| 意味 | 例文 |
point processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1402件
An array substrate has wiring and circuit elements formed by a polysilicon process on a transparent substrate of glass etc., wherein an analog video signal supply section 11 and an analog video signal supply part 12 are arranged point-symmetrically, and a scan line driving part 21 and a scan line driving part 22 are also arranged point-symmetrically.例文帳に追加
ガラスなどの透明な基板上に、ポリシリコンプロセスにより配線や回路素子を形成したアレイ基板において、アナログ映像信号供給部11とアナログ映像信号供給部12の配置を点対称とし、併せて走査線駆動部21と走査線駆動部22の配置も点対称とした構成とする。 - 特許庁
The molding device constituted by interposing a metallic layer 3 consisting of metal having a melting point lower than the melting point of the resin 7 for molding substrates between the opposite surfaces of the metal mold 10 and the stamper 1 arranged in the prescribed position within the metal mold 10 for transferring ruggedness to the optical disk substrate is used in a molding process step for the optical disks.例文帳に追加
光ディスクの成形工程において、金型10と、光ディスク基板に凹凸を転写するために金型10内の所定位置に配置されたスタンパ1との対向面間に、基板成形用樹脂7の融点より低融点の金属からなる金属層3を介在させた成形装置を用いる。 - 特許庁
The manufacturing method of a membrane electrode assembly is constituted of an aromatic hydrocarbon group polymer electrolyte membrane, and anode and a cathode includes a process in which the anode and/or the cathode are made to contact with a solution containing an organic solvent, with a boiling point 70°C or higher under atmospheric pressure, and an acid in a temperature 70°C or higher and lower than the boiling point of the organic solvent.例文帳に追加
芳香族炭化水素系高分子電解質膜とアノードとカソードからなる膜電極複合体の製造方法であって、アノードおよび/またはカソードを、大気圧の沸点が70℃以上の有機溶媒と酸を含む溶液に、70℃以上、該有機溶媒の沸点以下の温度で接触させることで解決できる。 - 特許庁
In a measurement process of a traffic flow, a feature point specification part 8 specifies constitution points of an edge fitting to the range of the direction registered in the extraction range storage part 16 from feature points on the reference image extracted by a feature point extraction part 7, as a processing target of three- dimensional measurement.例文帳に追加
交通流の計測処理時には、特徴点特定部8は、特徴点抽出部7により抽出された基準画像上の特徴点の中から、前記抽出範囲記憶部16に登録された向きの範囲に適合するエッジの構成点を3次元計測の処理対象として特定する。 - 特許庁
A lithographic simulation process is described, where each irradiation source point in a preselected group of irradiation source points at a pupil plane of an irradiation source is represented by one or more variable parameters, and at least some of the variable parameters characterize a polarization state at the radiation source point.例文帳に追加
照射源の瞳面における照射源ポイントのあらかじめ選択された群の各照射源ポイントが、1つまたは複数の可変パラメータによって表され、可変パラメータのうちの少なくともいくつかが、照射源ポイントにおける偏光状態を特徴づける、リソグラフィのシミュレーションプロセスが説明される。 - 特許庁
When the respective objects obj are encoded, temporal distortion due to frame omission, corresponding to the encoding rate and the spatial distortion depending on quantization precision are balanced, and the encoding process can be performed at the operation point where visual characteristics are optimum.例文帳に追加
また各obj の符号化の際に符号化率に応じたコマ落しによる時間的歪みと量子化精度による空間的歪みとのバランスがとれ、視覚特性上最適な動作点で符号化処理が行える。 - 特許庁
By performing (b)-(e) operations (unit thinning process), the thickness of the slab 11 is reduced by about 0.11 nm, which varies the resonance wavelength of the point defect resonator 13 to shorter wavelength by 0.39 nm (if designed for 1.55 μm band).例文帳に追加
(b)〜(e)の操作(単位減厚工程)を行うことにより、スラブ11の厚さは約0.11nm減少し、それにより点状欠陥共振器13の共振波長は0.39nm(1.55μm帯用に設計された場合)だけ短波長側に変化する。 - 特許庁
The apparatus notifies that it is abnormal when a correlative peak value Ph does not satisfy a previously set lower limit value Phth in a search process of the corresponding point, and stops measurement of the three-dimensional position thereafter.例文帳に追加
