「process structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

It is possible even for an unskilled stonemason to construct the natural stone 1 by applying a formwork method, to construct a structure capable to corresponding to a designing condition and to simplify a working process as the natural stone 1 itself is a finishing material.例文帳に追加

自然石を型枠工法とすることで石工の熟練工でなくても施工可能とし、設計条件に対応できる構造物ができ、自然石そのものが仕上材なので作業工程の簡素化ができる。 - 特許庁

To realize simultaneously suppression of deformation of a sensor chip at the sealing process time, the temperature changing time or the like, and maintenance of the degree of vacuum in a case after sealing, concerning the structure of a sensor unit.例文帳に追加

本発明は、センサユニットの構造に関し、封止工程時や温度変化時等におけるセンサチップの変形の抑制と、封止が行われた後におけるケース内の真空度の維持とを両立させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a filter for display panel which is produced continuously while ensuring good conductivity by improving the single sheet filter structure, and also to provide its manufacturing process.例文帳に追加

一枚化フィルター構造の改良により上記問題を解消して、導通性を良好に確保しつつ、連続的に製造を行うことが可能な生産性に優れたディスプレイパネル用フィルター、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In Fig.2(d), a mold material 50 is formed on an upper surface on the structure, i.e. on the side, on which an electronic component 20 is mounted, on a metal pattern, and the electronic component 20 etc. is sealed (sealing process).例文帳に追加

図２（ｄ）に示されるように、この構造上の上側の面、すなわち、この金属パターン上の電子部品２０が搭載された側に、モールド材５０を形成し、電子部品２０等を封止する（封止工程）。 - 特許庁

According to this structure, when a semiconductor circuit is built on the element substrate 2, overhang of the element substrate 2 can be prevented in a wet etching process, resulting in the reduction of particles due to chipping of the element substrate 2, and thus preventing deterioration in the yield.例文帳に追加

これにより素子基板２上に半導体回路を構築する場合に、ウエットエッチング工程での素子基板２のオーバーハング形成を防止でき、素子基板２の欠けによるパーティクルを低減し歩留の低下を防ぐ。 - 特許庁

To reduce application dispersion resulting from application unevenness, to prevent a failure to apply, to improve a working environment and to simplify an adhesive treatment process, in manufacturing a base isolation structure, particularly in adhesive treatment of a steel plate.例文帳に追加

免震構造体の製造、特に鋼板の接着剤処理において、塗りムラによる塗布バラツキを低減し、塗り忘れを防止すると共に、作業環境を向上し、かつ接着剤処理工程を簡素化する。 - 特許庁

To provide a machine tool capable of reducing moving amount as much as possible by a simple structure when a next process tool is changed in the replaceable direction when many tool magazines of a main specification are mounted.例文帳に追加

多数本仕様の工具マガジンを搭載するあたって次工程工具を交換可能方向に方向転換させる場合に、簡単な構造でかつ移動量をできるだけ小さくできる工作機械を提供する。 - 特許庁

To provide a working method for a substrate surface in a surface antireflection structure at a low cost and of high performance, in the manufacturing process of a solar battery cell using a polycrystalline silicon substrate at a low cost.例文帳に追加

低コストな多結晶シリコン基板を用いる太陽電池セルの製造工程において、低コストかつ高性能な表面反射防止構造の基板表面の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

By a plasma CVD method using a silane-based gas represented by Si_nH_2n+2 (n=1, 2, 3, ...) and a germanium halide gas as source gases, a process for depositing the silicon thin film containing a crystalline structure on a substrate is performed.例文帳に追加

Ｓｉ_nＨ_2n+2（ｎ＝１，２，３,…)で表されるシラン系ガスと、ハロゲン化ゲルマニウムガスとを原料ガスとして用いたプラズマＣＶＤ法により、結晶構造を含むシリコン薄膜を基板上に成膜する工程を行う。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device having the MOS structure where the gate insulating film with thickness of 100 nm or thicker is formed by LPCVD process on the surface of a region containing boron as a dopant element.例文帳に追加

不純物元素としてボロンを含有する領域の表面に、１００ｎｍ以上の厚さのゲート絶縁膜がＬＰＣＶＤ法により形成されるＭＯＳ構造を有する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

To provide a structure capable of preventing water from intruding the boundary surface between a metal case and a resin part without complicating a manufacturing process in a temperature sensor having a thermistor sealed in the metal case with resin.例文帳に追加

金属ケース内にサーミスタを樹脂封止した温度センサにおいて、製造工程を複雑にすることなく金属ケースと樹脂部との境界面から水分が浸入することを防止できる構造を提供すること。 - 特許庁

