「process structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

This sandwich structure plate is continuously mass produced through a core material forming process in which a metallic flat plate is formed into a core material 1 in the shape of MIURA folding and a joining process in which two sheets of metal plates 2 are seam welded in a zigzag form on both sides of chevron fold parts of the core material 1.例文帳に追加

本発明のサンドイッチ構造板は、金属製の平板をミウラ折り形状のコア材１に成形するコア材成形工程と、コア材１の山折り部の両側に金属製の二枚の板材２をジグザク状にシーム溶接する接合工程とを経て、連続的に量産することができる。 - 特許庁

To provide a device which can cut and process a peripheral part of a mount effectively and with a simple structure and execute cutting and processing successively and automatically, and at the same time, can serially execute a process for separating the peripheral part to be cut and abandoned and a body part to be regenerated and used, and accumulating them.例文帳に追加

簡単な構造で効率よく台紙の周縁部を切除加工でき、その切除加工を連続的かつ自動的に行うとともに、切除され廃棄される周縁部と再生使用される本体部とを分離して集積するまでの工程を一連に行う装置を提案する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a solid electrolytic capacitor excellent in electric characteristics and having a masking structure which can prevent chemical conversion treatment liquid from oozing up to the positive electrode of the solid electrolytic capacitor during chemical conversion treatment, and can insulate solid electrolyte (negative electrode portion) formed in a subsequent process from the positive electrode certainly.例文帳に追加

化成処理時に化成液が固体電解コンデンサの陽極部分に滲み上がるのを防止し、かつ後工程で形成される固体電解質（陰極部分）と陽極部分を確実に絶縁できるマスキング構造を有し、電気特性に優れた固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the honeycomb structure includes a molding process for the extrusion molding of a molded object 1 having an outer peripheral wall, the partition walls arranged inside the outer peripheral wall and a large number of flow holes partitioned by the partition walls to axially pierce the molded object 1 and a drying process for drying the molded object 1.例文帳に追加

外周壁と、外周壁の内側に配置された隔壁と、隔壁により仕切られ軸方向に貫通する複数の流通孔とを有する成形体１を押出成形する成形工程と、成形体１を乾燥する乾燥工程とを含むハニカム構造体の製造方法である。 - 特許庁

The connection yarn (9) is not caused to fall down by the action of heating and pressurizing in a thermoforming process, and the three-dimensional fiber structure (6) is maintained by the reaction force of the connection yarn (9) in a state close to the state before the thermoforming process, thereby allowing the touch, shape retention, bulkiness, elasticity, breathability and washing resistance to be maintained.例文帳に追加

熱成型加工による加熱・加圧作用により連結糸(９)が倒されずに、立体繊維構造体(６)が連結糸(９)の反力により熱成型加工前に近い状態に維持され、肌触り、保形性、嵩高性、弾力性、通気性および耐洗濯性を維持できる。 - 特許庁

To provide a laminated steel plate for a drawn can provided with a resin skin structure in which the release of a film is not generated in a heat treatment process carried out for the purpose of removing processing distortions formed on the film in a can manufacturing process and sufficient corrosion resistance to a content is provided after the can is manufactured.例文帳に追加

製缶工程でフィルムに入った加工歪みを除去する目的で行われる熱処理工程でフィルムの剥離が発生せず、製缶後、内容物に対する十分な耐食性を持った樹脂皮膜構造を有する絞り缶用ラミネート鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a structure of a magnetic head which prevents electrostatic destruction between a magneto resistance effect film 5 and a lower-part shield film 3 caused in a process, in which a wafer takes an electrical charge, such as an ion milling and so on in the manufacturing process of a magneto resis tance effective type magnetic head, and also provide its manufacturing method.例文帳に追加

磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造プロセスにおいて、イオンミリング等のウエハ表面に帯電が生じる工程で発生する磁気抵抗効果膜５と下部シールド膜３間の静電破壊を防止する磁気ヘッドの構造及び製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the SONOS EEPROM is adapted such that the electric charge trapping layer located at the both ends of the gate without erroneous alignment, the gate is manufactured without the use of a gate forming mask, whereby a cell having a structure excellent in uniformity can be manufactured, a photographic process is not used, and hence a limit due to the manufacturing process can be conqered.例文帳に追加

また、ゲート両端の電荷トラッピング層を誤整列なしに形成し、ゲート形成マスクなしにゲートを製造することであって、均一性に優れる構造のセルが製造でき、写真工程を使用せず、それによる限界を克服しうるＳＯＮＯＳＥＥＰＲＯＭの製造方法である。 - 特許庁

This construction method for the floor structure icnludes: a process for forming a backing adjusting material layer on the upper face of the backing floor by using a backing adjusting material made of a polymer cement composition; and a process for providing a self-leveling material slurry hardened body layer on an upper face of the backing adjusting material layer by using a self-leveling material.例文帳に追加

下地床の上面に、ポリマーセメント組成物からなる下地調整材を用いて下地調整材層を設ける工程と、下地調整材層の上面に、セルフレベリング材を用いてセルフレベリング材スラリー硬化体層を設ける工程とを含む、床構造体の施工方法である。 - 特許庁

An element of LDD structure is formed by a method of manufacturing a semiconductor device using a hard mask in a state wherein a conductive film has been formed so as to cover all of a surface of a substrate, whereby the damage to the element due to the plasma process in the LDD forming process is reduced as much as possible.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性膜を形成した状態で、ハードマスクを利用した半導体装置の作製方法でＬＤＤ構造の素子を形成することにより、ＬＤＤ形成工程におけるプラズマプロセスによる素子への損傷を極力低減する。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor epitaxial wafer and a method of manufacturing the same, which can improve quality of crystal, simplify a process, and reduce a cost by improving a material of a metallic substrate and improving an epitaxial structure and a process of thermal cycle anneal heat treatment.例文帳に追加

金属基板の材料を改良するとともに、エピタキシャル構造および冷熱サイクルアニール熱処理の工程を改良することにより、結晶の品質を向上させ、工程を簡略化し、コストを下げることが可能な化合物半導体エピタキシャルウェハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

With this method, a nuclear transmutation quantity from a nuclear transmutation device is increased by a process for applying electrolysis process or plasma treatment to a surface of a structure including a hydrogen occlusion metal, and adding a material causing nuclear transmutation to the surface.例文帳に追加

水素吸蔵金属を含む構造体の一方の表面に電気分解処理又はプラズマ処理を施した後、核種変換を施す物質を前記表面に添加する工程を含むことを特徴とする核種変換装置からの核種変換量を増大させる方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the photoelectric converter has: a process where the conversion element 2 is positioned in the element body 3; and a process where the photonic crystal structure 4 is formed in the element body 3 on the face side opposite to the conversion element 2.例文帳に追加

本発明の光電変換装置の製造方法であって、素子基体２に光電変換素子２を設ける工程と、光電変換素子２とは反対の面側において、素子基体３にフォトニック結晶構造４を形成する工程とを有する、光電変換装置の製造方法。 - 特許庁

The package substrate has a shape in which bottomed-holes having a plurality of shapes are formed and the interlayer connections are made in a plurality of layer, and also has a structure that the connections are made after a conductive process with only a single process of plating or with thick nonelectrolyte plating or with conductive paste.例文帳に追加

複数形状を有する非貫通孔の形状で、少なくとも、その層間接続方法が多段と成る形状を有し、且つその接続方法が導電化後、一回のめっき、或いは、厚付け無電解めっきや導電ペーストにより接続された構造を有するパッケージ基板。 - 特許庁

This method includes a process providing a layer (a layer 108 in figures 1a-1d) which covers a substrate (a substrate 104 in figures 1a-1d), has an upper surface and contains tantalum pentoxide; and a process forming the structure containing tantalum and nitrogen by nitriding the upper surface of the layer of tantalum pentoxide.例文帳に追加

