「process structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

To suppress the contamination of a disc-type information recording medium which is caused by gases discharged from adhesives, etc., used in a manufacturing process of a rotor structure of a spindle motor applied to an information recording/reproducing apparatus.例文帳に追加

情報記録再生装置に用いるスピンドルモータのロータ構体の製造工程において使用する接着剤等からの放出ガスによるディスク状情報記録媒体の汚染を抑止する。 - 特許庁

To provide the structure of a material to be worked and its working method for achieving the stability of the quality and improvement of fatigue strength of a weld zone without increasing production process and using existing production facilities.例文帳に追加

この発明は、生産工程の増加なしに、既存の生産設備を用いて、溶接部の品質安定・疲労強度向上を達成することができる被加工材構造およびその加工方法に関する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer interconnection structure which can regulate a substrate thickness having excellent handleability and conveyability in a manufacturing process and which facilitates a mass production, and to provide a method for mounting a semiconductor device.例文帳に追加

製造プロセスにおける取扱い性、搬送性に優れた板厚に調整ができ、量産対応が容易となる多層配線構造の製造方法および半導体装置の搭載方法を提供する。 - 特許庁

To provide a natural stone formwork panel capable of forming a landscape of a natural stone even by an unskilled stonemason, making a structure to correspond to a designing condition and simplifying a working process.例文帳に追加

自然石の景観を造るため石工の熟練工でなくても施工可能とし、設計条件に対応できる構造物ができ、作業工程の簡素化できる自然石型枠パネルを提供できる。 - 特許庁

To provide an arrangement structure of a reserve tank for relieving restriction of arrangement and a shape of the reserve tank, while reducing labor and cost by dispensing with work for installing the reserve tank in another process.例文帳に追加

リザーブタンクを別工程で取り付ける作業を不要にして手間とコストを低減すると共に、リザーブタンクの配置や形状の制限を緩和するリザーブタンクの配置構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a structure of mounting a bracket onto an electrical connection box by which the number of components and the number of steps in the assembling process can be reduced, cost can be lowered and space can be saved.例文帳に追加

部品点数及び組み付け工数を削減することができ、コスト低減を図ることができるとともに、省スペース化を図ることができる電気接続箱へのブラケット取付構造を提供する。 - 特許庁

To provide an innovative scrap material-classifying and recovering apparatus for efficiently classifying and recovering small pieces of scrap materials generated in working process without shortening the number of working steps or making mold structure complicated.例文帳に追加

作業工数の短縮や型構造の複雑化を招くことなく、作業工程で発生する小片スクラップ材を効率よく分別回収する新規なスクラップ材分別回収装置を提供する。 - 特許庁

A metal film having excellent adhesion is formed on a prescribed surface in a ceramic structure by a high melting point metal process, a nickel plating layer as an intermediate protective layer is formed on the metal film by a plating process, a nickel-molybdenum disulfide deposition film layer is formed on the intermediate protective layer, and a self-lubricating film having excellent adhesion is formed on the surface of the ceramic structure.例文帳に追加

セラミックス構造体の所定の表面に高融点金属法により密着性に優れた金属皮膜を形成し、前記金属皮膜上にめっき法により中間保護層としてニッケルめっき層を形成し、前記中間保護層上にめっき法によりニッケル・二硫化モリブデン共析物皮膜層を形成して、セラミック構造体の表面に密着性に優れた自己潤滑性皮膜を形成する。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a structured layer including a final periodic grating structure of a first material and a second material filling spaces between individual features of the final periodic grating structure; removing the second material using a first chemical process; and annealing at least a portion of the first material into a third material using a second chemical process.例文帳に追加

第１の材料の最終周期格子構造及び、最終周期格子構造における個々の構造（ｆｅａｔｕｒｅｓ）の間を充填する第２の材料で構成された構造層を形成する工程と、第１の化学プロセスを用いて第２の材料を除去する工程と、第２の化学プロセスを用いて第１の材料の少なくとも一部を第３の材料にアニールする工程と、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method for the electron beam generating device comprises a supply process of supplying at least the plurality of carbon nanotubes having the functional groups to a substrate surface having a conductive surface and a crosslinking process forming the carbon nanotube structure body constituting the network structure wherein the plurality of carbon nanotubes are mutually electrically connected by forming the crosslinking part by a chemical bonding between the functional groups.例文帳に追加

