「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The nozzles are selected on the basis of a breadth of a ruled line on a test pattern or the like.例文帳に追加

ノズルの選択は、テストパターン上の罫線の幅等に基づいて実行される。 - 特許庁

To properly form a predetermined resist pattern on a resist film for EUV on a substrate.例文帳に追加

基板上のＥＵＶ用レジスト膜に所定のレジストパターンを適切に形成する。 - 特許庁

A diffusion barrier film pattern is formed on a substrate on which a conductive pad is formed.例文帳に追加

導電性パッドが形成された基板上に拡散防止膜パターンを形成する。 - 特許庁

A display pattern for displaying on one screen is determined depending on the number of the display devices.例文帳に追加

表示装置の数に応じて１画面に表示する表示パターンを決定する。 - 特許庁

A switch 7 is mounted on a center wiring pattern on the upper face of a board 6.例文帳に追加

スイッチ７は基板６上面の中央配線パターン上に搭載されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加

本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン１を含む原画パターン１４を設計する工程と、設計された原画パターン１４をグリッド９０上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド９０上に位置づけられたパターンを透明基板１１上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

When receiving no special pattern specification command in setting a decoration pattern performance or contents shown by a fluctuation pattern command are not matched with contents shown by the special pattern specification command, a display control CPU determines that some nonconformity occurs in transmitting/receiving the control command and determines the stop pattern of the decoration pattern based on the fluctuation pattern command.例文帳に追加

飾り図柄演出設定処理において、表示制御用ＣＰＵは、特別図柄指定コマンドを受信していない場合、または、変動パターンコマンドが示す内容と特別図柄指定コマンドが示す内容とが合致していなかった場合には、コマンドの送受信についての不具合が生じたと判定し、変動パターンコマンドにもとづいて飾り図柄の停止図柄を決定することにする。 - 特許庁

At the time of stopping the fluctuation of the patterns 20a to 20c by a command from a controller, the pattern information display controller displays pattern information such as the name of the ready pattern of pattern combination to be displayed on the pattern display part, the emergence rate of pattern combination, the expectation of pattern combination concerning the combination of the patterns 20a to 20c.例文帳に追加

パターン情報表示制御装置は、制御回路３０からの指令により第１〜第３特別図柄２０ａ〜２０ｃの変動を停止させたとき、第１〜第３特別図柄２０ａ〜２０ｃの組合せに関するパターン情報、例えば図柄表示部に表示される図柄組合せのリーチパターンの名称、当該図柄組合せの出現率、当該図柄組合せの期待度などを表示する。 - 特許庁

When the capacitor is mounted on a substrate, a wiring pattern on the substrate is positioned on a side of a component surface.例文帳に追加

コンデンサを基板上に実装する際に、基板上の配線パターンを部品面側に配置する。 - 特許庁

The family crest, Kikusui-mon (pattern of floating flowers on a stream) and the characters of emblem on the flag "Wrong, Right, Law, Power, Heaven" are engraved on the tower. 例文帳に追加

塔には家紋の菊水紋、旗印の「非理法権天」の文字が刻まれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A representative configuration in the conductive pattern forming apparatus comprises a dispenser for forming a conductive pattern by jetting out a conductive ink; a transfer member for transferring the conductive pattern onto the substrate while the conductive pattern is formed on the surface by the dispenser; and a heating means for curing the conductive pattern by heating the transfer member in the conductive pattern forming apparatus for forming the conductive pattern on the substrate.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン形成装置の代表的な構成は、基板に導体パターンを形成する導体パターン形成装置であって、導電インクを噴射して導体パターンを形成するディスペンサーと、該ディスペンサーにより表面に導体パターンを形成され、該導体パターンを前記基板に転写する転写部材と、該転写部材を加熱して前記導体パターンを硬化させる加熱手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device includes a first semiconductor pattern limiting active regions, a second semiconductor pattern isolated and disposed on the first semiconductor pattern, a gate electrode which is separated from the second semiconductor pattern and is disposed on the first semiconductor pattern therebetween and then insulated, and a stress generating pattern, filling the clearance between the insulated gate electrode and second semiconductor pattern.例文帳に追加

ここに開示される半導体素子は活性領域を限定する第１半導体パターンと、前記第１半導体パターン上に離隔されて配置された第２半導体パターンと、前記第２半導体パターンと離されて、これらの間の第１半導体パターン上に配置され絶縁されたゲート電極と、前記絶縁されたゲート電極及び前記第２半導体パターンの間の隙間を満たす応力発生パターンとを含む。 - 特許庁