To provide a flat type display device having such a structure in which a spacer does not tilt in a manufacturing process, and gas discharge from a material to fix the spacer and heat-deterioration of the material do not occur.例文帳に追加

製造プロセスにおいてスペーサが傾いてしまうことがなく、スペーサを固定する材料からのガス放出や、係る材料の熱劣化の生じることの無い構造を有する平面型表示装置を提供する。 - 特許庁

A removal process is carried out thereafter so as to remove the second, third, and fourth layers of the capping structure using an end point detection method such as secondary ion mass analysis detecting the presence of the second layer.例文帳に追加

その後、除去プロセスが、第２の層の存在を検出する２次イオン質量分析などの終点検出方法を使用して、キャッピング層構造の第２、第３、第４の層を除去するために実施される。 - 特許庁

When the process for producing a thin film of metal oxide utilizing CVD or ALD is employed, a thin film having a fine structure is formed and thereby a thin film can be obtained with a small leak current.例文帳に追加

また本発明によるＣＶＤまたはＡＬＤを利用した金属酸化物薄膜の製造方法を使用すれば、微細構造を有する薄膜が成長するために漏れ電流の低い薄膜を得ることができる。 - 特許庁

Then, a pattern forming process is carried out for the transparent conductive layer, a source and a drain are formed, an active layer is formed in such a manner that the source, the drain, and the dielectric layer are covered, and a self-alignment TFT structure is completed.例文帳に追加

次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 - 特許庁

To reduce labor and time required for design and a manufacturing process of a handrail pipe and a partition wall, by adopting a structure allowing an installation error, when installing the handrail pipe on a driver's seat partition wall.例文帳に追加

運転席仕切り壁に手摺り用パイプを取り付ける場合に、取付け誤差を許容し得る構造を採用して、手摺り用パイプや仕切り壁の設計及び製造工程に要する労力と時間を節減する。 - 特許庁

To provide a connection structure of a flat cable and a bus bar in which the occurrence of defects in a manufacturing process is suppressed and workability is improved by increasing a holding force to the flat cable throughout, before and after fixing by welding of the flat cable and the bus bar.例文帳に追加

フラットケーブルとバスバーの溶接による固定の前後にわたって、フラットケーブルに対する保持力を高めて、製造工程における不良の発生を抑制するとともに、作業性の向上を図る。 - 特許庁

To provide an apparatus, capable of performing the process from the removal of coarse particles to the classification and collection of nano-particles by a small-sized lightweight structure and capable of measuring, for example, the exposure amount of fine particles in the breathing region of a worker with high accuracy.例文帳に追加

小型軽量化可能な構造でもって粗粒子除去からナノ粒子分級捕集まで可能で、例えば、作業者の呼吸域での微小粒子曝露量を高精度に測定できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus 2 measuring process-induced features in a transparent sheet 10 where a large-sized and thin transparent substrate is held firmly, and errors induced from a support structure are detected easily, specified as much as possible, and removed.例文帳に追加

透明シート１０のプロセス誘起特徴を測定する装置２において、大型で薄い透明基板をしっかりと保持し、支持構造により誘起される誤差を容易に検出し、できるだけ特定し、取り除く。 - 特許庁

In the weighted addition process, a product value of a state dependent Wiener filter and a joint state post-probability are added for all combinations of envelope states and the fine structure codes to calculate a noise suppression filter.例文帳に追加

重みつき和計算過程は、状態依存ウィーナーフィルタと結合状態事後確率とを乗じた値を、包絡状態と微細構造符号の全ての組み合わせについて加算して雑音抑圧フィルタを計算する。 - 特許庁

To provide the filling structure of a filler for handy type radio equipment in which management of a manufacturing process is easily performed, the filler is injected in a short period of time, and accumulated air is not left in an injection place, and a method of filling the equipment with a filler.例文帳に追加

製造工程の管理が容易であり、充填剤の注入が短期間に行え、注入場所に空気だまりが残らないハンディ型無線機の充填剤の充填構造と充填方法。 - 特許庁

To attain significant cost reduction by simplification of an optical axis adjustment process by improving performance of reading or recording information and vibration-proof performance with a simple structure, and thereby freeing assembly accuracy in manufacture.例文帳に追加

簡単な構造で、情報の読み取り、または情報の記録性能と耐震性能が向上し、もって製造時の組み込む精度をフリーにし、光軸調整の工程の簡素化は相当のコストダウンを実現する。 - 特許庁

To provide a blue light-emitting device that has a non-resonance structure including a blue light-emitting layer between a reflective electrode and a transparent electrode, and thus has an excellent process margin, and an organic light-emitting display including the blue light-emitting device.例文帳に追加