本方法は、基板（図１ａ−１ｄの基板１０４）を覆って、上部表面を有する五酸化タンタルを含む層（図１ａ−１ｄの層１０８）を提供する工程、および五酸化タンタルの層の上部表面を窒化して、タンタルおよび窒素を含む構造を形成する工程を含む。 - 特許庁

A structure shown in Fig. 1 (c) is obtained by performing a blast process for forming a non-cured resin layer 2b without containing any phosphors by spraying the phosphors to the non-cured resin layer 2a for injection from the surface side of the non-cured resin layer 2a after the resin coating process.例文帳に追加

樹脂塗布工程の後、未硬化樹脂層２ａの表面側から当該未硬化樹脂層２ａに蛍光体を吹き付けて注入することで蛍光体含有未硬化樹脂層２ｂを形成するブラスト工程を行うことによって、図１（ｃ）に示す構造を得る。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing an insulating base material which improves migration resistance only by adding a simple mechanism to the structure of an existing apparatus, or by adding a simple process to an existing process, and also to provide a method and apparatus for producing a printed wiring board.例文帳に追加

既存の装置構成に簡単な機構を追加するだけで、あるいは既存の工程に簡単な工程を追加するだけで、耐マイグレーション性を向上させることができる絶縁基材の製造装置及び方法、プリント配線板の製造装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

This abrasive recovery device for recovering the abrasives from the CMP process drain containing an organic dispersant is provided with a ceramic film separating means of monolayer honeycomb structure mainly composed of columnar β-type silicon nitride crystal into which the process drain is led.例文帳に追加

有機物系の分散剤を含有するＣＭＰ工程排水から研磨材を回収する装置において、該工程排水が導入される主として柱状のβ型窒化珪素結晶からなる単層ハニカム構造のセラミック膜分離手段を備えてなることを特徴とする研磨材の回収装置。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device using a material becoming a sacrifice polymer having a hardness under room temperature indispensable in a semiconductor process and suitable for forming an air isolation structure between the interconnect lines of semiconductor elements by thermally decomposing completely at a relatively low temperature.例文帳に追加

半導体プロセスにおいて必須である、室温での硬度を有し、同時に比較的低温で完全に熱分解して、半導体素子の配線間にエアアイソレーション構造を形成するために好適な犠牲ポリマーとなる材料を用いて半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In a nanostructuring process for a silicon ingot surface, prior to a slicing operation for the silicon ingot, a surface treatment process is applied to at least one surface of the silicon ingot to form a fine structure layer having a nanostructure on the surface of the silicon ingot.例文帳に追加

シリコンインゴットの表面ナノ構造プロセスにおいて、シリコンインゴットに対してスライス工程を行う前に、シリコンインゴットの少なくとも一つの表面に対して表面処理工程を行うことで、シリコンインゴットの当該表面にナノ構造を有する微細構造層を形成する。 - 特許庁

Press-contact force between a transfer belt 23 laid on a bias roller 22 and a photoreceptive drum 1 is adjusted by a cam structure provided with a pressing spring 25, a bottom board 27, a movable auxiliary roller 28 and sliding type flat cam 29 so as to obtain an appropriate value respectively in a transfer process and a cleaning process.例文帳に追加

バイアスローラ２２に張架されている転写ベルト２３と感光体ドラム１との圧接力を、転写工程及び清掃工程のそれぞれにおいて適切な値になるように、加圧スプリング２５、底板２７、可動補助コロ２８、スライド式平カム２９を備えたカム構造により調整する。 - 特許庁

An AP process 1 is provided with a pseudo AWT 12 as a class library consisting of a class with the same name having the same method and the same class hierarchical structure as the class of AWT 24 and when a pseudo GUI object is generated, informs a GUI generation and management process 2 of the generation through a communication line 5.例文帳に追加

