「process structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

The level difference between the color filter and the black matrix can be reduced in a color filter process to obtain flatness characteristics by forming a second protective layer protecting the black matrix, heightening process stability and connecting a transparent conductive layer and a metal wiring to each other through a contact hole while an insulating layer within a pixel region and the like are maintained as it is by the structure including the second protective layer.例文帳に追加

ブラックマトリックスを保護する第２保護層を形成して、工程安定性を高めて、第２保護層を含めた構造で画素領域内絶縁層などをそのまま維持してコンタクトホールを通じて透明導電層と金属配線を連結させて、カラーフィルター工程でブラックマトリックスとの段差を縮めて、平坦化特徴を持つことが長所である。 - 特許庁

To provide a process for production of vinyl chloride for a paste excellent in surface smoothness of the foamed molding and having a fine cellular structure, and giving a foamed molding with a feeling of full volume and little decrease of thickness of the foamed molding on reheating the foamed molding to give an embossed pattern, regardless of the kind and volume of plasticizer, or and the volume of filler on blending in a foaming process.例文帳に追加

発泡加工する際、配合時の可塑剤種類、量、充填剤量に関わらず、発泡体の表面平滑性に優れ、緻密なセル構造を有し、凹凸模様を施す際の発泡体の再加熱において発泡体の厚み減少が少なく、ボリューム感のある発泡成形体となるペースト用塩化ビニル樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the deposition or application process of the electrode films 4 and 5 and the EL emission layer 3, for forming the organic EL light source 1 and a sealing process for sealing the organic EL light source 1 in the vessel 2, can be considered as separate processes in terms of reaction and conduction, the flexibility in the sealing structure and the material are increased and a further simple method can be employed.例文帳に追加

有機ＥＬ光源１を形成する電極膜４、５およびＥＬ発光層３の蒸着または塗布工程と、有機ＥＬ光源１を容器２に密閉するための封止の工程を反応や導通の面で別の工程として考えることができるので、封止構造、材料の自由度が増し、より簡易な方法が採用できる。 - 特許庁

A titanium tetrachloride solution in which, as a Ti-O bonded state decided using an extended X-ray absorption fine structure analysis process, the ratio between the content A of an anatase type bond and the content R of a rutile type bond, A/R is ≤2.2 is used as a raw material solution in the production of the powder of a titanium-based compound oxide by an oxalate process.例文帳に追加

広域Ｘ線吸収端微細構造分析法を用いて決定したＴｉ─Ｏの結合状態として、アナターゼ型結合の含有率Ａとルチル型結合の含有率Ｒの比率Ａ／Ｒが２．２以下である四塩化チタン水溶液を、シュウ酸塩法によるチタン系複合酸化物の粉末製造における原料溶液に使用する。 - 特許庁

To solve the problem that Lov dimensions in a TFT cannot be formed with excellent controllability since a resist pattern sidewall tapering angle occurs from a desired tapering angle, in a photolithography process utilizing diazo naphto quinone(DNQ)-novolac resin-based positive resist in the gate electrode formation process of a GOLD structure TFT.例文帳に追加

ＧＯＬＤ構造ＴＦＴのゲート電極形成工程のジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）−ノボラック樹脂系ポジレジストを利用するフォトリソグラフィ工程に於いて、レジストパターン側壁テーパー角が所望のテーパー角より起っている為、当該ＴＦＴのＬｏｖ寸法を制御性良く形成できない問題があり、この問題を解決することを課題とする。 - 特許庁

The forming method of the carbon nanotube structure consisting of a carbon nanotube 3 and an insulating film covering the surface of the carbon nanotube comprises a first process for growing the carbon nanotube in a growing device and a second process for coating the surface of carbon nanotube with the insulating film before taking the carbon nanotube out of the growing device.例文帳に追加

カーボンナノチューブ３と、前記カーボンナノチューブの表面を被覆する絶縁膜とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法において、前記カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第１の工程と、前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第２の工程とからなる。 - 特許庁

The production of the para-type wholly-aromatic copolyamide fiber having a fixed structure having 5-amino-2-(4-aminophenylene)benzimidazole as one component of copolymerization has 1.5 to 6 spinning draft in its coagulating process and 1.3 to 2.0 fold range stretching magnitude in its stretching process, and adjusting the tensions on a traveling fiber bundle in fixed ranges respectively.例文帳に追加