本発明は、反射電極と透明電極との間の青色発光層を備えた非共振構造であって、工程マージンに優れている青色発光素子及びこれを含む有機発光ディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method suppressing film thinning of an STI (Shallow Trench Isolation) film by etching in a manufacturing process of a flash memory, and to provide a split gate type MONOS (Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon) type flash memory structure attaining it.例文帳に追加

フラッシュメモリの製造工程において、エッチングによるＳＴＩ膜の膜減りを抑制することができる製造方法と、それを可能にするスプリットゲートタイプのＭＯＮＯＳ型フラシュメモリ構造を提供する。 - 特許庁

To provide an optical fiber-splicing structure in which additional time and labor is unnecessary in the splicing process of the optical fibers and a splicing loss is stabilized even under a high temperature or a low temperature environment, and to provide an optical fiber-splicing method.例文帳に追加

光ファイバ接続工程で余計な手間をかけること無く、高温や低温の環境下においても接続損失の安定化を図ることができる光ファイバ接続構造及び方法を提供する。 - 特許庁

To avoid over etching of the bottom of an upper layer wiring groove when a recessed part is formed on a surface of lower layer wiring through a connecting plug hole by etching, in manufacturing a wiring structure by a dual damascene process.例文帳に追加

デュアルダマシン法による配線構造の製造において、接続プラグ用のホールを通じて下層配線の表面に凹部をエッチング形成するとき、上層配線用の溝の底部が過剰エッチングされないようにする。 - 特許庁

To provide a fixing structure of a corner type molded part, having sufficient plate assembling property to the corner type molded part and not dropping off a plate at a circulation process of a door weather strip or at assembling to a door sash.例文帳に追加

コーナー型成形部へのプレート組付性が良く、しかもドアウエザーストリップの流通過程あるいはドアサッシュへ組み付ける際にプレートが脱落することがないコーナー型成形部の固定構造を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus preventing forgetting the removal of a protective member with good operability in a simple structure in the image forming apparatus transported with a process cartridge incorporated in the apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、プロセスカートリッジを装置本体に装着した状態で輸送する画像形成装置において、簡易な構成で保護部材の外し忘れを防止した操作性のよい画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrophotographic process unit provided with a toner sealing structure which hardly causes toner leakage without imparting strong pressing force to the peripheral surfaces of both end parts of a developing roller, then, enables an inexpensive motor having low torque to be used.例文帳に追加

現像ローラの両端部周面に強い押圧力をかけなくても、トナー漏れの生じることが少なく、安価な低トルクモーターを使うことのできるトナーシール構造を備える電子写真用プロセスユニットの提供。 - 特許庁

To realize a high density multi-head by employing a multilayer structure of thin films of single oriented crystal or oxide of single crystal in the actuator of a liquid jet head so that micromachining of smiconductor process can be applied.例文帳に追加

液体噴射ヘッドのアクチュエータを単一配向結晶または単結晶の酸化物薄膜の積層構造で構成することにより、半導体プロセスによる微細加工を可能にして高密度なマルチヘッドを実現する。 - 特許庁

The method for manufacturing the diaphragm structure comprises the steps of forming body parts 30A and 30B and diaphragms 31A and 31B of diaphragm constituting elements by using a normal semiconductor process on first and second substrates 1A and 1B via a mold release layer 2.例文帳に追加

第１および第２の基板１Ａ，１Ｂ上に離型層２を介して通常の半導体プロセスを用いてダイヤフラム構成要素である胴体部３０Ａ，３０Ｂおよびダイヤフラム部３１Ａ，３１Ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a variable shape mirror in which deformation of a thin film structure body and a thin film mirror layer in an assembly process is prevented and variation in manufacturing is reduced, and to provide a method of manufacturing the variable shape mirror.例文帳に追加

組立て時における薄膜構造体及び薄膜ミラー層の変形を防いで、製造ばらつきが生ずるのを低減させることができる可変形状ミラー及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To realize the reduction of the cost of a raw material, the improvement of the quality of a single crystal, the reduction of the damage to a crucible, the simplification of the structure of an opening/closing mechanism, and the reduction of the time for a raw material feeding process.例文帳に追加

原料コストの低減、単結晶の品質の向上、るつぼに与えるダメージの低減、開閉機構の構造の簡易化、融液の液温の低下防止、原料供給プロセスの時間短縮を図る。 - 特許庁

A connecting part for conducting the outer peripheral end of the SOI layer and the support substrate is formed after a process for particularly forming an SOI structure constituted of the SOI layer, the insulation layer and the support substrate.例文帳に追加

特にＳＯＩ層、絶縁層、支持基板からなるＳＯＩ構造を形成する工程の後に、前記ＳＯＩ層の外周端と前記支持基板の間を導通させるための連結部を形成することにより製造する。 - 特許庁

