分に高い撥水撥油性を与えるパターン形成用表面処理剤の提供 - 特許庁
To provide a laminated electronic part which has less variation in electric characteristic by thinking out the arrangement of a conductor pattern constituting a coil, and suppressing a variation of inductance value of the coil.例文帳に追加
コイルを構成する導体パターンの配置を工夫し、コイルのインダクタンス値のばらつきを抑え、電気的な特性のばらつきを少なくした積層型電子部品を得る。 - 特許庁
To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source.例文帳に追加
F_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が100nm以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁
To provide excimer laser device which can minimize variations in the exposure by eliminating a spike-like pattern of pulse energy, and perform exposure with a less number of pulses than a conventional laser.例文帳に追加
パルスエネルギーのスパイク状パターンを消去し、露光量のバラツキを最少限にすると共に従来より少ないパルス数での露光を可能とするエキシマレーザ装置を得る。 - 特許庁
Thus, the mold of which the complicated pattern shape can easily be fabricated by less processes, and for which the heights in the unevenness are made equal, and its manufacturing method can be provided.例文帳に追加
複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供することができる。 - 特許庁
To provide a pattern correcting method in which an electrode breaking part etc., are corrected with a thin wire of about 10 μm and a defective portion periphery is less damaged and contaminated.例文帳に追加
10μm前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide a test circuit capable of developing a pattern for a connection test between logic blocks in a logic circuit with less man-hours, and in which an increase of a chip area is suppressed.例文帳に追加
論理回路における論理ブロック間の接続テスト用パターンをより少ない工数で開発でき且つチップ面積の増大を抑えたテスト回路を提供する。 - 特許庁
To provide a method of plasma-etching which is free from a difference in dense and sparse shapes which comes out between dense and sparse regions of a mask pattern in processing a device at spacing of 100 nm or less.例文帳に追加
スペース幅が100nm以下になるデバイスの加工で、マスクパターンの疎密領域間の疎密形状差が発生しないプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a shape monitoring apparatus for monitoring, within a short period of time, a shape of sample having fine pattern such as a semiconductor device with less amount of damage applied to the sample.例文帳に追加
半導体装置のような微細なパターンを有する試料の形状を短時間で観察でき、試料に与えるダメージが小さい形状観察装置を提供する。 - 特許庁
To efficiently and precisely form a magnetization pattern less in defect in a short time on a magnetic recording medium without damaging the medium and a mask and to provide a magnetic recording medium and a magnetic recording device which are capable of high density recording in a short time and at low costs.例文帳に追加
効率よく精度よく、しかも媒体やマスクを傷つけることなく欠陥発生の少ない磁化パターンを、短時間で磁気記録媒体に形成する。 - 特許庁
To provide a photosensitive element which is excellent in side face roughness of a resist pattern, flatness on the upper face, resolution, adhesiveness, developing property, productivity and workability and is less in the number of mouse bites.例文帳に追加
レジストパターンの側面ギザ性、上面の平坦性、解像度、密着性、現像性、生産性、作業性に優れ、マウスバイトの数の少ない感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁
To provide a molding imprint method capable of stably forming a pattern having a microstructure of a nano order on a substrate with less damage to a mold.例文帳に追加
金型を傷めることが少なくナノオーダーの微細な構造のパターンを基材上に安定して形成することができる注型インプリント法を提供することを目的としている。 - 特許庁
In the case of outer diameter reference, eccentricity quantity between an outer diameter part 1b used for positioning and a center of the transfer pattern 10 is made 20μm or less to 3μm or more.例文帳に追加
外径基準の場合には、位置決めに使用される外径部1bの外径中心と、転写パターン10の中心との偏心量を20μm以下、3μm以上とする。 - 特許庁
The antennas ANT1-ANTn have such radiation pattern as omnidirectional (non-directional) in horizontal direction while have less directivity in vertical direction.例文帳に追加
アンテナANT1〜ANTnは、水平方向に対しては、全方向に指向性があり(無指向)、すなわち、垂直面方向には指向性が少ない放射パターンを有する。 - 特許庁
To surely remove a lost form pattern with a simple process and constitution, and to prevent the roughness on a cast surface of a cast product as less as possible.例文帳に追加
簡単な工程および構成で、消失性模型を確実に除去することができ、鋳造品の鋳肌面の荒れを可及的に防止することを可能にする。 - 特許庁
To provide a metallic particle paste of which a sintered layer or a sintered pattern having high conductivity is efficiently formed even at a low temperature (in particular, at about 150°C or less).例文帳に追加
