| 意味 | 例文 |
process structureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4062件
To provide a method for manufacturing a silicon carbide mold, by which a mold having a fine periodic structure with an inclined cross-sectional shape suitable for molding of glass or the like, in a mold having a fine periodic structure and using silicon carbide (SiC) as a base material, is formed with satisfactory reproducibility by a relatively simple process.例文帳に追加
炭化ケイ素(炭化ケイ素)を母材とする微細周期構造を有するモールドにおいて、ガラスの成型などの用途に適した傾斜した断面形状の微細周期構造を有するモールドを、比較的簡単な方法によって再現性良く形成出来る方法を提供する。 - 特許庁
An aero-gel is formed by immersing a fiber structure in an aero-gel precursor and subjecting the product to an ultra-critical drying process, and the vacuum heat insulating material is formed by accommodating a composite 11 consisting of the aero-gel and the fiber structure as a core material in an armouring 12 of non-aeration nature, followed by evacuation.例文帳に追加
エアロゲル前駆体に繊維構造物を浸漬して超臨界乾燥によりエアロゲルを生成せしめてなるエアロゲルと繊維構造物との複合体(11)をコア材として、非通気性の外装体(12)内に収容し、真空引きしてなる真空断熱材である。 - 特許庁
To provide an acceleration sensor, which has a stopper structure, especially a stopper structure manufactured by a micromachining process, capable of preventing such a fault that a deadweight and a stopper part are bonded, and a manufacturing method of the acceleration sensor.例文帳に追加
ストッパー構造を有する加速度センサ、特に微細加工プロセスによって製造されるストッパー構造を有する加速度センサにおいて、錘とストッパー部とが接着してしまう不具合を解消することが可能となる加速度センサ及び加速度センサの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor element capable of preventing the occurrence of a film-thinning phenomenon for relatively thinning the thickness of an oxide film at a boundary surface between an STI(Shallow Trench Isolation) structure and a thick gate oxide film, when a dual gate oxide film process is applied to the normal STI structure.例文帳に追加
ノーマルSTI(normal Shallow Trench Isolation)構造にデュアルゲート酸化膜工程を適用する際に、STIと厚いゲート酸化膜の境界面で前記酸化膜の厚さが相対的に薄くなる薄膜化現象が惹起されることを防ぐことができる半導体素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide an absorbent structure, its production process, and an absorbent article comprising said absorbent structure in which a water-absorbent resin appropriately available for a thin absorbent article increasing a quantity of the water-absorbent resin to be used is fixed, the restrictions, due to this fixation, on the swelling are small, and absorbent properties are excellent.例文帳に追加
吸水性樹脂の使用量が増加した薄型の吸収性物品に好適に使用できる吸水性樹脂が固定化されており、かつ、固定化による膨潤規制が少なく、吸収特性に優れた吸収体、その製造方法およびそれを用いた吸収性物品を提供する。 - 特許庁
To provide a connection structure and a connection method of a circuit board and a surface-mounting connector, in which the manufacturing cost can be reduced by facilitating insertion and extraction of a cable and by reducing component mounting process in the circuit board, and to provide a storage device having this connecting structure.例文帳に追加
ケーブルの挿抜を容易にし、回路基板における部品実装工程を削減して製造コストを低減することができる、回路基板と表面実装式コネクタとの接続構造及び接続方法、並び、該接続構造を備えた記録装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a packaging substrate structure applicable to fine pitch formation of the packaging substrate structure and quality improvement of an under filling process, capable of solving a connection failure caused by nonuniform solder bumps, and of improving reliability of a product, and manufacturable at economical cost; and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
実装基板構造物のファインピッチ化とアンダーフィリング・プロセスの品質向上に適用可能とし、かつ、不均一なはんだバンプにより発生する接続不良を解決し、製品の信頼性を向上させ、経済的なコストで製造可能な実装基板構造物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a processing device having a compact stage structure that can irradiate respective surfaces of an object to be processed which has a three-dimensional structure with a gas cluster ion beam and can measure a beam current value and a beam current distribution at an irradiation position on a surface of the object to be processed even during the process.例文帳に追加