５−アミノ−２−（４−アミノフェニレン）ベンズイミダゾールを共重合一成分に持つ定構造のパラ型全芳香族コポリアミド繊維の製造にあたり、凝固工程における紡糸ドラフトが、１．５〜６であり、延伸工程における延伸倍率が、１．３〜２．０倍の範囲で、かつ走行する繊維束に掛かる張力を、それぞれ一定範囲内に調整する。 - 特許庁

To provide a method capable of using a rugged pattern formed according to an imprinting process as a mask for controlling a micropore production initiating position when performing micropore formation onto substrate material such as aluminum and silicon according to an electrochemical process and, thereby, efficiently and reliably forming a regular hole array structure.例文帳に追加

インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。 - 特許庁

In the mandrel with the composite material structure formed closely attached to an outer peripheral face, a rotation process of rotating a pair of support rings to position one segment to be removed to the highest part; and a segment removing process of removing the segment to be removed set on the highest part from the pair of the rings are performed.例文帳に追加

外周面に密着して複合材料構造物が形成されている状態のマンドレルにおいて、取外し対象である１個のセグメントを最上部に位置させるように、一対のサポートリングを回転させる回転工程と、最上部に位置した取外し対象の前記セグメントを、一対のサポートリングから取り外すセグメント取外し工程とが行われる。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrostatic filter includes a fabric preparation process of manufacturing a web using various kinds of fiber materials, and a filter fabric manufacturing process of manufacturing a felt of a layered structure by stacking at least one layer of the web, and then manufacturing an electrostatic filter material having a fiber tissue having a semipermanent electrostatic force by containing a binder and an electrostatic material into the felt.例文帳に追加

多種類の繊維素材を用いてウェブを作製する原反準備工程、及び少なくとも１つ以上のウェブを重ねて層構造としたフェルトを作製後、フェルトにバインダと静電物質を含有させて半永続的な静電気力を帯びた繊維組織を有する静電フィルタ材を製造するフィルタ原反製造工程、を含む。 - 特許庁

This method of analyzing a fuel oil includes a process for measuring ^1H-NMR spectrum of the fuel oil, and a process for finding the content rate of the conjugated diene structure in the fuel oil based on the sum of integral values of all peaks α observed as 6.1 to 6.6 ppm relative to tetramethylsilane in the ^1H-NMR spectrum.例文帳に追加

燃料油の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定する工程と、上記^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける、テトラメチルシランを基準として６．１〜６．６ｐｐｍに観測される全ピークαの積分値の合計に基づいて、上記燃料油における共役ジエン構造の含有割合を求める工程と、を有する、燃料油の分析方法。 - 特許庁

To provide a process by which a fullerene/polymer compound which contains no secondary amine in the structure, is neutral, and is water-soluble to water-dispersible or silicone-soluble to silicone-dispersible is produced in an extremely high yield without influencing the activity of the fullerene; a fullerene/polymer compound obtained by the process; and a cosmetic preparation containing the compound.例文帳に追加

２級アミンを構造中に有することがなく中性で、フラーレンの活性への影響を与えることなく、極めて高収率で、水溶性〜水分散性あるいはシリコーン可溶性〜分散性のフラーレン−ポリマー結合体を製造する方法、並びに該製造方法により得られるフラーレン−ポリマー結合体およびそれを含有する化粧料を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a structure having an electrode bump has a process for preparing a substrate having wiring in which a single or a plurality of electrode bumps are formed, and a process for giving a spring function to a location by partially removing the back side of the location in which the electrode bumps are formed.例文帳に追加

そこで、本発明は単数或いは複数の電極バンプが形成された配線を有する基板を用意する工程と前記電極バンプが形成された個所の裏面側を一部除去することにより、前記個所にバネの機能を付与する工程とを備える電極バンプを有する構造体の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The process for producing mesoporous silica particles relates to a process for producing mesoporous silica particles having a meso-micropore structure and includes a step to conduct a reaction in which not less than one kind of a surfactant (a) selected from among cationic surfactants and nonionic surfactants and a silica source (b) are added over time to a water-containing reaction medium (A).例文帳に追加

メソ細孔構造を有するメソポーラスシリカ粒子の製造方法であって、水を含有する反応溶媒（Ａ）に、陽イオン界面活性剤及び非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤（ａ）とシリカ源（ｂ）とを経時的に添加して反応を行う工程を含む、メソポーラスシリカ粒子の製造方法である。 - 特許庁