A game control device simultaneously controlling the progresses of first and second special pattern games on a display device detects the entering of the game ball in a special pattern start hole via a single special pattern start sensor and divides the detection result as special pattern start storages of the first and second special pattern games.例文帳に追加

第一、第二の特図ゲームの進行を表示装置上で同時に制御可能な遊技制御装置は、一つの特図始動センサを介して遊技球の特図始動口への入賞を検知し、この検知結果を第一、第二の特図ゲームの特図始動記憶として振り分ける。 - 特許庁

A line object 01 having the prescribed thickness is moved to the periphery of a three-dimensionally displayed pattern 02(a) on a special pattern display device 6 in a special pattern game while hiding a part of the displaying pattern 02(a), and is renewed to a new pattern 02(b).例文帳に追加

特図ゲームにおける特別図柄表示装置６上の立体的に表示された図柄０２（ａ）の周囲に、所定の厚みを有するラインオブジェクト０１を、表示されている図柄０２（ａ）の一部を隠しつつ移動させることにより、新たな図柄０２（ｂ）への更新を行う。 - 特許庁

In the user side sewing system 2, it is instructed for pattern editing (S10) and the server side computer 6 performs the editing processing of pattern data (pattern display data and pattern sewing data) concerning the embroidery pattern of the object to be sewed, which are read from the HD 78, based on the instruction (S29).例文帳に追加

ユーザ側縫製システム２で模様編集の指示を行うことができ（Ｓ１０）、サーバ側コンピュータ６では、その指示に基づいて、ＨＤ７８から読出された縫製対象の刺繍模様の模様データ（模様表示データと模様縫製データ）に編集処理（Ｓ２９）が施される。 - 特許庁

When a mask made of a resist layer is formed, a laminated resist pattern 110 having a T-shaped section is formed on the patterning film, where the laminated resist pattern 110 includes a lower-layer resist pattern 111 and an upper-layer resist pattern 112 having plane area larger than that of the lower resist pattern 111.例文帳に追加

レジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜の上に、下層レジストパターン１１１と、下層レジストパターン１１１の平面積よりも大きい平面積を有する上層レジストパターン１１２とを含む断面Ｔ形状の積層レジストパターン１１０を形成する。 - 特許庁

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.例文帳に追加

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁

When detection pattern data is obtained by a pattern detecting section 44, a dot extracting section 46 and a mask processing section 48, a data extracting section 42 for extracting pattern data based on a pattern image according to copy control information stores the detected pattern data in a buffer memory 56.例文帳に追加

複写制御情報に応じたパターン画像に基づいたパターンデータを抽出するパターンデータ抽出部４２では、パターン検出処理部４４、網点抽出処理部４６及びマスク処理部４８によって検出パターンデータを得ると、この検出パターンデータをバッファメモリ５６に蓄積する。 - 特許庁

To provide a luminescence pattern reader and a luminescence pattern reading method for surely reading a luminescence pattern even from a medium from which the luminescence pattern can not be read due to strong emission of a breach or the like included in the medium on which the luminescence pattern has been printed.例文帳に追加

発光パターンが印刷された媒体に含まれるブリーチ等が強く発光することで発光パターンを読取ることのできかなった媒体に対しても、確実に発光パターンを読取ることのできる発光パターン読取装置および発光パターン読取方法を提供する。 - 特許庁

In the variable pattern distributing table L1, from which variable patterns are selected when specific big win states are generated, a selection rate for the pattern stop sequence pattern based on the different pattern stop sequence from the normal pattern stop sequence is set high, so that it is selected at a high ratio.例文帳に追加

即ち、特定の大当り状態が生起される際に変動パターンが選択される変動パターン振分テーブルＬ１には、通常の図柄停止順序とは異なる図柄停止順序に基づく図柄停止順序パターンが高い割合で選択されるように、その選択率を高く設定する。 - 特許庁

In this exposure method for transferring the pattern to the material to be exposed by exposure in pattern shape, the quality of the pattern imparting member for giving the pattern which is to be transferred is controlled based on the evaluation (for example, evaluation reference A) of the edge roughness of the pattern formed by exposure.例文帳に追加

パターン状に露光することにより被露光材にパターン転写を行う露光方法において、露光により形成されるパターンのエッジラフフネスの評価（たとえば評価基準Ａ）に基づいて、転写すべきパターンを与えるパターン付与部材の品質の管理を行う。 - 特許庁