ＡＰプロセス１は、ＡＷＴ２４のクラスと同じメソッドおよび同じクラス階層構造を持つ同名のクラスからなるクラスライブラリである疑似ＡＷＴ１２を備え、疑似ＧＵＩオブジェクトが生成されると、通信回線５を通じてＧＵＩ生成・管理プロセス２にその旨を通知する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device that can remove a multi-layer structure SiC film equipped with an antirelection function and a hard mask function efficiently and absolutely, simplifies a film removal process in the gate electrode formation process, and minimizes negative influences to the device.例文帳に追加

反射防止機能とハードマスク機能を兼備した多層構造のＳｉＣ系膜を効率良く、確実に除去し、併せてゲート電極形成プロセスにおける膜の除去工程を簡素化し、デバイスへの悪影響を極力低減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a measurement standard apparatus having a simple structure, capable of easily and accurately adjusting the levelness values or tilt angles of a flat surface to be measured of a measurement object, in two directions relative to a process measurement surface, and capable of precisely measuring the straightness value of the process measurement surface.例文帳に追加

装置の構成が簡単であるとともに、加工計測面に対する被計測部材の被計測平面の２方向の水平度あるいは傾斜角度を容易かつ正確に調整することができて、加工計測面の真直度を高精度に計測することができる計測基準装置を提供する。 - 特許庁

To provide a structure, which is capable of reducing the number of components, and also capable of guiding a coil spring in a manufacturing process even when the length of a sleeve or a spool is suppressed, concerning a solenoid valve in which stick-out of a member fitted into an outer shell is not required to be taken into account in the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程において外殻体に挿入した部材の飛び出しを懸念する必要がない電磁弁に関し、部品点数を削減することができるとともに、スリーブやスプールの長さを抑制しても製造工程においてコイルスプリングをガイドすることができる構造を提供する。 - 特許庁

Zr is added to ductile cast iron molten metal, a dendritic austenite structure present as a part of solid phases is made fine in the eutectic solidification stage of a solidification process for the ductile cast iron molten metal, so that the fluidity between the solid phases of the remaining liquid of the molten metal is improved in a solidification process.例文帳に追加

ダクタイル鋳鉄溶湯に対しＺｒを添加しダクタイル鋳鉄溶湯の凝固過程の共晶凝固段階において固相の一部として存在する樹枝状のオーステナイト組織を微細化させて凝固過程において溶湯の残液の固相間における流動性を向上させる。 - 特許庁

This panel display monitor structure is installed to assay parameters for manufacturing conditions of a manufacturing process of a flat display panel 2 and constituted by forming a material 12 having sensitivity to a process environment comprising temperature and atmosphere into a fine particle layer in on a base substance 11.例文帳に追加

フラットディスプレイパネル２の製造工程における製造条件のパラメーターを検定するために配置されるパネルプロセスモニター構造物であって、基体１１上に、温度と雰囲気とからなるプロセス環境に感受性を有する物質１２が微粒子状の層として形成して構成されている。 - 特許庁

To provide a method for preventing a crazing and cracking in semiconductor chip and encapsulation resin, being related to a semiconductor device having a chip size packaging structure in which an encapsulation resin is arranged on a semiconductor chip and the process of manufacture and to a semiconductor chip and the process of manufacture.例文帳に追加

本発明は半導体チップ上に封止樹脂が配設されるチップサイズパッケージ構造を有した半導体装置及びその製造方法及び半導体チップ及びその製造方法に関し、半導体チップ及び封止樹脂にひびや割れが発生することを防止することを課題とする。 - 特許庁

The process comprises, as main components, 1) a process for manufacturing a removable side wall for manufacturing the ultra-short channel and the side wall control gate with or without a step structure, and 2) the formation of the control gate, by self-alignment, on a storage nitride film and the impurity film.例文帳に追加

本プロセスで用いられる主要素は、１）ステップ構造を有するか、または無しで、超短チャネルおよびサイドウォール制御ゲートを製造するための、除去可能なサイドウォールの製造プロセス、および２）蓄積窒化膜および不純物膜上の制御ゲートの自己整合による形成である。 - 特許庁

