「pattern less」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The ink for forming the conductor pattern, used for forming the conductor pattern on a substrate by the droplet discharge method, contains silver particles and an aqueous dispersion medium to which the silver particles disperse, wherein the ink for forming the conductor pattern includes aluminum ion, and the content of the aluminum ion is 4 ppm or more and 350 ppm or less.例文帳に追加

本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、銀粒子と、前記銀粒子が分散する水系分散媒とを含み、導体パターン形成用インク中には、アルミニウムイオンを含み、前記アルミニウムイオンの含有量が、４ｐｐｍ以上３５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

At that time, the performance pattern selection section 60 selects a start performance pattern A when the length of time measured by the timer 41 is 1 minute or longer and less than 5 minutes and selects a start performance pattern B when the length is 5 minutes or longer or when the timer 41 doest not start time measurement from the time when a stop identification signal of the identification section 40 is output.例文帳に追加

このとき、演出パターン選択部６０は、タイマー４１により測定された時間の長さが１分以上５分未満である場合には開始時用演出パターンＡを選択し、５分以上またはタイマー４１が識別部４０の停止識別信号が出力されたときから計時を開始したのではない場合には開始時用演出パターンＢを選択する。 - 特許庁

The drift is suppressed by the method of manufacturing the photomask including the steps of: predetermining a specified value of change in drawing density of a drawn pattern of the photomask; finding drawing density change of the drawn pattern; and dividing the drawn pattern into a plurality thereof so that change in drawing density is equal to or less than the specified value when the found drawing density change is larger than the predetermined specified value.例文帳に追加

フォトマスクを描画パターンの描画密度変化の所定値を予め定める工程と描画パターンの描画密度変化を求める工程と、求めた描画密度変化が予め定めた所定値より大きい場合には、描画密度変化が所定値以下になるように描画パターンを複数に分割する工程とを備えた作製方法により、ドリフトを抑制することを可能とした。 - 特許庁

To provide a pneumatic tire that has a block pattern capable of ensuring sipe effects on a wider range of input, block rigidity less dependent on the direction of input, and higher sipe density.例文帳に追加

より広範囲の入力に対してサイプ効果が得られ、ブロック剛性の入力方向依存性が少なく、しかもより高いサイプ密度を達成することができるブロックパターンを有する空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁

By forming a pattern 2 with a color-mixed flack ink including no carbon in the print confirmatory region 4, the PCS value of the print confirmatory region in the wave length range of about 760 nm is set to be 0.2 or less.例文帳に追加

印字確認領域４に、カーボンを含まない混色黒色インキにより地紋２を形成することによって、７６０ｎｍ程度の波長域における印字確認領域４のＰＣＳ値を０．２以下にした。 - 特許庁

After the processing is repeated over the entire of the document image, and if the count value is not less than a criterion value, a special pattern determination section determines that a copy-prohibited information is contained in the document image.例文帳に追加

この処理を原稿画像全面に渡って繰り返した後、カウント値が判断基準値以上である場合には、特殊パターン判断部はこの原稿画像に複写禁止情報が含まれていると判断する。 - 特許庁

The substrate filling and pattern-edge coating characteristics are controlled by providing a sequence of low speed rotation of less than 1,000 rpm for at least 3 sec. just before starting proper rotation, which determines a film thickness.例文帳に追加

３秒以上かつ１０００ｒｐｍ未満の低速回転のシーケンスを、膜厚を決定する本回転の直前に設けることによって、下地のフィリング特性およびパターン縁(へり)塗布特性を調節する。 - 特許庁

To provide an anisotropic conductive adhesive sheet containing conductive microparticles arranged in a regular pattern and in high density (in such a way that the distance between the adjacent conductive microparticles is 20 μm or less), within the area of a sheet.例文帳に追加

導電性微粒子がシート面内に、規則的に且つ高密度で（隣り合う導電性微粒子間の距離が２０μｍ以下となるように）配置された、異方性を有する導電性接着シートを提供する。 - 特許庁