少なくとも、官能基を有する複数のカーボンナノチューブを、導電性表面を有する基体表面に供給する供給工程と、前記官能基間を化学結合させることにより架橋部位を形成し、前記複数のカーボンナノチューブが相互に電気的に接続された網目構造を構成するカーボンナノチューブ構造体を形成する架橋工程と、を含む電子線発生素子の製造方法。 - 特許庁

This method is provided with a process 101 for shielding a structure contaminated by dioxins from a surrounding environment and atomizing a decontamination agent over the inner surface of the structure contaminated by dioxins, processes 102 and 103 for photolyzing dioxin compounds solved in the decontamination agent while using a photocatalyst and a process 105 for recirculating the decontamination agent so as to be atomized again over the inner surface after photolysis.例文帳に追加

ダイオキシン類により汚染された構造物を周囲環境から遮断し、構造物のダイオキシン類により汚染された内面に除染剤を噴霧する工程１０１と、除染剤に溶解したダイオキシン類化合を光触媒を用いて光分解する工程１０２，１０３と、光分解後の除染剤を内面に再度噴霧させるために再循環させる工程１０５とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated structure for the disk driving suspension assembly comprising using the multilayered lamination sheet having the first layer 50 consisting of the metallic spring material, the intermediate second layer 90 consisting of the electrical insulating material and the third layer 70 consisting of the conductive material and performing the dry etching process after wet etching as a process step of molding the second layer 90 and the laminated structure thereof are provided.例文帳に追加

金属ばね材からなる第１層５０と、電気絶縁材からなる中間の第２層９０と、導電材からなる第３層７０とを有する多層合わせシートを使用し、第２層９０の成形工程としてウェットエッチングの後、ドライエッチングプロセスを行うことを特徴とするディスク駆動サスペンションアセンブリ用の積層構造体の製造方法及びその積層構造体を提供する。 - 特許庁

The scale state prediction device 12 comprises a simulating means 16 determining the structure of scale and simulating the progress of structure destruction caused by receiving growth and stress based on the scale structure, and separation timing predicting means 17 predicting the separation timing of scale actually generated to the boiler heat transfer pipe based on information on the progress process of structure destruction obtained by simulation of the simulating means 16.例文帳に追加

スケール状態予測装置１２を、スケールの構造を決定し、スケール構造に基づいてその成長、及び応力を受けることにより生じる構造破壊の進行をシミュレートするシミュレート手段１６と、シミュレート手段１６のシミュレーションによって得た前記構造破壊の進行過程の情報に基づいて、実際のボイラ伝熱管に生じるスケールの剥離時期を予測する剥離時期予測手段１７とを有する構成とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an arrangement for suppressing occurrence of malfunction in the machining process as much as possible when a transistor provided with a memory cell area and a peripheral circuit area, such as a NAND flash, and having an LDD structure in the peripheral circuit area is fabricated; and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ＮＡＮＤフラッシュ等のメモリセル領域および周辺回路領域を備え、周辺回路領域にＬＤＤ構造を有するトランジスタを形成する場合に、加工工程で不具合が発生するのを極力抑制することができる構成を備えた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a light emitting diode element having a high luminance in the wavelength band of yellow-green, in which the drop in the output strength used to be marked conventionally, by forming a window layer in a process in which the temperature is higher than before in order to improve the electric conductivity of the window layer and by changing the structure thereof to prevent the changes due to the process under high temperatures.例文帳に追加

窓層を従来よりも高温のプロセスで形成し、電気伝導度の改善された窓層とするが、高温プロセスによる変化がないようにその構造を変える事により、従来は出力強度の低下が著しかった黄緑色の波長帯域で、輝度の大きい発光ダイオード素子を実現する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises a process of preparing an underlayer structure having a silicon carbide layer covering copper wiring, and a process of growing silicon oxycarbide through vapor phase growth by using tetramethylcyclotetrasiloxane, carbon dioxide, and oxygen at a flow rate of 3% or less to the flow rate of the carbon dioxide as source gases.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、銅配線を覆うシリコンカーバイド層を有する下地構造を準備する工程と、前記下地構造上に、ソースガスとして、テトラメチルシクロテトラシロキサン、炭酸ガス、炭酸ガスの流量に対して３％以下の流量の酸素を用い、気相成長でシリコンオキシカーバイドを成長する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a layout creation device and layout creation method of a semiconductor integrated circuit for changing the process of layout verification processing for verifying a plurality of layered layout data as necessary, and for reducing the labor of layout verification processing, and for improving the quality of layout data based on a manufacturing process for manufacturing a semiconductor device with a multi-layered structure.例文帳に追加