To provide a field emission display comprising a gate electrode plate of strut structure requiring no support for a negative electrode plate, a positive electrode plate and a gate electrode plate by struts of more than necessary at jointing process, with simplified manufacturing process of the field emission, capable of increasing productivity.例文帳に追加

接合プロセスで必要以上の支柱により陰極および陽極板とゲート極板を支える必要はなく、フィールドエミッションの製造プロセスを簡易化し、生産率を増加させることができる支柱構造のゲート極板を含むフィールドエミッションディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a building plate having a structure in which a back sealer application process and a drying process are dispensed with, and the waterproof function of a sealer layer which have been formed on a reverse side of the building plate can be effectively demonstrated, and capable of excellently protecting the reverse side of the building plate even when a nail is driven therein.例文帳に追加

バックシーラ塗布と・それに続く乾燥工程とをなくし、従来は建築板裏面に形成されていたシーラ層が有する防水性機能を効果的に発揮させる構造であって、釘打ちをしてもなお建築板の裏面を良好に保護することができる建築板を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing process of an acrylic film relates to the process for forming a melt film of a thermoplastic resin consisting mainly of a non-crystalline acrylic polymer having a cyclic structure, wherein a horizontal sidewall part 11 of a die is ejected from the top edge of the cap of the blocking body.例文帳に追加

環構造を持つ非晶性のアクリル系重合体を主成分とする熱可塑性樹脂を溶融製膜する方法であって、ダイの幅方向の側壁の部位１１が、本体ブロックの口金先端部よりも先に出ている事を特徴とする、アクリル系フィルムの製造方法。 - 特許庁

To execute a temperature rise acceleration process of a catalyst 5 disposed in an exhaust gas passage 4 of an internal combustion engine 1 and a temperature rise acceleration process of cooling water of the internal combustion engine 1 as the need arises while keeping a structure as simple as possible in an exhaust heat recovery device 18 for the internal combustion engine 1.例文帳に追加

内燃機関１の排気熱回収装置１８において、可及的に簡素な構成としながら、内燃機関１の排気通路４に設けられる触媒５の昇温促進処理と、内燃機関１の冷却水の昇温促進処理とを必要に応じて実行可能とする。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging element, having a structure capable of optimizing the film thickness of an antireflection film formed on a photodiode, without causing deterioration of image sensor characteristics or being restricted on a manufacturing process, even if a general CMOS manufacturing process is applied.例文帳に追加

一般的なＣＭＯＳ製造プロセスを適用した場合においても、イメージセンサ特性の劣化を生じさせず、また、製造プロセス上の制約を受けることなく、フォトダイオード上に形成された反射防止膜の膜厚を最適化できる構造を有する固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a field emission display comprising a gate electrode plate of strut structure unnecessary to support a negative electrode plate, a positive electrode plate and a gate electrode plate by struts of more than necessary at jointing process, with simplified manufacturing process of the field emission, capable of increasing productivity.例文帳に追加

接合プロセスで必要以上の支柱により陰極および陽極板とゲート極板を支える必要はなく、フィールドエミッションの製造プロセスを簡易化し、生産率を増加させることができる支柱構造のゲート極板を含むフィールドエミッションディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a novel mold structure which enables any kind of a pattern of a variety of dimensions assuming various types of design to be accurately transferred by a one-time imprint process (embossing and UV exposure), and to provide a resist process which guarantees extremely precise and stable print performance.例文帳に追加

一度のインプリント工程（押型＆ＵＶ露光）により、様々なデザインを想定した多様な寸法を有するパターンを全て忠実に転写することができることを旨とした、新しいモールド構造と高精度かつ安定的なプリント性能を担保できるレジストプロセスを提案する。 - 特許庁

The method of manufacturing the rotary electric machine which constitutes this structure has a first process which impregnates the space between the adjacent element wires 7a with the heat conductive insulating resin 10, and a second process which impregnates the space between the rotary electric machine core 5 and the coil 7 with the heat conductive insulating resin 10.例文帳に追加