この対応点の探索過程において、相関ピークの値Phが予め定められている下限値Phthに満たない場合、異常である旨を通知すると同時に、以降の3次元位置の計測を中止する。 - 特許庁
The manufacturing method has a process for forming the accepting layer by coating a coating liquid including the salt of 2-mercaptobenzothiazol as the antidiscoloring agent and a filler, the pH of the isoelectric point of which is ≤7, and then drying.例文帳に追加
製造方法は、変色防止剤としての2−メルカプトベンゾチアゾールの塩と、等電点のpHが7以下であるフィラーとを含む塗布液を塗布し、乾燥させて、前記受容層を形成する工程を有する。 - 特許庁
In a step SC4, by allowing the character C of the imaginary training partner to generate sound that differs from the guide in a process where the key pressing guide is conducted based on the music data selected by the student, the student is allowed to point out the error.例文帳に追加
ステップSC4では生徒が選択した曲データに基づき押鍵案内を行う過程で、仮想的な練習相手のキャラクタCが案内とは異なる押鍵音を発音させ、その間違いを生徒に指摘させる。 - 特許庁
In the terminal point detecting device in semiconductor manufacture which has a sensor light condensing cylinder 11 protruded from a sensor main body 10, only the sensor light condensing cylinder 11 is fitted to a process chamber, and the sensor main body is made detachable.例文帳に追加
センサ本体10に突設されるセンサ集光筒11を有する半導体製造における終点検出装置において、前記センサ集光筒11のみをプロセスチャンバに適合させて着脱可能にする。 - 特許庁
To eliminate the need for a heater of a large size for a process of heating a glass-base material to a softening point of 400 to 500°C or above when the sealing of a low-pressure double-layered glass sheet is performed by using the glass-base material.例文帳に追加
ガラス系材料を用いて低圧複層ガラスの封止を行う場合、ガラス系材料を軟化点の400〜500℃以上に加熱するプロセスがあり、そのための大型の加熱装置を必要とする。 - 特許庁
In upshift, at a point of time t2 when a change gear ratio (r) monitored at a process of gear shifting is synchronized with a reference change gear ratio R2' lower than a change gear ratio R2 before gear shifting, control of an inertia phase is started.例文帳に追加
アップシフトにおいて、変速の過程においてモニタリングされている変速比rが、変速前の変速比R2 よりも小さい基準変速比R2 ’と同期した時点t2 に、イナーシャ相制御を開始する。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a polyester film, which is excellent in mechanical properties, bondable with a metal plate, free from whitening even when heat treated near or above the fusing point of the film and excellent in design characteristics.例文帳に追加
機械的特性に優れ、金属板との貼り合わせが可能であり、フィルムを融点付近または融点以上に熱処理しても白化しない意匠性に優れるポリエステルフィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁
Simplified models are automatically generated out of 3D models built of detailed polygons, and, as the distance from the viewing point increases, more 3D models are replaced by simplified models though within the limits where no visual deterioration occurs in the rendering process.例文帳に追加
詳細なポリゴンで構成される3次元形状モデルから簡略化モデルを自動生成し、レンダリング時に視覚的劣化を伴わない範囲で、視点から遠方にいくに従って、簡略化したモデルに置き換える。 - 特許庁
When descendant relation retrieval processing is required, a required processing part 140 indicates a possibility that the correct process result may not be obtained, if there is the administration ID specified as a point of origin in the descendant relation DB 110.例文帳に追加
派生関係検索処理を要求されると要求処理部140は、起点として指定された管理IDが派生関係DB110にあれば、正しい処理結果が得られない可能性がある旨を回答する。 - 特許庁
To provide an optical glass for mold press forming having 1.50-1.60 of refractive index (nd), 55 or more of Abbe's number (νd), 650°C or less of softening point, high weather resistance, and hard to devitrify in molding process.例文帳に追加
屈折率(nd)が1.50〜1.60、アッベ数(νd)が55以上、軟化点が650℃以下、成形工程中に失透し難くしかも高い耐候性を兼ね備えたモールドプレス成形用光学ガラスを提供することである。 - 特許庁
In the case of preparing an alternative area, if capacity to be used for alternative process in the alternative area is insufficient, the selected area such as the additional writing point in the main data area is used as the alternative destination area.例文帳に追加
また、交替領域を設ける場合において、交替領域に交替処理に利用できる容量が不足した場合に、主データ領域内で追記ポイント等、選択した領域を交替先領域として用いる。 - 特許庁