In order to obtain a resist pattern of a first exposure pattern in a proximity effect correction process 3, the proximity effect is corrected in respect with the first exposure pattern based on the distribution function of exposure intensity to obtain a second exposure pattern whose pattern size is further changed and to obtain exposure data.例文帳に追加

近接効果補正工程３では、該第１露光パターンのレジストパターンが得られるように、露光強度分布関数に基づき該第１露光パターンに対し近接効果補正して、パターンサイズをさらに変更した第２露光パターンを得るとともに露光量のデータを得る。 - 特許庁

A determination part compares an output pattern of the phase comparison signals LAG(n), LEAD(n) corresponding to each bit of a detection data pattern with a predetermined comparison object pattern, and determine whether one bit of the equalization signal EQDATA is longer or shorter than one cycle of a sampling clock CK based on whether the output pattern is matched with the comparison object pattern.例文帳に追加

判定部は、検出データパターンの各ビットに対応する位相比較信号ＬＡＧ（ｎ），ＬＥＡＤ（ｎ）の出力パターンを所定の比較対象パターンと比較し、合致するか否かに基づいて、等化信号ＥＱＤＡＴＡの１ビットがサンプリングクロックＣＫの１周期よりも長いか短いかを判定する。 - 特許庁

A multilayer printed wiring board 100 is provided with a signal layer 35 which has a wiring pattern 35A, a signal layer 45 which has a land pattern 45A, an IC chip 41 which is mounted on the lad pattern 45A and is positioned between the land pattern 45A and the wiring pattern 35A, a ground layer 25, and a power source layer 55.例文帳に追加

多層プリント配線板１００は、配線パターン３５Ａを有する信号層３５と、ランドパターン４５Ａを有する信号層４５と、ランドパターン４５Ａに搭載され、ランドパターン４５Ａと配線パターン３５Ａとの間に位置するＩＣチップ４１と、グランド層２５と、電源層５５とを有する。 - 特許庁

A general control CPU determines an advance notice pattern based on an advance notice pattern distribution table associated with a specified variation pattern when several kinds of performance patterns are not associated with a variation pattern designated by an input variation pattern designation command.例文帳に追加

統括制御用ＣＰＵは、入力した変動パターン指定コマンドにより指定された変動パターンに、演出実行パターンが複数種類対応付けられていない場合には、指定された変動パターンに対応付けられた予告パターン振分テーブルに基づき予告パターンを決定する。 - 特許庁

On the second surface 32, a thick film virtual pattern section 40 of the same pattern as the pattern of the texture pattern section 11 in which transmission identification of color printing is possible is formed by printing at the same position as the position where the texture pattern section 11 is formed across the base material sheet 30.例文帳に追加

第２の面３２に、基材シート３０を挟んで、地柄模様部分１１が形成されている位置と同位置に、地柄模様部分１１と同じ模様の、有色印刷を透過識別可能な厚膜の仮想模様部分４０が印刷によって形成されている。 - 特許庁

Further, the general control CPU determines an advance notice pattern based on an advance notice pattern distribution table associated with a determined performance pattern when the several kinds of performance patterns are associated with the variation pattern designated by the input variation pattern designation command.例文帳に追加

また、統括制御用ＣＰＵは、入力した変動パターン指定コマンドにより指定された変動パターンに、演出実行パターンが複数種類対応付けられていた場合には、決定された演出実行パターンに対応付けられた予告パターン振分テーブルに基づき予告パターンを決定する。 - 特許庁

The disclosed manufacturing method for the PDP substrate comprises processes of: applying a paste 1 for forming a pattern to an irregular plate 50 which is a transfer mold of a partition pattern; hardening the paste 1 for forming the pattern; and forming an electrode pattern 3 on the hardened paste 1 for forming the pattern.例文帳に追加

開示されるＰＤＰの基板の製造方法は、隔壁パターンの転写型である凹凸版５０にパターン形成用ペースト１を塗布する工程と、パターン形成用ペースト１を硬化する工程と、硬化されたパターン形成用ペースト１上に電極パターン３を形成する工程とを有している。 - 特許庁

When an abnormality exists in a variable pattern indicating command and a pattern indicating command outputted from the main CPU, a sub-CPU displays letters of 'error' on a special pattern display 32b after receiving a pattern indicating command and a mark '?' after receiving an all pattern stop command.例文帳に追加

サブＣＰＵは、メインＣＰＵから出力された変動パターン指定コマンドおよび図柄指定コマンドに異常がある場合は、図柄指定コマンドを受信後に特別図柄表示器３２ｂに「エラー」の文字を表示し、全図柄停止コマンドを受信したときに全図柄は「？」を表示する。 - 特許庁