3次元構造をもつ加工対象物の各面にガスクラスターイオンビームを照射することができ、かつ各加工対象面の照射位置におけるビーム電流値やビーム電流分布をプロセス中にも計測可能なコンパクトなステージ構造を有する加工装置を提供する。 - 特許庁
The interconnection structure of the invention has improved technical extensibility for semiconductor society compared with the interconnection structure of the prior art in which a barrier material is formed by a conventional PVD process, conventional ionized plasma deposition, CVD, or ALD.例文帳に追加
本発明の相互接続構造体は、従来のPVDプロセス、従来のイオン化プラズマ堆積、CVD、又はALDによってバリア材料が形成される従来技術の相互接続構造体と比べると、半導体業界のための改善された技術拡張性を有する。 - 特許庁
To provide an electromagnetic wave shield sheet with a new structure, which has a novel grounding structure which makes direct connection to an outer earth terminal possible, which achieves reduction in the cost of a plasma display device without applying a special design to and giving a twist to the plasma display, and on which a scratch is not easily made in a manufacturing process.例文帳に追加
外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。 - 特許庁
A semiconductor substrate having a protruding/recessed structure only on the surface of the semiconductor substrate other than a region for forming the light receiving surface electrodes and not having the protruding/recessed structure in the region for forming the light receiving surface electrodes can be obtained by an ink jet method where the process is simple and the apparatus cost is low.例文帳に追加
プロセスが簡単で装置コストが安いインクジェット法でもって、受光面電極形成領域以外の半導体基板表面にのみ凹凸構造を有し、受光面電極形成領域には凹凸構造を有さない半導体基板を得ることができる。 - 特許庁
This method for forming a three-dimensional structure includes a first process of dropping a liquid material with a structure-forming material dispersed or dissolved therein onto a substrate or an object arranged on the substrate, and drying a part or all of a solvent in the liquid material to form a dried body.例文帳に追加
本発明の立体構造物の形成方法は、構造物形成材料を分散または溶解させた液体材料を基板上または基板上に配置された物体に滴下し、液体材料の溶媒の一部または全てを乾燥させて乾燥体を形成する第1の工程を有する。 - 特許庁
The protective film laminated fine structure is adapted in a process using a liquefied or supercritical fluid before it is dried in a high pressure container, a protective film comprising a highly viscous substance is formed on the surface of the fine structure.例文帳に追加
高圧容器内で液化または超臨界流体を用いて微細構造体を乾燥する前の工程において用いられるものであって、微細構造体表面に高粘度物質による保護膜が形成されていることを特徴とする保護膜積層微細構造体である。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor wafer structure which makes the interior of a wafer surface uniform in reflection factor, in order to acquire an uniform temperature change over a wafer whole region, when a rapid thermal annealing process of a semiconductor structure including a combination of different semiconductor materials is carried out.例文帳に追加
異なる半導体材料の組み合わせを含む半導体構造の急速熱アニール・プロセスを実施する時に、ウェハ全域にわたる一様な温度変化を得るため、ウエハー面内を一様な反射率にする半導体ウェハ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁
Thus, cleaning of a pad structure 100 by use of water can suppress the remainder of dicing waste and the like in the recess 112, even if the dicing waste and the like generated at dicing is adhered to the recess 112, when the pad structure 100 is manufactured using a wafer process.例文帳に追加
ゆえに、ウエハプロセスを用いてパッド構造100を製造する際に、ダイシングの際に発生するダイシング屑などが凹部112に付着したとしても、水を用いてパッド構造100を洗浄すると、ダイシング屑などが凹部112に残存することを抑制することができる。 - 特許庁
To provide a firing method for preventing the crack due to the thermal stress caused by a temperature difference in the central part, outer peripheral part and/or upper and lower parts of a honeycomb structure in a warm-up process in firing the large-sized honeycomb structure of an external diameter ≥150 mm and length ≥150 mm.例文帳に追加
外径150mm以上、長さ150mm以上の大型ハニカム構造体を焼成するにあたり、昇温過程での、ハニカム構造体の中心部、外周部及び/または上下部の温度差から発生する熱応力による割れを防止しできる、焼成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mold for molding a honeycomb structure capable of more enhancing the compactness of a material immediately after extruded from a slit groove than before and capable of suppressing the occurrence of trouble such as a crack or the like in the honeycomb structure in the process after molding, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