多層構造の半導体装置を製造する製造プロセスに基づいて、複数層のレイアウトデータを検証するレイアウト検証処理のプロセスを適宜変更し、レイアウト検証処理の負担を軽減し、レイアウトデータの品質を向上させる半導体集積回路のレイアウト作成装置及びレイアウト作成方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, for example, a working error in a cutting work process (error of height dimension of the original optical surface of the base material 100) and a working error in a resist film forming process (error of film thickness of the resist applied on the original optical surface) are eliminated and, as a result, the diffraction structure capable of obtaining the prescribed optical performance can be plotted.例文帳に追加

これにより、例えば切削加工工程における加工誤差（基材１００の母光学面の高さ寸法の誤差）と、レジスト膜形成工程における加工誤差（母光学面上に塗布されたレジストの膜厚の誤差）を解消して、所定の光学的性能が得られる回折構造を描画することができる。 - 特許庁

To control an ink liquid drop with high accuracy by a highly accurate manufacturing process where not only the ejection pressure source but also the nozzle structure, the pressure chamber, the ink supply passage, and the like, are designed optimally in order to realize a high resolution, high speed printer having a small multihead nozzle in ink jet recording according to a conventional manufacturing process.例文帳に追加

従来の製造工程によれば、インクジェット記録において小型、マルチノズルヘッドを有した高解像度、高速プリンタを実現するためには、吐出圧力源だけでなく、ノズル構造、圧力室、インク供給路などが最適設計され、精度の良い製造方法によりインク液滴を精度良く制御することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the structure includes a process for forming an unhardened lower clad part 21" which becomes a lower clad part 21; and a process for embedding, into the unhardened lower clad part 21", a part of optical path changing components 41, 42 which become optical path changing parts 41, 42.例文帳に追加

本構造体の製造方法は、下部クラッド部２１となる未硬化下部クラッド部２１"を形成する未硬化下部クラッド部形成工程と、光路変換部４１及び４２となる光路変換部品４１及び４２の一部を未硬化下部クラッド部２１"内に埋入する光路変換部品埋入工程と、を備える。 - 特許庁

Then, a voltage is applied to the voltage application position to thereby send a current into the structure, and a measurement potential difference at the potential difference measuring position is measured (process S4), and it is determined whether the repaired welding crack is developed or not based on the reference potential difference and the measurement potential difference (process S5), to thereby monitor development of the repaired welding crack.例文帳に追加

その後、電圧印加位置に電圧を印加して構造物に電流を流し、電位差測定位置における実測電位差を測定し（工程Ｓ４）、基準電位差および実測電位差に基づいて補修溶接き裂が進展したか否かを判定する（工程Ｓ５）ことにより、補修溶接き裂の進展を監視する。 - 特許庁

The wastewater treatment system mixes common salt with the wastewater containing polyvinyl alcohol, electrolyzes the resultant mixture, merges the wastewater of the bleaching process of a cellulose based fiber structure and/or a liquid ammonia manufacturing process and the electrolyzed wastewater, and subjects the merged wastewater to denitrification and activated sludge treatment.例文帳に追加

本発明の廃水処理システムは、ポリビニルアルコールを含む廃水に食塩を混合し電気分解し、セルロース系繊維構造物の漂白工程及び／又は液体アンモニア加工工程の廃水と前記電気分解された廃水を合わせ、前記合わされた廃水を脱窒素及び活性汚泥処理することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a structure of a semiconductor substrate for evaluating contamination, which is used so that contaminant of transition metal impurities in a semiconductor silicon substrate manufacturing process or a semiconductor device manufacturing process is exactly evaluated, and to provide a method for evaluating contaminant of metal impurities or the like by using the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体シリコン基板の製造或いは半導体デバイス製造工程に於ける遷移金属不純物等の汚染物質を正確に評価するのに用いる汚染評価用半導体基板の構造、及び該半導体基板を用いた金属不純物等の汚染物質の汚染評価方法を提供する。 - 特許庁