To stabilize the response of pressure control and perform high precise pressure control by preventing parts having less (bad) response, generation disturbance of behavior, undershoot or overshoot in a pressure control pattern.例文帳に追加

圧力制御パターンにおける応答性の鈍い（悪い）部分や挙動の乱れ，アンダーシュート及びオーバーシュートの発生を防止し、圧力制御の応答性を安定化させるとともに、高精度の圧力制御を行う。 - 特許庁

To provide an air-conditioner control method capable of obtaining the intended output result to an optional input value by a simple algorithm of less man-hour for development only by preparing a model control pattern to be easily acquired.例文帳に追加

取得の容易なモデル制御パターンを用意するだけで、簡単で開発工数の少ないアルゴリズムにより、任意の入力値に対し意図通りの出力結果が得られるエアコン制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and easy method for forming solder bumps on an electrode which can readily respond to a demand for a pattern of high accuracy with an electrode pitch of 200μm or less, and to provide means for feeding solder balls for it.例文帳に追加

電極ピッチ 200μｍ以下という高精細パターンに容易に対応でき、操作が簡便かつ容易である電極上にはんだバンプを形成する方法とそのためのはんだボールの供給手段を提供する。 - 特許庁

Even if oscillation of the optical element 140 unintentionally stops for some reason, occurrence of an interference pattern caused thereby can be made less visible, or a notice of the fact that the oscillation stops can be issued to a user.例文帳に追加

何らかの要因で光学素子１４０の振動が停止してしまった場合であっても、それに起因した干渉パターンの発生を見えにくくしたり、振動が停止した旨をユーザへ警告したりすることができる。 - 特許庁

To provide a mold with an extremely small amount of warpage and excellent in evenness, a method for manufacturing the mold by which a highly precise uneven pattern with less fluctuation of the amount of warpage can be efficiently formed, and a magnetic recording medium.例文帳に追加

反り量が極めて小さく、平坦性に優れたモールド、及び反り量のバラツキが小さく、高精度な凹凸パターンを効率よく形成できるモールドの製造方法、並びに磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

In a forming method of a micro metal structural body, conductive paste containing metal powder with an average particle size of 400 nm or less as a conductive component is put under pattern formation into a given shape to obtain a micro metal structural body.例文帳に追加

微細金属構造体の形成方法は、平均粒径が４００ｎｍ以下の金属粉末を導電成分として含む導電ペーストを、所定の形状にパターン形成して微細金属構造体を得る。 - 特許庁

To provide a photopolymeric resin laminate having characteristics, such as high resolution and high tight adhesion properties, good plating resistance and resist peelability and less ruggedness on resist pattern surfaces, notches and eclipse of side wall.例文帳に追加

高解像性、高密着性であり耐めっき性、レジスト剥離性が良好であり、レジストパターン表面の凹凸やサイドウオールのギザツキ、食われが少ない等の特性を有する光重合性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

Therein, by using a plastic mold and a visible light curable resin to which a polymerizable compound having a specified weight-average molecular weight or less is mixed, a more convenient manufacturing process of the pattern of the metallic film is constituted.例文帳に追加

この際、プラスチックモールドと特定の重量平均分子量以下である重合性化合物を配合した可視光硬化性樹脂を使用することにより、より簡便な金属膜のパターンの製造プロセスが提供される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure having a large receding contact angle to a liquid for immersion exposure and giving a photoresist film less liable to cause development defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a gravure printing cylinder that can print an etching resist which can form a wiring pattern composed of a circuit line having an edge, having less unevenness by etching on a base material sheet.例文帳に追加

本発明は、本発明は、凹凸の少ない端縁を有する回路線からなる配線パターンをエッチングにより形成することができるエッチングレジストを基材シートに印刷することができるグラビア版胴を提供する。 - 特許庁

To provide an abnormality diagnosis method and an abnormality diagnosis system using a pattern library, which can detect at high probability abnormality having no precedent in the past or abnormality having less precedent in the past.例文帳に追加