スリット溝から押し出された直後の材料の緻密性を従来よりも高めることができ、成形後の工程においてハニカム構造体にクラック等の不具合が発生することを抑制できるハニカム構造体成形用金型及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
In the following process of creating a second impervious structure extending from a second top end height H2 at a position higher than the water level at the high tide in the construction water area to the intra-dike bottom surface part, the influence of the uplift pressure from the outside of the dike is eliminated by the first impervious structure 24.例文帳に追加
以後の、施工水域の満潮時の水位よりも高位置の第2の天端高H2から堤内底面部に至る第2の遮水構造体を造成する工程では、第1の遮水構造体24により、堤外からの揚圧力の影響を排除する。 - 特許庁
In the manufacturing method of a structure using oxide superconductive conductor, a process of partial melting by rotating the structure with a horizontal axle as a rotating axis is included.例文帳に追加
酸化物超伝導体を用いて構造体を製造する方法において、水平方向の軸を回転軸として構造体を回転させながら部分溶融する工程を含むことを特徴とする酸化物超伝導体構造体の製造方法、及びこれを適用した製造装置。 - 特許庁
To simplify a manufacturing process, by providing a structure capable of improving measuring accuracy, in an optical interference type vibration sensor of a structure having an optical fiber for forming a half mirror film on the tip and a vibrator part for forming a total reflection film on the side opposed to the half mirror film.例文帳に追加
先端にハーフミラー膜が形成された光ファイバーと、当該ハーフミラー膜と対向する側に全反射膜が形成された振動子部を有する構造の光干渉型振動センサにおいて、測定精度を向上し得る構造を提供するとともに、製造工程の簡略化を図る。 - 特許庁
A new area secure command process part 31 called by the new area secure command 21 secures a collective secure area 51 which is an integral multiples of the area of the structure for a first area securing request and cuts out an area for the structure from the area and allocates it.例文帳に追加
新領域確保命令21によって呼び出される新領域確保命令処理部31は,最初の領域確保要求に対して構造体の領域の整数倍以上の一括確保領域51を確保し,そこから構造体の領域を切り出して割り当てる。 - 特許庁
To provide a floor material and the laying structure of the floor material of which the number of processes and execution period of works can be reduced without laying finishes and no termite prevention process is needed.例文帳に追加
仕上げ材を敷設することなく施工工程数および施工期間の短縮化を図ることができ、また、防蟻処理の必要がない床材および床材の設置構造を提供すること。 - 特許庁
To provide an effective production method for a sputtering target large in scale and also having a fully homogenous fine structure, without a conventional process requiring long term and high-load energy.例文帳に追加
長時間かつエネルギー高負荷的な従来の圧延工程を要せずして、大型でかつ良好な均一微細組織を有するスパッタリングターゲットを製造するための効率的な方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a cemented body which has high cementing strength and has high reliability even for a member with a three-dimensional structure and a complicated shape and a method for manufacturing the cemented body by a convenient process.例文帳に追加
高い接合強度を有し、三次元構造をした複雑な形状を有する部材でも信頼性の高い接合体とその接合体を簡便な工程で製造する製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a cinerary box storing a cinerary urn on a wall surface of the body fitly, maintaining the structure not to be out of alignment afterward, and performing the storing process of the cinerary urn safely and easily.例文帳に追加
骨壷を骨箱本体の壁面にぴったり収納でき、後からズレたりしない構造を維持しつつ、骨壷の収納作業を安全かつ容易に実施できるようにした骨箱を提供する。 - 特許庁
Especially, the rubber coated textiles 11, 12, 13 improve a vulcanization process of the tire 1 by restricting belt layers under them 11, 12, 13 to reduce occurrence of 'flat spotting' and to ensure light weight structure of the tire 1.例文帳に追加
特に、ゴム被覆織地11、12、13は、その下方のベルト層を拘束することによりタイヤ1の加硫工程を改良し、「フラットスポッティング」の発生を軽減し且つより軽量なタイヤ1の構造とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a display panel alleviating characteristics degradation of a protective film in a sealing process, without complicating a conventional panel structure and equipment for a manufacturing device.例文帳に追加