To provide the pen point of a writing utensil, the writing end of which is suppressed from being worn by a simple constitution, the writing process of which is possible by lines with a stable line width, and the writing touch of which is kept unchanged.例文帳に追加
簡単な構成で、ペン先の筆記端が摩耗するのを抑制し、安定した幅の線で筆記することができ、筆記の感触を変化させることなく維持することができる筆記具のペン先を提供する。 - 特許庁
The timing in a light emission period of illumination lamp for the camera to be exposed is selected in such a way that a process of selecting a phase point to be exposed to a part capable of most securing an exposure amount, is executed immediately after the strat of the control.例文帳に追加
また、カメラが露光する照明の発光周期におけるタイミングは最も露光量を確保できる部分を露光するように位相ポイントを選択する処理を制御開始直後に実行する。 - 特許庁
To facilitate a setting operation in a displacement sensor when conducting a measuring process based on a feature point or a plurality of local areas on a distribution of height with respect to a direction along a line beam obtained by a photographing operation.例文帳に追加
変位センサにおいて、撮像して得られたラインビームに沿う方向に対する高さの分布上の複数の局所領域または特徴点に基づく計測処理を実行する際の設定作業を簡易化する。 - 特許庁
The temperature threshold Ts is a critical temperature at which a required fixing target temperature is ensured to perform a process that needs fixing, after processing for the number of remaining unprocessed sheets N is finished at the point in time.例文帳に追加
温度閾値Tsは、その時点で未処理の残り枚数Nの処理を終え、その後、定着の必要なプロセスの処理を行う時に必要な定着目標温度を確保できると推定される限界温度である。 - 特許庁
Through the recognition of the currently broadcast program from current time information, display is performed, after performing a certain process to those programs; and a point that indicates the current time is displayed in an area that displays a time zone with a width.例文帳に追加
また、現在時刻情報から、現在放送中の番組を認識し、それらの番組に対して、ある加工を施して表示したり、時間帯を幅をもって表示するエリアに、現在時刻となるポイントを表示する。 - 特許庁
When information is inputted for exchanging a premium into a POS terminal in a condition a member card is set, a subtraction process for the number of medals and the point number is automatically executed.例文帳に追加
景品交換する際に、POS端末において、会員カードをセットした状態で、交換する景品に関する情報を入力すると、メダル数及びポイント数の減算処理が自動的に行われるようにする。 - 特許庁
Then the forward vehicle candidate which is most firstly specified from a starting time point of integration, is selected as the forward vehicle of a subject to be specified among each of forward vehicle candidates decided by a plurality of numbers of the basic process.例文帳に追加
そして、複数回の基本処理により決定された各前方車両候補のうち、積算開始時点から最も早く特定された前方車両候補を、特定対象の前方車両として選択する。 - 特許庁
In addition, a nip load of a transfer roll 3a is received by a turn supporting point 5d of the turn supporting unit 5 and a moment is given to the direction to turn the turn supporting unit 5 to the side of an apparatus main body 4 in a setting process of a transfer roll 3a.例文帳に追加
また、転写ユニット3のセット過程で、転写ロール3aのニップ負荷を回動支持ユニット5の回動支点5dで受け、回動支持ユニット5を装置本体4側へ回動させる方向へモーメントを与える。 - 特許庁
For a luminance signal whose peak value indicating a focal point cannot be detected, i.e., a luminance signal whose maximum value is under a predetermined threshold value, a height measuring process is not performed and corresponding data is deleted instead.例文帳に追加
焦点位置を示すピーク値を検出できない輝度信号、すなわち輝度信号の最大値が所定の閾値以下のものについては、高さ測定処理を行なわずに、その箇所のデータを排除することにした。 - 特許庁
To provide an optimum device which is easy to use and which enables the point of intervention treatment to be directly monitored, even during vessel dilatation if necessary, without the tedious process of changing various catheters.例文帳に追加
場合によっては血管拡張中にもインターベンション治療部位の直接観察を種々のカテーテルの面倒な交換なしに実施することができる簡単に取扱い可能な最適な装置を使用できるようにする。 - 特許庁
The process exhaust gas lead-in ports 60 are mounted inclining axes L2 so that extension lines of the axes L2 intersect the spout flames near or downstream of a convergent point of the spout flames f.例文帳に追加