過去に前例のない異常や過去に前例の少ない異常であっても、この異常を高確率で検知することができるパターンライブラリを用いた異常診断方法および異常診断システムを提供すること。 - 特許庁

After an organic molecular membrane with a thickness of 3 mm or less is formed on a substrate having a pattern cutting off ultraviolet rays, it is irradiated with ultraviolet rays through the substrate to remove a part of the organic molecular membrane.例文帳に追加

紫外光を遮光するパターンを有する基板上に膜厚が３ｎｍ以下の有機分子膜を形成した後に、前記基板を介して紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する。 - 特許庁

The wiring pattern with very fine wire width of 100 nm or less is drawn on various kind of printed boards by an ink jet printer, by using the ink for the ink jet printer containing conductive gold-colloid particles as main component.例文帳に追加

導電性を有する金コロイド粒子を主成分とするインクジェット印刷機用インキを用いて、インクジェット印刷機により、プリント基板上に１００ｎｍ以下の微細線幅の配線パターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a circuit board having high reliability without short circuit or the like between adjacent wiring layers with less variation in wiring width of the wiring layer of the high-density pattern by embedding the wiring layer in an insulating sheet.例文帳に追加

配線層の絶縁シートへの埋設させるとともに、高密度パターンの配線層の配線幅のばらつきが少なく、また隣接する配線層間の短絡などの発生のない高い信頼性の配線基板を得る。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition capable of forming a rectangular pattern, ensuring less residue in an unexposed portion and excellent in light and heat fastness, and also provide a method for producing a color filter using the curable composition.例文帳に追加

矩形なパターン形成が可能であり、未露光部の残渣が少なく、光堅牢性および熱堅牢性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result of calculation, it is necessary to set the relation between an internal stress σ (Mpa) of the membrane and a size L (mm) of the membrane as σ×L≤13 for setting the deviation in position of the circuit pattern to 28 mm or less, without problems concerning exposure transfer.例文帳に追加

計算の結果、回路パターンの位置歪みを、露光転写上問題のない28nm以下にするためには、メンブレンの内部応力σ（ＭPa）とメンブレンサイズＬ（mm）の関係を、σ×Ｌ≦13 とする必要があることが分かった。 - 特許庁

To provide an active matrix type display device excellent in display quality with less flickers and residual images, wherein an insulating layer and an intrinsic semiconductor layer permitting to reduce a process have almost the same pattern.例文帳に追加

工程短縮が可能な絶縁層と真性半導体層が略同一パターンを有する、フリッカや残像の少ない優れた表示品質のアクティブマトリクス型表示装置を提供することが、本発明の目的である。 - 特許庁

Moreover, when it is discriminated that the stop time ta is 25 seconds or more and less than 30 seconds (S132: Yes), the stop message M1 and an erase execution message M3 indicating that special pattern start storage is erased are displayed.例文帳に追加

また、停止時間ｔａが２５秒以上３０秒未満であると判定すると（Ｓ１３２：Ｙｅｓ）、停止メッセージＭ１と、特別図柄始動記憶が消去されることを示す消去実行メッセージＭ３を表示する。 - 特許庁

In this constitution, since a process constant in a contraction projection optical system can be reduced to 0.3-0.4, resolution performance can be raised as compared with the prior art, and the fine pattern with a line width of 150 nm or less can be drawn.例文帳に追加

この構成では、縮小投影光学系におけるプロセス定数を０．３〜０．４と小さくできるため、解像性能を従来よりも高めることができ、線幅１５０ｎｍ以下の微細なパターンを描画できる。 - 特許庁

An ESR of the multilayer ceramic capacitor 60 is set at 100 mΩ or less and combined resistance of an ESR and the resistance pattern 16 of the multilayer ceramic capacitor 67 is set at no fewer than 1.5 Ω nor more than 20 Ω.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサ６０のＥＳＲは１００ｍΩ以下に設定され、積層セラミックコンデンサ６７のＥＳＲと抵抗パターン１６との合成抵抗は１．５Ω以上２０Ω以下に設定されている。 - 特許庁