低温(特に150℃以下程度の低温)であっても、高い導電性を有する焼結層又は焼結パターンを効率よく形成できる金属粒子ペーストを提供する。 - 特許庁
For example, the usage amount of the solder 36 is made less for a larger area wiring pattern 18, and the usage amount of the solder 36 is made more for the other wiring patterns 20-34.例文帳に追加
例えば、面積の大きい配線パターン18では半田36の使用量を少なくし、その他の配線パターン20〜34では半田36の使用量を多くする。 - 特許庁
This is because tsukesage, which is sold by the roll, is less expensive than a formal kimono with an ebamono design (where the pattern spreads over the kimono without its alignment being disrupted by the seams) so it would be easier to sell to customers. 例文帳に追加
これは価格の張る絵羽物の訪問着より着尺(反物)の状態で売られている付け下げの方が安価なため客に売りやすいという意味もあった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide an inorganic particle-containing photosensitive resin composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and ensuring less shrinkage after baking.例文帳に追加
精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a method capable of mounting a flip-chip on a pattern having a wiring pitch of 70 μm or less even by a bonding bump using a general gold wire having a diameter of 25 μm.例文帳に追加
一般的な直径25μm金線を使用したボンディングバンプでも、配線ピッチとして70μm以下のパターンにフリップチップ実装可能な方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming material effective in manufacture of a printed wiring board, capable of realizing high resolution by thinning of a layer, and capable of forming a tent film less liable to tear, and to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method by which a printed wiring board having a hole part such as a through hole or a via hole can be efficiently manufactured.例文帳に追加
プリント配線板の製造に有効で、薄層化により高解像度化が可能であり、破れにくいテント膜を形成できるパターン形成材料と、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を効率的に製造することができるパターン形成装置及びパターン形成方法とを提供。 - 特許庁
As manufacturing processes of a front-face substrate 300, a conductive pattern forming process forming a conductive pattern by conductive paste with a solid content density of glass fine particles adjusted at 3.1 g/cm^3 o less, and a baking process forming main conductive layers 314a, 314b by baking the conductive pattern are involved.例文帳に追加
前面基板300の製造工程として、ガラス微粒子の固形分密度が3.1g/cm^3以下に調整された導電性ペーストにより導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、この導電性パターンを焼成して主導電層314a,314bを形成する焼成工程と、を適用している。 - 特許庁
To provide a resist composition that forms a resist pattern improved in the collapse of the resist pattern, line edge roughness and the generation of scum, less liable to the deterioration of the profile, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure; and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加
レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
Then, when the number of times of executing the big winning game after an episode pattern EP1 is determined is equal to or less than the predetermined number of times (5 times), when an episode pattern EP1-EP2 is determined, the episode performance based on the episode pattern EP2 corresponding to the next stage of the episode performance based on the episode pattern EP1 executed in the previous time is executed.例文帳に追加
そして、統括CPUは、エピソードパターンEP1が決定されてからの大当り遊技の実行回数が予め決められた回数(5回)以下である場合に、エピソードパターンEP1〜EP2が決定されたときには、前回実行されたエピソードパターンEP1に基づくエピソード演出の次の段階に対応するエピソードパターンEP2に基づくエピソード演出を実行させる。 - 特許庁
If the total amount of different denominations determined to be the threshold or less exceeds a predetermined value with respect to a processed total amount, a warning message for newly creating a standard pattern is displayed in a display part 84, or a standard pattern is automatically created.例文帳に追加
このとき、閾値以下に判定された異種券の総数が処理した総数に対して所定の値を超えている場合、標準パターンを新規に作成するための警告文を表示部84に表示するか、又は自動的に標準パターンを作成する。 - 特許庁
On the other hand, when a fluctuation pattern of the flow rate fluctuates with a prescribed fluctuation pattern (S125:YES), the burner is extinguished (S130), and the water heater stands ready until the prescribed time passes in the state that the flow rate is kept at the second threshold value or less (S135:NO) thereafter.例文帳に追加
一方、流量の変動パターンが所定の変動パターンで変動した場合には(S125:YES)、バーナーの消火を行い(S130)、その後は、流量が第二のしきい値以下となったまま所定時間が経過するまで待機する(S135:NO)。 - 特許庁
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