プロセス排ガス導入ポート60は、その軸線L2の延長線が前記噴出火炎fの収束点近傍またはそれよりも下流側で噴出火炎と交わるように軸線L2を傾斜させて取り付ける。 - 特許庁
This method for producing the cellulose ester film is characterized by spray-adding a fine particle dispersion and then mixing and dissolving at a higher temperature than the boiling point of a main solvent, in a process for dissolving the cellulose ester-based resin in the main solvent.例文帳に追加
セルロースエステルフィルムの製造方法は、セルロースエステル系樹脂を主溶媒に溶解させる工程で、微粒子分散液を噴霧して添加し、添加後、主溶媒の沸点以上の温度で溶解混合する。 - 特許庁
A removal process is carried out thereafter so as to remove the second, third, and fourth layers of the capping structure using an end point detection method such as secondary ion mass analysis detecting the presence of the second layer.例文帳に追加
その後、除去プロセスが、第2の層の存在を検出する2次イオン質量分析などの終点検出方法を使用して、キャッピング層構造の第2、第3、第4の層を除去するために実施される。 - 特許庁
In a reformer 4 connected to the supply point, the fuel is catalytically converted and at least part thereof is converted into carbon monoxide and hydrogen in the existence of water with process heat supplied.例文帳に追加
供給点(5)に接続される改質器(4)において、水の存在下及びプロセス熱が供給される状態において燃料が触媒変換されて少なくとも一部が一酸化炭素及び水素に変換される。 - 特許庁
An integral controller 89 investigates the change of total flow rate of vapor 61 after an optional point of time on the basis of the vapor amount necessary for the respective desorption processes of the adsorption units 55, 82, 83 and the process cycles.例文帳に追加
吸着ユニット55,82,83のそれぞれの脱着工程で必要な蒸気量と工程周期とに基づき、統括コントローラ89は任意の時点以降における蒸気61の総流量の変化を調べる。 - 特許庁
In order both to make the HIPC process more predictable and to simplify the modalities of earlier cash-flow relief, the amount of debt reduction should be determined at the "decision point" on the basis of the situation prevailing at that time. 例文帳に追加
HIPCイニシアティブのプロセスをより予測可能なものとし、資金繰りのより早期の救済を簡素化するために、債務削減額は「決定時点」において、その時の状況に基づいて、決定されるべきである。 - 財務省
To energize an object to be polished to a polishing end point with stable current density distribution and enable the use of a conventional plating apparatus, cleaning apparatus or the like and the execution of production process flow.例文帳に追加
研磨終点まで安定した電流密度分布で被研磨対象への通電を可能とするとともに、従来通りのメッキ装置や洗浄装置等他の装置の使用や製造プロセスフローの実施を可能とする。 - 特許庁
In activation, a process is repeated until t_ml becomes larger than t_0, where temperatures indicated by the temperature sensors are compared, the lowest temperature (t_ml) is selected, and the temperature t_ml is compared with the reference temperature t_0 (for example, freezing point temperature).例文帳に追加
始動時、これらの温度センサが示す温度を比較して、最も低い温度(t_mlとする)を選別し、温度t_mlと基準温度t_0(例えば氷点温度)とを比較する過程を、t_mlがt_0より大となるまで繰り返す。 - 特許庁
In the first process, a contact state at the removing start point of time is set so that the angle θ formed by a normal line 14 on the sheet side and a normal line 15 on the removal side is larger than 90° but below 180°.例文帳に追加
第1工程で、除去開始時点での当接状態として、シート側法線14と除去側法線15との成す角度θが90度より大きく、かつ180度未満となるように当接させる。 - 特許庁
The end point of etching in a process for forming the grooves 10a and 10b is detected by stopping etching with specific count (count four) while counting the change in emission of each of the dielectric films 5-9.例文帳に追加
上記溝10a,10bを形成する工程においてエッチングの終点検出は、各誘電体膜5〜9の発光の変化をカウントして所定のカウント(4カウント)でエッチングを停止させることにより行う。 - 特許庁
A basic information storing unit 40 stores a class of each basic information which is used for calculating required time period for manufacturing process sequentially in a hierarchy according to a progress step at the time point of calculating its required time period.例文帳に追加
基礎情報保持部40は、製作工程の所要期間の計算に用いられる各基礎情報の種別を、所要期間の計算時における工程の進捗段階に応じた順序で階層化して保持する。 - 特許庁
To present a driver with the instruction that it is the road to travel for the first time and the information on the road, in the case where the road after the turning is the road to travel for the first time, at the time when approaching the turning point, in the process for performing the route guidance.例文帳に追加