To provide a composition for a topcoat which gives a highly fine and highly accurate pattern, especially in immersion lithography, by photolithography using a high-energy line or an electron beam which is an electromagnetic wave with a wavelength of 300 nm or less.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。 - 特許庁

This hydrogen detection element has a constitution formed so as to have the maximum length of 70 μm or less on a catalyst metal film pattern region provided on the same plane on a transparent substrate or on a metal oxide.例文帳に追加

透明基板上もしくは金属酸化物上の同一平面上に設けられた触媒金属膜パターン領域における最大長さを７０μｍ以下として形成した水素検出素子を構成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper for an optical information recording medium, by which the stamper can be formed with less defects and at low cost without damaging a minute groove pattern formed on a lower layer and having the size of an exposure beam spot diameter or below.例文帳に追加

下層に形成された露光ビームスポット径以下の微細溝パターンを損なうことなく、かつ低欠陥・低コストでスタンパ化することができる光情報記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can correctly measure a wiring shape and a film thickness and a film quality of a wiring interlayer film in a monitor mark formation region which has less deviation with a function element formation region, and correctly measure overlay deviation between a lower layer pattern and an upper layer pattern in the monitor mark formation region.例文帳に追加

機能素子形成領域との乖離が少ないモニター用マーク形成領域において、配線形状並びに配線層間膜の膜厚・膜質を正確に計測し、かつモニター用マーク形成領域における下層パターンと上層パターンとの重ね合わせずれの正確な測定が可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure mask, which includes a plurality of mask portions for forming wiring lines, the mask portions arranged parallel to one another and each having a width equal to or less than the minimum line width dimension determined by the resolution of an exposure apparatus, and which can give a wiring pattern made of a resist material having the same height while preventing the pattern from partially thinning.例文帳に追加

露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

An electrode configured of the aluminum pattern layer is formed on one face of a transparent base material, and the thickness of the oxide coating of aluminum on the opposite side face of at least the transparent base material side of the aluminum pattern layer is set to 13 Å or less so that it is possible to provide an electrode film for a touch panel and a touch panel using the electrode film.例文帳に追加

透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であるタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムを用いたタッチパネル。 - 特許庁

A reception control part 23 determines the number of data bits by which a bit synchronization pattern arranged at the head of data demodulated by a demodulation control part 24 matches to a synchronization pattern which itself holds, and when the matched data is less than the prescribed number of bits, outputs a reset signal to a radio demodulation part 22.例文帳に追加

受信制御部２３は、復調制御部２４によって復調されたデータの冒頭に配置されているビット同期パターンと自身が保持している同期パターンとが一致するデータビット数を判定し、その一致データが所定ビット数未満であった場合はリセット信号を無線復調部２２に出力する。 - 特許庁

The processor is also configured such that if the determined amount of time to complete a current hold orbit is less than or equal to the hold departure time, maintain the aircraft flying in the holding pattern and determine an amount of time by which to shorten the next orbit to exit the holding pattern at the hold departure time.例文帳に追加

プロセッサはまた、現在の待機軌道を完了するための決定された時間量が、待機離脱時刻以下である場合、航空機はホールディングパターン中の飛行を維持し、また待機離脱時刻にホールディングパターンを出るように次の軌道を短縮するための時間量を決定するようにさらに構成される。 - 特許庁

The cathode layer 17 is equipped with an inner cathode layer 17a formed by vacuum depositing a cathode material having a work function not more than 3.5 eV in light emitting pattern and an outer cathode layer 17b formed by depositing a cathode material having a work function not less than 4 eV on the inner cathode layer 17a in a wiring pattern.例文帳に追加