本発明は、従来のパネル構造と製造装置の設備を複雑化することなく、封着工程における保護膜の特性劣化を低減させる表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a block type electronic component having a structure capable of following a change in a peripheral temperature and a change in the heating of a component body during the use thereof without generating cracks or breakages on a ceramic chip in a manufacturing process.例文帳に追加
製造過程でセラミックチップの欠けや割れを発生させることがなく、使用時に周囲温度の変化や部品本体の発熱の変化に追従できる構造のブロック型電子部品を提供する。 - 特許庁
To provide support structure of machine glazed paper simple in constitution, capable of eliminating a machine glazed paper guide as an accessory and without loss of the machine glazed paper guide and forgetting to put it in a manufacturing process.例文帳に追加
簡単な構成であり、付属品としてのロール紙ガイドを抹消することができて、ロール紙ガイドの紛失と製造工程での入れ忘れが発生することがないロール紙の支持構造を提供する。 - 特許庁
To provide a chemical formulation which enables the effective removal of a residue following a resist ashing process, wherein there is no possibility of attacking and breaking a brittle structure to be left on a wafer.例文帳に追加
レジストアッシング工程に続いて残留物を効果的に除去する化学処方物であって、ウエハ上に残ることになる脆い構造を攻撃せずかつ分解するおそれのないものを提供すること。 - 特許庁
To provide an air compressor in which its structure is simple and pressure loss is not caused in a dehumidification stroke, avoiding necessity for a draining process and supplying compressed heat-removed air continuously.例文帳に追加
構造が簡単で、除湿行程の圧力損失を伴わず、ドレインの処理が不要であり、かつ圧縮された除熱空気を連続して供給するようにした空気圧縮装置を提供する。 - 特許庁
The substance is produced by a process in which after the mother body of the bismuth oxide layered structure is synthesized, the elements mainly comprising the transition metal are inserted between the double bismuth oxide (Bi_2O_2) layers.例文帳に追加
また本物質の製造を、ビスマス酸化物層状構造体の母体を合成した後、遷移金属を主体とする元素を二重酸化ビスマス層(Bi2O2)の層間に挿入させて行う。 - 特許庁
To provide a method for forming in a semiconductor device a shallow trench isolating member which endures the follow-on oxidation treatment process and excludes stress inducing damages, and to provide a structure obtained by the method.例文帳に追加
後での酸化処理工程に耐えかつストレス誘起損傷のない浅いトレンチ分離体を半導体デバイスの中に作成する方法およびその方法により得られる構造体を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device high in transmittance by minimizing a stacking margin, having a structure for simplifying its manufacturing process and capable of preventing thermal oxidation of a black matrix, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
合着マージンを最小化して透過率を高め、また、工程単純化の構造を持ち、さらに、ブラックマトリックスの熱酸化を防止できる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an arrangement structure of the ballast water treatment device in the tanker that can safely process the ballast water and enables a simple design change without the need of a large design change work.例文帳に追加
安全にバラスト水の処理を行うことができ、また、大幅な設計変更作業が必要なく、簡易な設計変更を可能とするタンカーにおけるバラスト水処理装置の配置構造を提供する。 - 特許庁
The serially connected capacitive elements can be manufactured by using the usual manufacturing process of a compound semiconductor element, and the structure of this device eliminates the necessity of providing a special protective diode.例文帳に追加
直列接続された容量素子は、化合物半導体素子の通常の製造プロセスを用いて製造でき、また、本発明の構造であれば、特別に保護ダイオードを設けるといった必要がない。 - 特許庁
To provide a two tone color structure and a forming method capable of eliminating the coating of an interlaminar PVC and an one-pack type urethane, reducing the discharge of a solvent and removing a color 1 masking process.例文帳に追加
層間PVC、1液ウレタンの塗布を省略でき、ブース内空調エネルギー、溶剤排出を低減でき、色1マスキング工程を除去できるツートンカラー構造とその形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a method for forming a tungsten wiring having low electric resistance by omitting a process of forming a barrier metal film and increasing a grain size of tungsten, in forming a metal wiring of a damascene structure.例文帳に追加
ダマシン構造の金属配線形成において、バリアメタル膜形成工程を省略し、タングステンのグレインサイズを大きくし、電気抵抗の低いタングステン配線を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a bicycle component having a coupling portion assuring the accuracy and the robustness of the coupling by a simple structure, obtaining relative simplicity and a low cost manufacturing process or coupling thereof.例文帳に追加