At least one part of the 1st patterns 53 and 55 and at least one part of the 2nd pattern 54 are a common pattern, and the common pattern 44 and non-common patterns 45a and 45b different from the common pattern 44 are formed as the 1st patterns 53 and 55 and the 2nd pattern 54 on the mask M.例文帳に追加

第１パターン５３，５５の少なくとも一部と第２パターン５４の少なくとも一部とは共通のパターンであり、マスクＭに、第１パターン５３，５５と第２パターン５４として、共通パターン４４と共通パターン４４とは異なる非共通パターン４５ａ，４５ｂとを形成する。 - 特許庁

When a second stationary symbol finally displayed on the demonstration pattern display parts D1-D3 is a probability variable pattern, all the variable patterns become the second stationary pattern by pressing the switch and the pattern to be settledly displayed may be noticed before stopping the demonstration pattern display parts D1-D3.例文帳に追加

デモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３に最終的に表示される第２停止図柄が確率変動図柄の場合、スイッチ押下で変動図柄が第２停止図柄のみとなり、デモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３の停止前に確定表示される図柄が予告されることがある。 - 特許庁

The electrode structure may include: a substrate having an insulating layer; a first conductive pattern containing a metal for filling the insulating layer; a second conductive pattern which extends from the first conductive pattern and contains a metal oxide; and a third conductive pattern disposed on the second conductive pattern.例文帳に追加

電極構造体は絶縁層を有する基板、絶縁層を埋め立てる金属を含む第１導電パターン、第１導電パターンから延びて金属酸化物を含む第２導電パターン、そして第２導電パターン上に配置される第３導電パターンを含むことができる。 - 特許庁

With respect to hazardous spot information on the pattern of a semiconductor device, the difference between first pattern data corresponding to a case, where no dangerous spot exists in the pattern and second pattern data corresponding to another case, where a dangerous spot exists in the pattern is visually displayed as feature data indicating the feature of the hazardous spot.例文帳に追加

半導体装置のパターンに関しての危険箇所情報であって、同じパターンについて、危険な箇所がない場合に対応した第１のパターンデータと、危険箇がある場合に対応した第２のパターンデータとの差を、前記危険箇所の特徴を示す特徴情報として可視化して表示する。 - 特許庁

The light-shielding pattern 7 (or 5), the mesh pattern 4 (or 2) having electromagnetic wave shielding function and the display electrode 15 are formed as a fine-line pattern formed of conductive thin film or a plating lamination pattern made by laminating a plating layer on the fine-line pattern formed of the conductive thin film.例文帳に追加

遮光パターン７（または５）、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）、及び表示電極１５は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンである。 - 特許庁

When a variation pattern random number value is newly stored, the game state of when the variation pattern random number value is referred to in a variation pattern determining processing is determined in advance, and a variation pattern is determined in advance based on the previously determined game state and the variation pattern random number value.例文帳に追加

変動パターン用乱数値が新たに記憶されたときには、その変動パターン用乱数値が変動パターン決定処理で参照されるときの遊技状態を事前に判定し、事前に判定された遊技状態と変動パターン用乱数値とに基づいて、事前に変動パターンを決定する。 - 特許庁

The mark pattern portion 3 is present as adjacent to the semiconductor chip pattern portion 1 in the chip pattern layout area 2, and therefore, a theoretical yield of semiconductor chips on a wafer can be increased compared to a photomask having a mark pattern portion 3 outside and apart from the chip pattern layout area 2.例文帳に追加

マークパターン部３は、チップパターン配置領域２内で半導体チップパターン部１に隣接して存在するので、マークパターン部３をチップパターン配置領域２の外部に離隔して設ける場合に比べて、ウエハ上の半導体チップの理論収量を増やすことができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having improved optical characteristics, and to provide a pattern forming apparatus and forming method which enable distortion of an image provided on the pattern forming material to be suppressed and a permanent pattern free from defects, such as a wiring pattern to be efficiently formed with high definition.例文帳に追加

光学特性を改善したパターン形成材料を提供し、該パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成装置及び形成方法の提供。 - 特許庁

The transfer pattern formed in the magnetic recording medium 47 is evaluated by a transfer accuracy evaluating apparatus 95, the prescribed magnetic pattern (target pattern) based on the magnetic information is compared with a transfer pattern (result pattern) formed actually in the magnetic recording medium 63, and information of transfer error quantity is obtained.例文帳に追加