陰極層１７が、仕事関数が３．５ｅＶ以下の陰極材料によって発光パターンに蒸着された内側陰極層１７ａと、仕事関数が４ｅＶ以上の陰極材料によって内側陰極層１７ａ上に配線パターンを形成して蒸着された外側陰極層１７ｂとを備えてなる。 - 特許庁

When detecting that a count switch for detecting an entry to a big winning port is turned on while the values of a first special pattern process flag and a second special pattern process flag are less than 5 (while a big winning game is not performed), a microcomputer for game control transmits an abnormal entry reporting specifying command.例文帳に追加

遊技制御用マイクロコンピュータは、第１特別図柄プロセスフラグおよび第２特別図柄プロセスフラグの値が５未満であるとき（大当り遊技が行われていないとき）に、大入賞口への入賞を検出するカウントスイッチがオンしたことを検知すると、異常入賞報知指定コマンドを送信する。 - 特許庁

Consequently, the number of magnet blocks is decreased to three while five poles of a magnetic force pattern M1 are maintained (i.e. without changing the number of poles), and the number of the magnet blocks 20 of the magnet roll 14 is less than that of conventional techniques requiring magnet blocks as many as or more than the poles of the magnetic force pattern.例文帳に追加

それにより、磁力パターンＭ１の極の数を５つに保ったまま（すなわち、極の数を変えることなく）マグネットブロックの数が３つに減らされており、磁力パターンの極と同数若しくはそれ以上のマグネットブロックを必要とした従来技術に比べて、マグネットロール１４のマグネットブロック２０の数が少なくなっている。 - 特許庁

To provide a projection optical system which has the focus position less varied and allows a deep focal depth to be secured and to provide an exposure device and a method of forming a circuit pattern which allow a minute pattern to be faithfully and efficiently formed by providing the projection optical system.例文帳に追加

合焦位置変動が少なく実質的に深い焦点深度を確保することができる投影光学系を提供するとともに、当該投影光学系を備えることで微細なパターンを忠実に且つ効率的に形成することができる露光装置及び回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly practical negative photoresist suitable for lithography using light of ≤220 nm such as ArF excimer laser light as exposure light and having resistance to pattern deformation due to swelling and adhesion to a substrate (a fine pattern is less liable to peel off a substrate) in addition to dry etching resistance and high resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ光等の２２０ｎｍ以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性（微細なパターンが基板から剥がれにくい）を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

The conductive pattern manufacturing method irradiates a laser beam L of an ultrashort pulse whose width is less than 1 picosecond in a predetermined pattern to a light-permeable conductive layer a including an ultrafine inorganic conductive fiber provided in at least one side of an insulating base material 11 via condensing means 42.例文帳に追加

本発明の導電パターンの製造方法は、絶縁性基材１１の少なくとも一方の面に設けられた、極細の無機導電繊維を含む光線透過性導電層ａに、集光手段４２を介してパルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having high resolution, capable of diminishing defects in a resist pattern and failures such as chipping, breaking and short circuit in a circuit formed in an etching or plating step and less liable to generate residue on removal in a resist pattern removing step particularly after electroplating by a semi-additive process.例文帳に追加

高解像性を有し、レジストパターンの欠陥や、エッチング工程またはめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥を低減することができ、特にセミアディティブ工法の電解めっき後のレジストパターン剥離工程における剥離残が発生しにくい感光性樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁

A resin layer of 200 μm or less, an inner layer circuit board having an inner layer circuit pattern for evaluating the insulation and a fluorescent layer are laminated one on top of the other, in the order, and a part of the resin layer is removed to expose terminal parts of the circuit pattern, thereby forming a test piece for testing and evaluating the insulation reliability and its manufacturing method.例文帳に追加

２００μm以下の樹脂層、絶縁性評価用の内層回路パターンを形成した内層回路板及び蛍光性層を、順に積層させ、そして該樹脂層の一部を除去して、該内層回路パターンの端子部分を露出させた、絶縁性信頼評価試験用の試験片及びその作成方法である。 - 特許庁