To heighten the mechanical strength of a sheet-like structure in the present embodiment to improve its resistance to applied load, to reduce heat resistance between a heat generating body and a heat radiating body even when excessive load is applied in a reflow process, and to make it easy to adjust the applied load in the reflow process.例文帳に追加

本実施例におけるシート状構造体は、機械的強度を高め、加えられる荷重に対する耐性を向上させること、リフロー工程において過大な荷重が加えられた場合でも、発熱体と放熱体の間の熱抵抗を低くすること、及びリフロー工程において加えられる荷重の調整を容易にすることを目的とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical recording medium having a tightly laminated structure by sticking two substrates together while the information recording layer formed on one principal face of the substrates is arranged as an inner face, the method includes a process of applying an adhesive to the substrate and a process of sticking the substrates together in a vacuum atmosphere.例文帳に追加

基板の一主面に形成されている情報記録層部を内面にして２枚の基板を貼り合わせた密着貼り合わせ構造の光記録媒体の製造方法において、前記基板の上に接着剤を塗布する工程と真空雰囲気中で前記基板を貼り合わせる工程を含む光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

Processes for forming the ridge stripe structure (9) includes a first etching process for dry-etching a second conductive type second clad layer 7 leaving a prescribed thickness, and a second etching process for wet-etching and removing the second conductive type second clad layer 7 having the prescribed thickness to a second conductive type etching stop layer 6.例文帳に追加

リッジストライプ構造（９）を形成する工程は、ドライエッチングにより、第２導電型の第２クラッド層７を所定の厚さ残してエッチングする第１のエッチング工程と、ウエットエッチングにより、所定の厚さ残した第２導電型の第２クラッド層７を第２導電型のエッチングストップ層６までエッチングして除去する第２のエッチング工程とを有する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing slurry composition which is particularly useful for a chemical mechanical polishing (CMP) process of a STI (shallow-trench isolation) process forming a semiconductor multilayer structure, minimizes the occurrence of fine scratches, and has a high polishing selection rate of an oxide film to a nitride film.例文帳に追加

半導体多層構造を形成するためのＳＴＩ(Ｓｈａｌｌｏｗ Ｔｒｅｎｃｈ Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ)工程の化学的機械的研磨(Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：ＣＭＰ)工程に特に有用であり、微細スクラッチの発生を最小化し、酸化膜と窒化膜の研磨選択比が高い化学的機械的研磨スラリー組成物を提供する。 - 特許庁

The method for producing the thermosetting resin having a benzoxazine ring structure includes (1) a process for reacting a bifunctional phenol compound, a diamine compound, and an aldehyde compound in a mixed solvent of an aromatic nonpolar solvent and a 1-4C alcohol and (2) a process for cleaning the reaction solution with a basic aqueous solution after the reaction is completed.例文帳に追加

本発明は、（１）二官能フェノール化合物と、ジアミン化合物と、アルデヒド化合物とを、芳香族系の非極性溶媒と炭素数が１〜４であるアルコールとの混合溶媒中で反応させる工程と、（２）反応終了後、反応溶液を塩基性水溶液で洗浄する工程とを含む、ベンゾオキサジン環構造を有する熱硬化性樹脂の製造方法、に係る。 - 特許庁

A double annealing process is carried out to remove a magnetization probe failure while a low magnetic field is successively applied in a state wherein a magnetization probe failure occurs when a high magnetic field is applied in a process of forming the MTJ cell of a magnetic RAM having a SAF structure, so that the MTJ cell of the magnetic RAM improved in uniformity in the direction of spin can be formed.例文帳に追加

本発明は、ＳＡＦ構造のマグネチックラムのＭＴＪセル形成工程時に高い磁場の印加による磁化プローブ不良が発生した状態で順次に低い磁場の印加による２重アニーリング工程を実施して磁化プローブ不良を除去し、スピン方向の均一性を向上させたマグネチックラムのＭＴＪセルを形成することができる。 - 特許庁

Related to the method for manufacturing a semiconductor storage device having a self-align source structure, a process in which an almost linear element separation region, passing through the source region and the gate region, is formed on a silicon substrate, comprises a process in which the width of element separation region of the source region is formed narrower than that of the gate region.例文帳に追加

セルフアラインソース構造を有する半導体記憶装置の製造方法において、シリコン基板上にソース領域とゲート領域とを通る略直線状の素子分離領域を形成する分離領域形成工程が、ソース領域の素子分離領域の幅を、ゲート領域の素子分離領域の幅より狭く形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide a disposable process case for a contact lens of a novel structure with which processing, such as preserving, disinfecting or sterilizing, of the contact lens can be carried out simply without separately preparing a necessary processing liquid at the time of subjecting the contact lens to such processing by using the process case and the availability of the contact lens can be greatly improved by the processing.例文帳に追加