Also, in a process using the configuring components to be held and restrained by the mending tool, an FEM analyzing part 30 performs structure analysis by reflecting the mending tool precision information as well as the design information and the analytic conditions.例文帳に追加

また、ＦＥＭ解析部３０は、治具により保持・拘束される構成部品を用いる工程では、設計情報および解析条件に加え、治具精度情報を反映させて構造解析を行う。 - 特許庁

To provide a laser marking device simplified in support structure for a gyro and a suspension body, easy to be assembled in a manufacturing process, easy to be used, robust and excellent in impact resistance, and easy to be adjusted in maintenance.例文帳に追加

ジャイロ及び吊下体の支持構造が簡単で、製造工程における組立てが容易であり、使い易く、丈夫で耐衝撃性に優れ、メンテナンスの際の調整が容易なレーザ墨出し器を提供することにある。 - 特許庁

The laminated patterns 3 of the eaves structure are obtd. by executing patterning by the process of preventing the contact of the substrate surface with the water or the aq. soln. after successively depositing a lower layer resist 2 and an upper layer resist 4 on the substrate 1 having the large ruggedness.例文帳に追加

凹凸の大きい基板１に下層レジスト２、上層レジスト４を順次成膜した後、基板表面が水あるいは水溶液に接触しないプロセスによりパターニングして庇構造の積層パターン３を得る。 - 特許庁

To provide a solar cell element having a series multilayer structure exhibiting excellent effect of increasing light scattering and excellent power generation efficiency per unit area in which fabrication cost can be reduced because of simple fabrication process.例文帳に追加

光の散乱を増加させる効果に優れ、単位面積当たりの発電効率に優れ、製造工程が簡単なため低コストでの製造が可能な、直列積層構造を有する太陽電池素子を提供する。 - 特許庁

The film-shaped product having at least the network structure of 1 nm to 1 μm diameter on the surface thereof is manufactured in the electrospray deposition process using a cellulose diacetate solution prepared by dissolving cellulose diacetate in a solvent having 57-150°C boiling point.例文帳に追加

エレクトロスプレーデポジション法で沸点が５７〜１５０℃の溶媒で溶解したセルロースジアセテートの溶液を用いて、少なくとも表面に直径が１ｎｍ〜１μｍの網目構造を有するフィルム状物を製造する方法。 - 特許庁

After a support vector machine is trained using a set of the simulation diffraction signals as an input and a set of profile parameter value as an expected output, process of production is performed so that the structure may be fabricated on a wafer.例文帳に追加

入力としてシミュレート回折信号の組を、予期される出力としてプロファイルパラメータの値の組を用いて、サポートベクトルマシンが訓練された後、ウェハ上に構造を製造するように製造プロセスが実行される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element wherein, in the formation of an embedded gate structure using an epitaxial growth technology, a channel compensation process with high impurity concentration does not increase the impurity concentration at a channel part.例文帳に追加

エピタキシャル成長技術を用いた埋め込みゲート構造の形成において、高不純物濃度のチャンネル補償処理を行っても、チャンネル部不純物濃度を増加させることのない半導体素子の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a code processing device and method which enables a coding process (encoding or decoding) of specific partial tree documents of document information having a tree structure, and to provide a recording medium in which the program of the code processing is recorded.例文帳に追加

木構造を有する文書情報の、特定の部分木文書のみに暗号処理（暗号化、またはその復号化）を可能とする暗号処理装置、方法、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To permit formation through the appropriation of an MOS process and secure a sufficient collector current, in reference to a horizontal bipolar transistor having a structure optimum for forming the same on an SOI substrate.例文帳に追加

この発明は、ＳＯＩ基板上に形成するうえで好適な構造を有する横型バイポーラトランジスタに関し、ＭＯＳプロセスの流用による形成を可能とし、かつ、十分なコレクタ電流を確保することを目的とする。 - 特許庁

To provide a simple manufacturing method of an organic EL element capable of suppressing damages to the organic EL element in the manufacturing process, and to provide an organic EL element having a layered structure suitable for the manufacturing.例文帳に追加

製造過程における有機ＥＬ素子に対するダメージを抑制できる簡便な有機ＥＬ素子の製造方法、およびその製造に適した層構成を有する有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a flash memory having conductor lines (24) crossing a trench isolation structure (70) comprises forming nitride side walls (125) for protecting a laminate during an SAS etching process.例文帳に追加

溝隔離構造（７０）を横断する導電線（２４）を有するフラッシュ・メモリ装置を製造する方法であって、この方法は、ＳＡＳ食刻プロセス中に積層を保護するために窒化物側壁（１２５）を形成することを含む。 - 特許庁