経路案内する過程において曲折後の道路が初めて通る道路であった場合にはその曲折地点に接近した時にその旨とその道路に関する情報を運転者に提示する。 - 特許庁
The polishing rate varies with a variation in film quality, and a polishing time is determined on the basis of the estimated polishing rate at the point of flattening time, so that a polishing process can be uniformly carried out to get a polished layer uniform in thickness.例文帳に追加
膜質のばらつきは研磨速度にばらつきを与えるが、平坦化時点における研磨速度の推定値に基づき、研磨時間を決定することにより、より均一化された厚さの研磨を行なうことができる。 - 特許庁
The method for handling the material comprises the steps of freezing the material, in a liquid state at room temperature, used in a process for manufacturing a semiconductor device at not more than melting point, and transporting or maintaining it at a frozen states.例文帳に追加
本発明に係る材料取扱方法は、半導体装置の製造過程で使用される常温で液体である材料を融点以下の温度で冷凍し、この冷凍状態で輸送や保存を行う。 - 特許庁
The system has means for recognizing the part of the band substrate under machining and the recognizing means specifies the point of a defect generated in the continuous machining process as the distance from the mark.例文帳に追加
該装置は帯状基板のどの部分を加工しているかを認識する加工部位認識手段を有し、連続加工工程において発生した不良個所を、該認識手段により該印からの距離として特定する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device capable of improving the throughput, reducing the cost of a cleaning gas, and prolonging the life of a process kit by automatically detecting the end time point of cleaning in a chamber.例文帳に追加
チャンバ内のクリーニングの終了時刻を自動検出して、スループットの向上、クリーニングガス費の低減およびプロセスキットの長寿命化を図ることができる半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing high-tensile steel having excellent toughness and weldability and having high yield point equal to or higher than 450 MPa whithout requesting any special process or addition of a large amount of alloy elements.例文帳に追加
特殊な工程や多量の合金元素の添加を必要とせずに、優れた靭性および溶接性を有し、かつ450MPa以上の高い降伏点を有する高張力鋼材の製造方法を提供すること。 - 特許庁
As for the function to be frequently used, when the selection items in a process for selecting the function are displayed on a display part 13, an access point key 16 is operated so that corresponding code information can be checked.例文帳に追加
よく利用する機能については、その機能を選択する過程の選択項目が表示部13に表示されているとき、アクセスポイントキー16を操作することにより、対応するコード情報を調べることができる。 - 特許庁
The temperature drop at the surface of the steel material during a hot rolling process is suppressed by jetting and firing a firing agent, such as a liquid fuel having a firing point lower than the temperature of the surface of the steel material.例文帳に追加
熱間圧延中の鋼材表面に、その鋼材が有する表面温度以下の発火点を有する液体燃料等の発火剤を噴射して燃焼させることにより、鋼材の表面温度の低下を抑制する。 - 特許庁
The film-shaped product having at least the network structure of 1 nm to 1 μm diameter on the surface thereof is manufactured in the electrospray deposition process using a cellulose diacetate solution prepared by dissolving cellulose diacetate in a solvent having 57-150°C boiling point.例文帳に追加
エレクトロスプレーデポジション法で沸点が57〜150℃の溶媒で溶解したセルロースジアセテートの溶液を用いて、少なくとも表面に直径が1nm〜1μmの網目構造を有するフィルム状物を製造する方法。 - 特許庁
The process for production uses the polymerization of a crude non-conjugate cyclic diene after contacting with an alkali followed by removal of at least a part of low boiling fraction and at least a part of high boiling point fraction.例文帳に追加
また、粗非共役環状ジエンを、アルカリと接触させた後、軽沸分のうちの少なくとも一部および高沸分のうちの少なくとも一部を除去して得られた非共役環状ジエンを、前記重合に用いる。 - 特許庁
When the wood fiberboard is manufactured by molding fibrillated wood fibers or chips under thermal pressure, the thermal pressure molding process is performed by adding MDI and the ethylene-bis-stearic amide with a melting point of not less than 100°C as additives.例文帳に追加
解繊した木質繊維またはチップを熱圧成形して木質繊維板を製造するに際して、添加剤として、MDIと融点が100℃以上であるエチレンビスステアリン酸アミドを添加して熱圧成形を行う。 - 特許庁
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