And a second production process is a process comprising a step of mixing a water-absorbent resin having an internal crosslinked structure and a crosslinked surface obtained by polymerizing a monomer containing acrylic acid and/or a salt thereof as a main component, and a complex containing a polyvalent metal atom as a central atom in the presence of an aqueous liquid.例文帳に追加

そして、第２の製造方法は、アクリル酸および／またはその塩を主成分とする単量体を重合してなり内部架橋構造を有するとともに表面架橋されてなる吸水性樹脂と、多価金属原子を中心原子とする錯体と、を水性液の存在下で混合する工程を含む、方法である。 - 特許庁

The welding method is provided with a process of irradiating a welded part of the lap joint of the structure S formed of the metallic sheets with a laser beam by laser welding equipment 1 and a process of subjecting the welded part irradiated with the laser beam after irradiation with laser beam to the gas metal electric arc welding by the gas metal electric arc welding equipment 7.例文帳に追加

金属薄板にて形成された構造物Ｓの重ね継手の溶接箇所にレーザー溶接装置１によりレーザー光を照射する工程と、レーザー光を照射した後に、レーザー光が照射された溶接箇所にガスメタルアーク溶接装置７によりガスメタルアーク溶接を行う工程とを備える。 - 特許庁

Further, when the printing request file in which the plurality of printing processes are defined in the specified structure is received from the clients 3 and 4, the processor for executing the processing of the process is specified for each process defined by a processing request by using the processing request and a stored list.例文帳に追加

さらに、クライアント３、４から複数の印刷プロセスが特定構造で定義されている印刷要求ファイルを受信したら、処理要求と記憶されているリストとを用いて、処理要求により定義されている処理プロセス毎に当該処理プロセスの処理を実行するプロセス処理装置を特定する。 - 特許庁

To provide a structure of a camera module which is to attain a thinned film of a camera module manufactured by a wafer processing, does not need human labor or the time and the effort in the manufacturing process, adopts a wafer processing in a process manner and can be simply and mass-produced, and to provide a manufacturing method of the camera module.例文帳に追加

ウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのさらなる一層の薄膜化を実現しようとするものであり、その作製工程においても、人手や手間を要せず、工程的にもウエハプロセスを採用して簡便かつ大量生産できるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the catalyst layer for the fuel cell comprises a process of growing a carbonaceous porous material as a carrier of a catalyst layer having a nano-sized structure like carbon nano-wall (CNW), by vapor deposition; and a process of making the catalytic component and/or the electrolyte component to be carried/dispersed on the carrier of the catalyst layer.例文帳に追加

触媒層用担体としてカーボンナノウォール（ＣＮＷ）等のナノサイズ構造を有する炭素系多孔性材料を気相成長させる工程と、触媒成分及び／又は電解質成分を該触媒層用担体上に担持・分散させる工程とを含む燃料電池用触媒層の製造方法。 - 特許庁

The micromirror device is obtained by using a semiconductor anisotropic etching process to process a silicon substrate and has a structure, wherein a shear-type strain gauge 3 which measures the angle of rotation of a mirror 1 and utilizes a piezoresistance effect is provided in a torsion bar 2 divided p-type or n-type semiconductor areas in a perpendicular direction of the silicon substrate.例文帳に追加

半導体異方性エッチングプロセスを使用してシリコン基板を加工したマイクロミラーデバイスであって、シリコン基板の厚さ方向にｐ型またはｎ型の半導体領域に分割したトーションバー２に、ミラー１の回転角を測定するピエゾ抵抗効果を利用したせん断型歪ゲージ３を設けた構造を特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing flash memory devices that prevents a polysilicon layer from being oxidated on the interface of the polysilicon layer and dielectric film in the dielectric film formation process and the subsequent process, by forming a floating-gate polysilicon layer in a laminated structure of doped and undorped polysilicon layers.例文帳に追加

フローティングゲート用ポリシリコン層をドーフトポリシリコン層とアンドーフトポリシリコン層の積層構造で形成することにより、誘電体膜を形成する過程又は他の後続工程でポリシリコン層と誘電体膜の界面でポリシリコン層が酸化することを防止することができるフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display of a CF-on-TFT structure on which a color filter is formed on the side of an array substrate where a switching element is formed and which has high reliability and can simplify a manufacturing process typified by a photolithographic process.例文帳に追加

