「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To appropriately maintain the performance of a scanning probe used for evaluating and forming a fine-structured pattern of nanometer or less for a long time.例文帳に追加

ナノメートル以下の微細構造パターンの評価や形成に用いられるスキャニングプローブの性能を長期間良好に保つ。 - 特許庁

When the shortest subject distance is less than a predetermined threshold, closest subjects in the respective live-view images are displayed in a zebra pattern.例文帳に追加

最短被写体距離が所定のしきい値未満となる場合、各ライブビュー像内の最至近被写体をゼブラパターンで表示する。 - 特許庁

To transfer the pattern consisting of a shortest bits of 300 nm or less by using a master carrier for magnetic transfer.例文帳に追加

磁気転写用マスター担体を用い、３００ｎｍ以下の最短ビット長からなる転写パターンをスレーブ媒体に良好に転写する。 - 特許庁

To provide a technique in which a pattern having a thickness of micron order can easily be formed in a region of a fine pitch of 100 μm or less.例文帳に追加

１００μｍ以下の微細ピッチの領域で、ミクロンオーダーの厚さを有するパターンを容易に形成できる手法の提供。 - 特許庁

To provide a new colored photosensitive resin composition capable of forming a color filter with less residue and good pattern adhesion.例文帳に追加

残渣が少なく、パターン密着性が良好なカラーフィルタを形成しうる新たな着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Consequently, as a row decoder circuit having less pattern area can be realized, an inexpensive chip having high reliability can be realized.例文帳に追加

この結果、パターン面積の小さいロウデコーダ回路を実現できるため、安価で信頼性の高いチップを実現することができる。 - 特許庁

Kitakinki, which faces the Japan Sea, shows a Japan-Sea side climate pattern but has less snow than Hokoriku and instead has many rainy days. 例文帳に追加

日本海に面しており、気候は日本海側気候が見られるが、冬の雪は北陸程は多くはなく、雨の日が比較的多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a substrate for a display panel where the electrodes is less likely to peel off, regardless of minute electrode pattern.例文帳に追加

微細化された電極パターンであっても、電極の剥離が生じにくいディスプレーパネル用基板を提供することを課題とする。 - 特許庁

The first pattern 4 of the diffraction optical element which has the pattern pitch less than the wave length of the incident light is formed on one part of the main surface 2 of the substrate 1 made of glass, etc., and polarization is imparted thereto.例文帳に追加

ガラスなどの基板１の主面２の一部に、入射光の波長以下のパタンピッチを有する第１の回折光学素子パタン４を形成して偏光性を持たせる。 - 特許庁

For example, a TG pattern having a larger number of clamp pixels is used when the ISO sensitivity is 800 or more, and a normal TG pattern is used when the ISO sensitivity is less than 800.例文帳に追加

例えば、ＩＳＯ感度が８００以上の場合にクランプ画素数の多いＴＧパターンを使用し、ＩＳＯ感度が８００未満の場合に通常のＴＧパターンを使用する。 - 特許庁

Each representation of an industrial design which consists of a repeating surface pattern shall show a complete pattern and a sufficient portion of the repeat in length and width, and shall be of a size not less than 18 cm x 13 cm.例文帳に追加

表面模様の繰返しから構成される意匠の表示の各々は，完全な模様及び繰返しの縦横の十分な部分を表示するものとし，18cm×13cm 以上のサイズとする。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭ ｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

An interval La between a side end of the first pattern and a SDARS antenna 13 is 32 mm or more, and an elevation angle θa connecting a hypotenuse of the second pattern 12b and the SDARS antenna 13 is approximately 30° or less.例文帳に追加

第１パターンの側端とSDARSアンテナ１３との間隔Ｌａは３２ｍｍ以上とされ、第２パターン１２ｂの斜辺とSDARSアンテナ１３を結ぶ仰角θａが約３０°以下とされている。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in pattern collapse margin with excellent fine pattern formation, excellent pattern shape, and less development defect even in not only normal exposure (dry exposure) but also immersion exposure, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、微細で良好なパターン形成が可能で、パターン形状が良好であり、現像欠陥が極めて少なく、且つパターン倒れマージンに優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern measurement method to obtain a pattern having less errors by inserting a pattern which corrects a proximity effect of a photomask into a region except for monitor or circuit patterns conventionally designated by users upon ensuring dimensions of a photomask, and by inspecting the pattern and controlling drawing conditions after drawing.例文帳に追加

フォトマスクの寸法保証を行なう際に、従来のユーザーが指定するモニター、回路パターン以外に、フォトマスクの近接効果を補正するパターンを挿入して、描画後にパターンを検査して描画条件を管理して誤差の少ないパターンにするパターン測定方法を提供する。 - 特許庁