処理ケースを用いてコンタクトレンズを保存，消毒，或いは殺菌等の処理するに際して、必要な処理液を別途に準備することなく、そのような処理を簡便に行うことが出来、それによってコンタクトレンズの利用性が大幅に向上され得る、新規な構造のコンタクトレンズ用の使い捨て処理ケースを提供すること。 - 特許庁

To provide a plant operation control device capable of appropriately adjusting parameters of a process model in response to a change in process structure of an object plant by secular change by seasonal fluctuation, replacement of plant equipment or the like, thus improving control performance such as flow control or water quality control related to the plant equipment.例文帳に追加

プロセスモデルのパラメータを、季節の変動などによる経年変化やプラント機器の交換などによる対象プラントのプロセス構成の変化に対して適切に調整することができ、このことによりプラント機器に係る流量制御や水質制御等の制御性能を向上させることができるプラント運用制御装置を提供すること。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film having phase separation structure and an anisotropy evaluation value of 0.70 or below which is a polyester film formed from a mixture comprising at least two polyesters is obtained by a resin melting/extruding process in which a shear rate is increased sharply in terms of a space or in terms of time and a succeeding orientation process.例文帳に追加

２種以上のポリエステルの混合物からなるポリエステルフィルムであって、空間的及び又は時間的にせん断速度を急激に増加させるような樹脂溶融押出し工程とその後の延伸工程によって得られる、相分離構造を有し、かつ等方性評価値が０．７０以下であることを特徴とする２軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁

This invention relates to the followings: a nucleating agent for producing a polyurethane foam containing nanoparticles; the polyurethane foam containing nanoparticles; the use of the nucleating agent for producing the polyurethane foam; a method for controlling a cell structure using the nucleating agent; a process for producing the polyurethane foam; and a system for performing a process including independent individual components.例文帳に追加

本発明は、ナノ粒子を含むポリウレタンフォーム製造のための成核剤、ナノ粒子を含むポリウレタンフォーム、ポリウレタンフォームを製造するための成核剤の使用、成核剤を使用した、セル構造を調節するための方法、ポリウレタンフォームを製造するためのプロセス、および、独立した個々の成分を含むプロセスを実施するためのシステムに関する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element having a bump structure which reduces external stress to be generated in a manufacturing process of the element, especially, in a rear face polishing process, and less damages an interlayer insulation film which constitutes a circuit, and also to provide its manufacturing method, and a semiconductor device including the semiconductor element and its manufacturing method.例文帳に追加

半導体素子の製造工程、特に半導体素子の裏面研磨工程で生じる外的応力を緩和し、回路を構成する層間絶縁膜へのダメージを軽減できるバンプ構造を備えた半導体素子及びその製造方法、並びにこの半導体素子を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, a method of manufacturing a BEOL interconnection structure includes (i) a method of forming a high-density TDL in an opening of the ULK dielectric bored by etching, and (ii) a method of arranging the ULK dielectric in a process chamber on a cold chuck, putting a seal agent into the process chamber and further performing an activating step.例文帳に追加

また、後工程相互接続構造の作製方法が開示され、この方法は、（ｉ）超低Ｋ誘電体のエッチングされた開口に高密度薄膜誘電体層を生成する方法、および（ｉｉ）超低Ｋ誘電体を低温チャック上でプロセス・チャンバ中に配置し、封止剤をプロセス・チャンバに加え、さらに活性化ステップを行なう方法を含む。 - 特許庁

A semiconductor device manufacturing method comprises: (a) a process of applying a resin member 3 on a surface of a semiconductor wafer 1 having a stepped structure 2 on a first principal surface; and (b) a process of flattening a surface of the resin member 3 by heating the resin member 3, and the resin member 3 is formed on a lateral surface of the semiconductor wafer 1.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）第１主面に段差構造２を有する半導体ウェハ１の表面上に樹脂部材３を塗布する工程と、（ｂ）樹脂部材３を加熱して、当該樹脂部材３の表面を平坦化する工程とを備え、樹脂部材３は半導体ウェハ１側面上にも形成されている。 - 特許庁