本発明は、スイッチング素子が形成されたアレイ基板側にカラーフィルタを形成したＣＦ−ｏｎ−ＴＦＴ構造の液晶表示装置用基板に関し、フォトリソグラフィ工程を代表とする製造プロセスを簡略化でき、且つ高い信頼性を有する液晶表示装置用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a combined structure body of a chassis and a printed board provided with a signal transmission line of high frequency signals capable of being prepared without depending on the thickness of the printed board, for which an area to form a conductive pattern is not reduced, the need of the process of soldering or the like is eliminated and its attaching process is not complicated.例文帳に追加

プリント基板の厚さに依存することなく作成でき、導電パターンを形成する領域を減少させることなく、また、半田付け等の工程を必要とせずその取り付け工程が複雑でない、高周波信号の信号伝送線路を有するシャーシとプリント基板の組合せ構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a small sheet manufacturing method, stably manufacturing a small sheet of high quality with high productivity by combination of a first cutting process, which is cross cutting having a high production speed, and a second cutting process of multiple-cutting two or more sheets in a simple structure.例文帳に追加

簡単な構造で生産速度の高いクロス断裁である第１の切断工程とそれに直交する方向で複数枚重ね切りする第２の切断工程とを組み合わせて、生産性が高く高品質の小判シートが安定して製造できる小判シートの製造方法を提供することを課題目的にする。 - 特許庁

To provide a expanded resin laminated soundproof sheet and its manufacturing process which has no restriction on shapes/installation sites/weights, gives a thin structure of overall laminated sheet and a good plastic workability such as a press processing, is equipped with an enough vibration controllability in a final using condition after finishing a heating and foaming process, and exhibits a soundproofing performance.例文帳に追加

形状・施工場所・重量に制限を受けることがないとともに、積層板全体として薄く、プレス加工などの塑性加工性がよく、加熱発泡工程を経た最終の使用状態で十分な制振性能などを備え、防音性能を発揮する発泡樹脂積層防音板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the alloy sputtering target material having the fine and uniformed structure, the method having the casting process of the alloy, is performed as the followings, that is, in the casting process, when the cast block is obtained by pouring molten alloy into a mold and solidifying the alloy, the solidification speed of the poured molten metal is adjusted into the range of 1-10 mm/sec.例文帳に追加

合金の鋳造工程を有し、該鋳造工程において、鋳型に合金の溶湯を注湯し、凝固させて鋳塊を得る際に、注湯された溶湯の凝固速度を１〜１０ｍｍ／ｓｅｃの範囲に調整することを特徴とする、微細均一化された組織を有する合金スパッタリングターゲット材の製造方法。 - 特許庁

The structure of patent claims, if the claims are formulated through the use of a device, process or material, including microorganism strain or other biological material, is the following: the word “Using,” a name allowing the identification of the device, process, material, including microorganism strain or other biological material and the purpose of the use. 例文帳に追加

特許クレームが装置，方法又は物質(微生物の菌株その他の生体物質を含む)の使用を通じて組み立てられる場合は，当該クレームの構成は，次のとおりである。「用いている」の語，当該装置，方法，物質(微生物の菌株その他の生体物質を含む)の識別が可能な名称及び使用の目的。 - 特許庁

To provide insulating structure which can realize class "F" insulation or more obtained by method of insulation process of water cooled coil which makes it possible to perform the class "F" or more insulation so that usage of a hose made of fluororesin is enabled in junction of cooling water hose in cooled coil of an electric appliance as well as the process.例文帳に追加

電気機器の水冷コイルにおける冷却水ホース接合部において、フッ素樹脂製ホースの使用を可能とし、Ｆ種以上の絶縁を達成することが可能な水冷コイルの絶縁処理方法及びこの処理によって得られるＦ種以上の絶縁を実現し得る絶縁構造を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal structure having the metallic film on a substrate includes a process of forming a portion to form the metallic film by a conductor having a rugged shape, and a process of forming the metallic film preferentially in the portion having the rugged shape of the conductor by electroplating.例文帳に追加