簡単な構成で結合の正確度と頑丈さとを保証し、相対的な簡素さと低コストの製造工程とを実現する結合部を有する自転車用品、もしくは該結合を提供する。 - 特許庁
To cope with both the cost reduction and the high frequency response characteristics of a longitudinal NPN bipolar transistor having a polysilicon emitter electrode structure, by controlling the current amplification factor of the transistor without adding any process.例文帳に追加
ポリシリコンエミッタ電極構造の縦型NPNバイポーラトランジスタの電流増幅率を、何らの工程を付加することなく制御し、低コスト化とバイポーラトランジスタの高周波数応答特性とを両立させる。 - 特許庁
Through the atomic layer deposition process, a silicon-rich nanocrystal structure that includes silicon-rich insulating layers and silicon-rich nanocrystal layers, and having a high silicon content and superior step coverage can be formed.例文帳に追加
原子層蒸着工程を通じてシリコンリッチ絶縁層とシリコンリッチナノクリスタル層を含んで高いシリコン含量と優れた段差塗布性を有するシリコンリッチナノクリスタル構造物を形成することができる。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display cell structure capable of setting such boundary conditions that liquid crystal molecules are aligned in a favorable alignment state, and to provide a manufacturing process of a liquid crystal display substrate.例文帳に追加
液晶分子が望ましい配向状態となるような境界条件を設定することが出来る液晶ディスプレイセル構造および液晶ディスプレイ基板の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a high vacuum die-casting apparatus capable of stably keeping a vacuum degree for a long period of time and having a sealing structure without sucking the outer atmosphere even in either case of before or after a injection process.例文帳に追加
長期的に安定して真空度が維持でき、かつ射出動作前/後のどちらであっても外部雰囲気を吸いこむことが無い密封構造を有する高真空ダイカスト装置を提供する。 - 特許庁
To develop a method for producing a group II-VI compound semiconductor having twin crystal structure under milder reaction conditions rather than a hydrothermal synthesis process which is conducted at high temperatures and high pressures.例文帳に追加
高温・高圧条件下で実施される水熱合成法ではなく、より穏和な反応条件の下で、双晶構造を有するII-VI族化合物半導体を製造する方法を開発すること。 - 特許庁
In the method of forming the conductive thin film, when a texture structure of a conductive thin film 4 is formed, Ag containing aluminum nitride is used as the raw material, and a vacuum deposition process is used.例文帳に追加
導電性薄膜4のテクスチャー構造を形成するに当たり、窒化アルミニウムを含有したAgを原材料として用い、かつ真空成膜プロセスを使用する導電性薄膜の形成方法である、 - 特許庁
To provide a semiconductor storage device whose structure and manufacturing process are simple and capable of facilitating countermeasures to any software error even when a charge quantity for storage is small, and saving stand-by failure.例文帳に追加
記憶保持のための電荷量が少ない場合でもソフトエラーに強く、かつスタンバイ不良を救済することができる、構造及びその製造工程が簡素な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
To provide a lead wire processing structure for an interphone which can reliably process lead wires inexpensively and easily, without using a special binding band with few limitations on this design.例文帳に追加
専用の結束帯を使用せず、筐体のボスの有無に関係なく、設計上の制限も少なく、安価で容易にかつ確実にリード線処理ができるインターホンのリード線処理構造を提供する。 - 特許庁
By the above process, a uniformly foamed and mechanically strong and hard foam material with strength corresponding to an expansion ratio is produced from a various type of epoxy resins such as ones for casting, adhesion and for a structure material.例文帳に追加
注形用、接着用、構造材料用等のエポキシ樹脂により発泡倍率に応じた強度であるが、均一に発泡されているうえ機械的強度の高い硬質な発泡体が得られる。 - 特許庁
To provide a structure with a mat-gloss tone pattern mixed which does not need special processing and can be formed by a simple method without passing through a complex process and its molding.例文帳に追加
本発明は、特殊な加工を必要とせず複雑な工程を経ずに簡易な方法で形成できる、マット−グロス調模様が混在する構造物およびその成形体を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide, for use in an electrically detected electron spin resonance process, a sample holder structure that enables current noise attributable to contact resistance or the like to be reduced and a manufacturing method for the same.例文帳に追加
本発明は、電気検出電子スピン共鳴法において、接触抵抗等に由来する電流ノイズを低減可能とする試料ホルダの構造、及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁
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