In a method for selectively forming a germanium structure in a semiconductor manufacturing process, a native oxide is removed in a chemical oxide removing (COR) process, then surfaces of heated nitride and oxide are exposed to a germanium-containing gas to selectively form the germanium only on the surface of the nitride, not on the surface of the oxide.例文帳に追加

半導体製造プロセス中でゲルマニウム構造体を選択的に形成する方法は、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスにおいて自然酸化物を除去し、次いで、加熱された窒化物及び酸化物表面を加熱されたゲルマニウム含有ガスに曝して、ゲルマニウムを選択的に窒化物表面上にだけ形成し、酸化物表面上には形成しない。 - 特許庁

The manufacturing method for the plate-like frame-equipped UIM has: a process for mounting the IC module onto a minisize UIM position of the card substrate; and a process for forming the outer shapes of the minisize UIM and the normal size UIM having the inner frame structure engaging with the minisize UIM to hold it by the peripheral slits.例文帳に追加

本製造方法は、上記の板状枠体付きＵＩＭの製造方法において、カード基板のミニサイズＵＩＭ位置にＩＣモジュールを装着する工程と、ミニサイズＵＩＭと、当該ミニサイズＵＩＭを嵌合して保持する内枠構造を有する通常サイズＵＩＭの外形形状を周縁スリットにより形成する工程と、を備えた。 - 特許庁

Further, since an end of the terminal connection part 35 is open-ended, a process of conducting between the center electrodes 2, 12 or between outer electrodes 4, 14, or even a process of securing insulation between the center electrodes 2, 12 and the outer electrodes 4, 14 are easily carried out, so that automatization is easy and rationalization of works is easier than in a conventional structure.例文帳に追加

また、端末接続部３５の一端が開放端となっているので、中心電極２、１２同士や外側電極４、１４同士を導通させる加工や、中心電極２、１２と外側電極４、１４との絶縁を確保する加工等がやり易く、機械化も容易に可能で、従来の構成よりも作業の合理化ができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing CV cable capable of simplifying a process, reducing work load and cost by eliminating labor for carrying drums winding up cable core one by one for heating process to eliminate methane gas from CV cable and eliminating necessity of providing special equipment and structure such as heater line on the cable conductive body.例文帳に追加

ＣＶケーブルコアのメタンガス除去のための加温工程を行うのにケーブルコアを巻き取ったドラムごと運搬する手間をなくし、かつ、ケーブル導体にヒータ線など特別の機器・構造を設ける必要も無くして工程の簡単化かつ作業負荷を軽減してコスト低減を図ることができるＣＶケーブルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an outguide fishing rod of unified structure with a combination of a solid pipe with a hollow pipe or mutual combination of two hollow pipes, so designed that the junction is strengthened and the joint cannot be seen, and also producible through highly efficient working processes involving fishline guide mounting process and reinforcing process.例文帳に追加

中実管と中空管、または中空管同志を組み合わせて一体化した構造よりなるアウトガイド竿において、その結合部分が強化され且つ継ぎ目が見えない用の釣竿を提供すること、更には、竿の製造においても、糸ガイドの取り付け工程や補強工程を含む加工工程が極めて効率よく行えるアウトガイド用の釣竿を提供すること。 - 特許庁

Further, the observation method for observing the cross section of the semiconductor device includes a process for observing the cross section of the specific place of the semiconductor device by a scanning microscope and a process for forming the protective film of an amorphous structure to the cross section and further observing the cross section by the transmission type electron microscope through the protective film.例文帳に追加

また、半導体デバイスの断面を観察する観察方法において、前記半導体デバイスの特定箇所の断面を走査型顕微鏡で観察する工程と；前記断面に非晶質構造の保護膜を形成し、当該保護膜を透して透過型電子顕微鏡によって前記断面を更に観察する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pad for fire prevention process with the penetration part of a flammable long body which is easily constructed, reusable after decomposition, easy to follow a rough curved surface, wherein a gap between the flammable long body and the inner peripheral surface of an opening is sufficiently filled, and an operator feels no discomfort, and also to provide a fire prevention process structure using the same.例文帳に追加

施工が簡単で、解体後の再使用もでき、凹凸のある曲面になじみ易く、可燃性長尺体と開口内周面の間の空隙を十分に埋めることができ、作業者に不快感を与えることのない可燃性長尺体貫通部の防火処理用パッドと、それを用いた防火処理構造を提供する。 - 特許庁

To provide a producing method for a high toughness rail by which toughness is moreover imparted to steel with a pearlitic structure of high carbon excellent in strength and wear resistance by suppressing the growth of recrystallized fine grains γ in the process of rolling and after rolling.例文帳に追加