An overlapping width C between an electrode printing pattern 51 designed to form an internal electrode pattern layer 12a by a printing method and a margin printing pattern 61 designed to form a margin pattern layer 24 by a printing method is set to be 5 μm or more and 200 μm or less.例文帳に追加

内部電極パターン層１２ａを印刷法により形成するために設計された電極印刷パターン５１と、余白パターン層２４を印刷法により形成するために設計された余白印刷パターン６１との重なり幅Ｃを５μｍ以上２００μｍ未満とする。 - 特許庁

To provide resist ink which is used for the formation of a resist pattern by a direct resist drawing method, and with which a thick resist pattern can be formed easily by receiving less restriction from the viscosity of the ink; and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board using the resist ink.例文帳に追加

本発明はレジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、粘度の制約が少なく、厚いレジストパターンを容易に形成できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having a low refractive index and also less development residue and allowing formation with high resolution of a pattern excellent in dry etching resistance, a pattern forming material, and a photosensitive film, a pattern formation method, a pattern film, a low refractive index film, an optical device and a solid imaging element using the same.例文帳に追加

屈折率が低く、更には、現像残渣が少なく、ドライエッチング耐性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

Each of the coil pattern on the side of excitation formed in the substrate and the coil pattern on the side of power reception is made into one or less turn per layer, and preferably the coil pattern formed on the side of power reception rather than the coil pattern on the side of excitation is arranged on the front surface side of the multilayer substrate in the direction of lamination.例文帳に追加

基材に形成する励磁側のコイルパターン及び受電側のコイルパターンは、いずれも１層当たり１ターン以下とし、励磁側のコイルパターンよりも受電側のコイルパターンの方が、積層方向で多層基板の表面側に位置するようにするのが好ましい。 - 特許庁

In a Pachinko game machine, a voice control means reproduces not less than one special effect data, correlated to a performance pattern for voice output corresponding to performance display by the performance pattern, by not less than one channel for outputting from loudspeakers.例文帳に追加

ぱちんこ遊技機において、音声制御手段は、演出パターンによる演出表示に対応して音声出力されるよう当該演出パターンに対応付けられた１以上の効果音データを１以上のチャンネルで再生してスピーカから出力させる。 - 特許庁

To provide a soldering method of Pb-less solder which improves a joint strength with a pattern composed of Pb-less solder and Cu or Cu alloy, even if the thickness of an Ni plating layer is thin.例文帳に追加

Ｎｉめっき層の厚さが薄くてもＰｂレス半田とＣｕ又はＣｕ合金からなるパターンとの接合強度を向上させることができるＰｂレス半田の半田付け方法を提供する。 - 特許庁

The metallic circuit pattern 4b thus obtained is rectangular with a difference between an upper surface width (a) and a lower surface width b of 10% or less of a thickness t.例文帳に追加

得られる金属回路パターン４ｂは、上面幅ａと下面幅ｂの差が厚さｔの１０％以下の矩形形状となる。 - 特許庁

The insulating dummy layer 65 is formed to have a thickness, e.g. equal to/less than 100 μm, substantially equal to that of each of the coil pattern layers 61, 61 and 63.例文帳に追加

絶縁ダミー層６５は、コイルパターン層６１，６２，６３の厚さと同程度、たとえば１００μｍ以下の厚さに形成されている。 - 特許庁

To improve the yield of an inductive device wherein mass production is easy, and there is less displacement of a conductor pattern, and an inductance with narrow tolerance is obtained.例文帳に追加

量産が容易であり、導体パターンのずれが少なく、狭公差のインダクタンス値が得られるインダクティブデバイスの歩留まりを高める。 - 特許庁

To provide a method for producing embossed release paper in which a heat melting resin forming an embossed pattern is less sagged and which has a high shaping rate.例文帳に追加

エンボスパターンを形成した熱溶融樹脂のだれが少なく賦型率の高いエンボス付き離型紙の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pore-less super-abrasive grain layer area group and superabrasive grain layer group having pores are formed in a super-abrasive grain layer with a predetermined pattern.例文帳に追加

超砥粒層に所定のパターンで、無気孔の超砥粒層領域群と、有気孔の超砥粒層領域群を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for a material having low transmittance of light for alignment with high alignment accuracy and less number of processes.例文帳に追加

高いアライメント精度、および少ない工程数でアライメント用の光の透過率が低い材料のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The tensile stress of the conductive film pattern is 300 MPa or less, and its film thickness is desirable to be 3,000-7,000 Å.例文帳に追加

導電膜パターンの引張応力は，３００ＭＰａ以下であり，その膜厚さは，３０００〜７０００Åであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic circuit component having a penetrating conductor pattern and less problem due to high- temperature annealing.例文帳に追加