基板上に金属膜を有する金属構造体の製造方法において、金属膜を形成する部分を、凹凸形状を有する導電体で形成する工程と、電気めっきによって前記導電体上の凹凸形状を有する部分に優先的に金属膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a multilayer structure porous material and its production process, which not only allow producing multilayer porous materials without limitation in material combination but also allow bonding and applying porous materials anew on existent half finished goods in a post-process.例文帳に追加

本発明は、多層構造の多孔質材を、材質の組合せに制限なく製造することを可能にするとともに、すでにできあがった半製品に対しても、その後工程で新たに多孔質材を密着、付与することが可能となる多層構造の多質材料およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The detection method of the allergy-inducing substance includes a process (a) of bringing a substance to be inspected into contact with serum protein and a process (b) of confirming whether serum protein changed in its tertiary structure by the reaction of the substance to be inspected with serum protein is present by means of electrophoresis.例文帳に追加

アレルギー誘発物質の検出方法であって、下記の工程：(a)被検物質と血清蛋白質とを接触させる工程；及び(b)被検物質と血清蛋白質との反応により三次構造が変化した血清蛋白質が存在するか否かを電気泳動により確認する工程を含む方法。 - 特許庁

The method for producing the glass ceramic plate comprises a process for forming a nep structure by rolling a plastic glass ceramic plate by a forming roller equipped with nep molds which have rounded transfer parts 5 between neps, are densely packed and formed by forging, and a process for sharpening the forged roller neps into a large diameter by a milling machine.例文帳に追加

また、製造方法では、ネップ型間に丸くなったウエブをもち、密に詰められて鍛造により成形されたネップ型を備える成形ロ−ラによって可塑性ガラスセラミック板を圧延することによりネップ構造を成形する工程と、鍛造されたロ−ラネップを大きな直径にフライス盤で削る工程とを備える。 - 特許庁

The method comprises a process for coating an uneven wafer surface with a photoresist layer, to cover the undesirable characteristics in the structure of the wafer for coating to a uniform height and for obtaining the substantially flat upper surface of the photoresist layer; and a process for etching the photoresist 40, having substantially the same rate and an insulating layer 30.例文帳に追加

第１に、凸凹なウェーハ表面上にフォトレジスト層を塗布してウェーハの望ましくない構造的特徴を覆って均一な高さにコーティングし、実質的に平坦なフォトレジスト層の上部表面を得る工程と、第２に、実質的に同率にフォトレジスト４０および絶縁層３０をエッチングする工程と、から成る。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display device of a CF-on-TFT structure in which a color filter is formed on the side of an array substrate in which a switching element is formed, and which enables simplification of a manufacturing process typified by a photolithography process and has high reliability.例文帳に追加

本発明は、スイッチング素子が形成されたアレイ基板側にカラーフィルタを形成したＣＦ−ｏｎ−ＴＦＴ構造の液晶表示装置用基板に関し、フォトリソグラフィ工程を代表とする製造プロセスを簡略化でき、且つ高い信頼性を有する液晶表示装置用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a high porosity reformed sulfur solidification object in which a porous body with high porosity using a reforming sulfur and a shoulder bone material can be manufactured easily and efficiently, and a bulk utilization of an abandonment shell is also expectable and to provide a structure for oceans equipped with the solidification object acquired by the manufacturing process.例文帳に追加

改質硫黄及び貝殻骨材を用いた空隙率が高い多孔体を、容易に、効率的に製造でき、廃棄貝殻の大量利用も期待できる、高空隙率改質硫黄固化体の製造方法及び該方法で得られた固化体を備えた海洋用構造物を提供すること。 - 特許庁

The system comprises a coating process S3 for coating a region including crack defects and an oxygen consuming process S4 for consuming one of solved oxygen in water remaining inside the coating crack defects and oxygen in a gas phase by oxidizing the inside of the crack defects during using the reactor structure.例文帳に追加

き裂状欠陥を含む領域を被覆する被覆工程Ｓ３と、この被覆されたき裂状欠陥の内部に残存する水分中の溶存酸素及び気相中の酸素の少なくとも一方の酸素を原子炉構造物の使用中に前記き裂状欠陥の内部を酸化させて消費させる酸素消費工程Ｓ４と、を有する。 - 特許庁