磁気記録媒体６７に形成された転写パターンを転写精度評価装置９５で評価し、磁気情報に基づいた所定の磁気パターン（目標パターン）と、実際に磁気記録媒体６３上に形成された転写パターン（結果パターン）とを比較して、転写誤差量の情報を得る。 - 特許庁

A mask pattern 1a having a plurality of pattern forming parts 2 and light-shielding parts 3 arranged into a mosaic is formed in one edge part of an exposure mask, and a mask pattern 1b having the pattern forming parts 2 and the light-shielding parts 3 arranged in the complementary relation with the mask pattern 1a is formed on the other edge of the mask.例文帳に追加

露光マスクの一方の縁部に、パターン形成部２と遮光部３を複数モザイク状に配置したマスクパターン１ａを形成し、その他方の縁部には、パターン形成部２と遮光部３をマスクパターン１ａと相補関係となるように配置したマスクパターン１ｂを形成する。 - 特許庁

Further, the inner covers 10, 11 have functions of a power supply circuit and a control circuit or the like, have a ground conductor solid pattern 12 on inner layers, a ground pattern 13 connected to the ground conductor solid pattern 12 to front layers, and the ground conductor solid pattern 12 reaches a conductive state to the case 2 via the ground pattern 13.例文帳に追加

また内カバー１０、１１は、電源・制御回路等の機能を有するとともに、内層に地導体ベタパターン１２、表層に地導体ベタパターン１２に繋がるグランドパターン１３を有し、グランドパターン１３を介して地導体ベタパターン１２とケース２とが導通状態となる。 - 特許庁

When losing patterns for changing the variation pattern table (special pattern J) are stopped and displayed on a special pattern 1 or special pattern 2 display device in a latent probability-variation game state, a Pachinko machine 100 changes a group of reference tables to a group of 000 numbered variation pattern tables of a probability-variation defined type.例文帳に追加

パチンコ機１００は、潜伏確変遊技状態で変動パターンテーブル変更用はずれ図柄（特図Ｊ）が特図１または特図２表示装置に停止表示された場合に、参照テーブル群を確変確定系の０００番台の変動パターンテーブル群に変更する。 - 特許庁

In a flat display device provided with a conductive pattern, the method for forming a conductive pattern includes: a step of preparing a base member; a step of forming recessed portions having same pattern as the conductive pattern on the base member; and a step of coating conductive material in the recessed portions to form the conductive pattern.例文帳に追加

導電パターンを備える平板表示装置において、ベース部材を用意するステップと、ベース部材に導電パターンと同じ形態の凹部を形成するステップと、凹部に導電性物質を塗布して導電パターンを形成するステップと、を含む導電パターンの形成方法である。 - 特許庁

Based on pattern position information and a focusing measure at each focal plane S of each pattern, a pattern movement angle calculation section 24 calculates an incident angle of the main beam of pattern light into a CCD 41 concerning each pattern, as a parameter representing reliability of a measurement result of the shape of the object 12.例文帳に追加

パタン移動角度算出部２４は、各パタンの焦点面Ｓごとの合焦測度およびパタン位置情報に基づいて、各パタンについて、パタン光の主光線のＣＣＤ４１への入射角度を、被検物１２の形状の測定結果の信頼度を示すパラメータとして算出する。 - 特許庁

A collating device 4 collates the smoothed projection pattern with a template pattern and detects, as the presence position of the object, a position on the smoothed projection pattern having a high correlation with the template pattern that matches or approximates the smoothed projection pattern, at location where the object exists.例文帳に追加

照合装置４は、平滑化した射影パターンとテンプレートパターンとを照合し、対象物が存在した地点の平滑化した射影パターンと一致あるいは近似するテンプレートパターンとの相関が高い平滑化した射影パターン上の位置を対象物の存在位置として検出する。 - 特許庁

In an entry compressing/extending method in a packet relay device which performs flow identification based on entries in a flow table, it is determined whether a new pattern to be newly registered is an incremental pattern with respect to a flow identification pattern of an entry; and if it is the incremental pattern, a mask pattern of the entry is changed.例文帳に追加

フローテーブルのエントリに基づき、フロー識別を行うパケット中継装置におけるエントリ圧縮伸長方法において、新たに登録する新規パターンがエントリのフロー識別パターンに対しインクリメンタルパターンであるか判定し、インクリメンタルパターンであった場合、エントリのマスクパターンを変更する。 - 特許庁