貫通導体パターンを有し、高温アニールによって問題を生じることの少ない電子回路部品の作製方法を提供する。 - 特許庁

To create surface treatment data for forming a less-strained, impressive grained pattern on a product surface without requiring excessive data processing.例文帳に追加

過大なデータ処理を要しないで製品表面に歪みの少ない、見栄えの良い絞が形成される表面加工データを作成する。 - 特許庁

When the variation Pb is less than the variation decision reference value Po, the caution warning based on a short pattern in a short cycle is issued (S11).例文帳に追加

又、変化量Ｐｂが変化量判定基準値Ｐｏ未満のときは短い周期のショートパターンによる注意警報を発する(S11)。 - 特許庁

To provide a method for forming a better gray scale pattern by using relatively less pulses (for example, 2 to 4 pulses) at each feature.例文帳に追加

フィーチャ毎に比較的少ないパルス（例えば２〜４パルス）を使用してより良好なグレースケールパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

For instance, in the case that B/A is a value less than 50 and in the case that the B/A is the value of 50 or higher, the pattern of the osteogenesis is controlled.例文帳に追加

例えば、Ｂ／Ａが５０未満の値の場合と、前記Ｂ／Ａが５０以上の値の場合とで、骨形成のパターンを制御し得る。 - 特許庁

An insulating sponge member 40 is attached to the circuit pattern formation face 21a of the printed circuit board 21 of the brush-less motor 12.例文帳に追加

ブラシレスモータ１２のプリント回路基板２１の回路パターン形成面２１ａに、絶縁性を有するスポンジ部材４０が装着される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can easily form a contact connected to a pattern of a processing film on an upper layer of the pattern of the processing film serving as a line-and-space pattern less than an exposure resolution limit of the photolithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法の露光解像限界未満のラインアンドスペースパターンとなる被加工膜のパターンの上層に、その被加工膜のパターンと接続するコンタクトを容易に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a patterning step, a pattern on a second substrate is formed on the second substrate by imprinting a pattern of the second template where the displacement from an underlayer side pattern already formed on the second substrate is less than a predetermined reference value.例文帳に追加

パターン形成ステップは、第２の基板に既に形成されている下層側パターンとの間の位置ずれ量が所定の基準値以下となる第２のテンプレートのパターンを転写して前記第２の基板上に第２の基板上パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern with less residue on the bottom part of the pattern, as compared with the conventional pigment-containing negative curable resin, with respect to a colored cured resin pattern, and to provide its production method.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンおよび製造方法において、従来の顔料を含有するネガ型硬化性樹脂と比較して、パターンの裾部分に、残渣が少ないパターンを形成し得るポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and with which pattern rectangularity is not deteriorated even in a subsequent step of post baking in pattern formation with low exposure (in particular, less than 200 mJ/cm^2).例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a semiconductor device in which an etching process is eliminated by removing residue of a pattern obtained from mold pressing, and even a fine pattern having a size equal to a wavelength of irradiated light or less can be formed.例文帳に追加

モールドプレスすることにより得られたパターンの残渣をなくすことでエッチング工程をなくし、照射光の波長以下の微細パターンまで形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The video processing apparatus 2 finds a correlation ratio between the generated pattern data and the reference pattern data in abnormality, and immediately generates an alarm signal in a communication apparatus 5 if not less than a predetermined correlation ratio.例文帳に追加

そして、ビデオ処理装置２は、生成されたパタンデータと異常時の基準パタンデータとの相関率を求めて、所定の相関率以上の場合には直ちに通信装置５に警報信号を発生する。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor device capable of forming a fine pattern having a line thickness of 60 nm or less by preventing the deformation when patterning a hard mask.例文帳に追加

ハードマスクをパターニングする際の変形を防止することにより、線幅が６０ｎｍ以下の微細パターンを形成することができる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

Each representation of a design which consists of a repeating surface pattern shall show the complete pattern and a sufficient portion of the repeat in length and width, and shall not be of less size than 17 cm by 12 cm.例文帳に追加

表面繰返し模様から構成される意匠の各表示は完全な模様及び長さ並びに幅についての十分な繰返し部分を示し，寸法が長さ17cm，幅12cm以上でなければならない。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of stably forming a fine pattern which is 50 nm or less by minimizing nonuniformity generated at the time of CMP in the step of forming the fine pattern.例文帳に追加

微細パターンの形成工程におけるＣＭＰ時に生じる不均一性を最小化し、５０ｎｍ以下の微細パターンを安定的に形成可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method capable of forming a pattern of polyimide or polybenzoxazole, which has a comparatively gentle inclination having an angle of inclination of less than 60° in the side of the pattern, on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の上に、パターン側面の傾斜角が６０度以下の比較的なだらかな傾斜を有するポリイミド、もしくはポリベンズオキサゾールのパターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