圧延中および圧延後の再結晶細粒γの粒成長を抑制することで、強度と耐摩耗性に優れた高炭素のパーライト組織を呈した鋼に、さらに靭性を付与した高靭性レールの製造法を提供する。 - 特許庁

To prevent the number of equipment and tanks from increasing in the case where a biological deodorization system is employed for deodorization of a gas and to lower the consumption of chemical agent in the deodorization process in a high deodorization efficiency without making the structure of the equipment complicated.例文帳に追加

ガスの脱臭に生物脱臭装置を用いた場合に機器及びタンクの数が多くなる欠点を解消し、装置の構造を複雑にすることなく高い脱臭効率で脱臭工程での薬品使用量を低減する。 - 特許庁

A connection layer for connecting the semiconductor element 1 and a base material 2c has a laminated structure of an air gap layer 13 and a bonding layer 7, and consequently, a gas can be dissipated efficiently d to the outside of the connection layer in a process of connection.例文帳に追加

半導体素子１を基材２に接続するための接続層が、空隙層１３と、接合層７との積層構造となっていることにより、接続の過程でガスを効率よく接続層の外部に放散することができる。 - 特許庁

A structure is provided for making the engaging part of the shaft coupling member movable in a direction crossing with the axial direction of the developing roller to the position deviated from the axial line of the developing roller, when the process cartridge is mounted on the device body in the development disengaged situation.例文帳に追加

現像離間の状態でプロセスカートリッジを装置本体に装着する際に、現像ローラの軸線とズレた位置に、軸継手部材の係合部を、現像ローラの軸線と交差する方向に移動可能に保持する構成。 - 特許庁

To reduce the number of parts and working process required for mounting by fixing a sensor using one fastener and by a positioning part preventing the sensor from rotating, in a sensor mounting structure for fixing the sensor to an intake manifold.例文帳に追加

センサをインテークマニホールドに固定するためのセンサ取付構造であって、センサを１個の締結具で固定すると共に、位置決め部によりセンサの回転を阻止することによって、部品点数および取付に必要な作業工程を削減する。 - 特許庁

A center support structure 60 is provided with an interface part 56 for interfacing with a process device 55 exposed at the bottom of the shell 58 and an integrally structured wafer support column 92 extending upward in the module 20 for supporting a wafer 38.例文帳に追加

中央支持構造６０はシェル５８の底部において露出する処理装置５５とのインターフェース部５６と、ウェハー３８を支持するためにウェハー搬送モジュール２０内を上方に延びる一体構造のウェハー支持コラム９２とを有する。 - 特許庁

To prevent a metal from obstructed in being silicification due to carbide, even though a resist material is knocked on a polysilicon and injected thereinto to generate the carbide, when injecting ions into the gate-polysilicon through using the resist as a mask in the dual gate process of a salicide structure.例文帳に追加

サリサイド構造のデュアルゲートプロセスにおいて、ゲートポリシリコンへのレジストをマスクとしたイオン注入で、レジスト材料がポリシリコンへノックオン注入されて炭化物が生ずるが、この炭化物によるシリサイド化の阻害を防止する。 - 特許庁

To simplify the mechanical structure for a device, to facilitate system control and maintenance, thereby to enhance process performance, and in particular, to allow refinement and analysis for polychrolinated-dibenzo-p-dioxins and PCB.例文帳に追加

本発明は、装置の機械的構造を簡素化し、それによってシステム制御とメンテナンスを容易化し、処理性能の向上化を図るとともに、とりわけダイオキシン類とＰＣＢを精製・分析できる装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

A slider support beam 11, a bending part 13, a slider support 14 and a wiring structure 12 are formed on the basis of an etching process to a multilayer sheet 20 comprising a metallic material 21, an insulation material 22, and a conductive material 23.例文帳に追加

スライダ支持ビーム１１、たわみ部１３、スライダ支持部１４および配線構造体１２が、金属材料２１、絶縁材料２２および導電性材料２３の積層シート２０に対するエッチング処理に基づいて形成されている。 - 特許庁

To provide a plasma display which can enhance quality of a display screen, can simplify a structure, can shorten a manufacturing process, can reduce a cost of a manufacturing facility and can decrease a cost of a product and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

表示面の高品質化を図ることができ、しかも、構造の簡単化、製造工程の短縮化、製造設備のコスト低減、製品のコスト削減等を図ることができるプラズマディスプレイ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