この構成を実現する回転電機の製造方法は、隣接する素線７ａの間を熱伝導性絶縁樹脂１０で樹脂含浸する第１の工程と、回転電機コア５とコイル７との間を熱伝導性絶縁樹脂１０で樹脂含浸する第２の工程とを備える。 - 特許庁

This manufacturing method of the surface rugged structure comprises a process for forming grooves by irradiating the surface of a silicon substrate with a laser beam, and a process for forming the ruggedness on the silicon substrate by selectively etching the grooves by chemical etching.例文帳に追加

シリコン基板の表面にレーザー光を照射することで溝を形成する工程と、化学エッチングにより溝を選択的にエッチングすることでシリコン基板の表面に凹凸を形成する工程を含むことを特徴とする表面凹凸構造の作製方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

This manufacturing method of a carbonaceous nanostructure includes: a process of preparing a nanohole structure 4b having a plurality of nanoholes 5; and a process of supplying raw material gas to at least one of the plurality of nanoholes 5 to deposit carbon on the inner surface of at least one nanohole 5 by chemical vapor phase epitaxy.例文帳に追加

複数のナノホール５を有するナノホール構造体４ｂを用意する工程と、複数のナノホール５の少なくとも一つの内部に原料ガスを供給して、化学気相成長法により、少なくとも一つのナノホール５の内表面に炭素を堆積させる工程とを包含する。 - 特許庁

To provide an image forming device having simple structure and capable of reducing horizontal components of a movement locus formed until an exposure member retreats to above process units when a top cover is opened and closed, downsizing the process units as well as a device main body while securing a toner capacity.例文帳に追加

簡易な構成で、トップカバーを開閉する際に露光部材がプロセスユニットの上方に退避するまでの移動軌跡の水平成分を小さくすることができ、トナー容量を確保しつつプロセスユニットを小型化し、装置本体も小型化できる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a biaxially-oriented multilayered metallic tape with low magnetic hysteresis loss, which has a nickel/nonmagnetic layer structure produced in an electroplating process, has reduced magnetic hysteresis loss in comparison with metallic tapes produced in an existing process, and is excellently biaxially oriented, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

電気メッキ工程でニッケル／非磁性層構造の多層金属テープを製造、既存の工程に比べて磁気ヒステリシス損失が極めて抑制され、二軸配向性に優れた低磁気ヒステリシス損失の二軸配向性多層金属テープ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises a process for transferring part or the whole of an existing radioactive facility having a radiation-contaminated structure 11 or device built therein to another site without dismantling it, and a process for constructing a new building 3 in a site where the radioactive facility used to be.例文帳に追加

放射能により汚染された構造体１１や機器を内蔵した、既存の放射能を有する施設の一部又は全部を、解体せずに他の場所へ移設する工程と、前記放射能を有する施設の移設前の敷地に新たに建造物３を構築する工程と、からなる方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device comprises a process (a) for heating a silicon substrate with an MOS transistor structure at 320 to 480° inside a treatment chamber and a process (b) for depositing Co whereto Ti of 0.3 to 2.0 at% is added on the heated silicon substrate.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）ＭＯＳトランジスタ構造を備えたシリコン基板を処理室内で３２０℃〜４８０℃の温度に加熱する工程と、（ｂ）前記加熱したシリコン基板上にＴｉを０．３ａｔ％〜２．０ａｔ％添加したＣｏを堆積する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a game machine with a novel structure capable of executing the transmission process of a command for control by a main control part without applying excessive burdens, and executing the receiving process of the command for control by a subordinate control part without applying excessive burdens.例文帳に追加

主制御部による制御用のコマンドの送信処理を過度の負担をかけることなく行うことが出来ると共に、サブ制御部による制御用のコマンドの受信処理を過度の負担をかけることなく行うことが出来る、新規な構造の遊技機を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laminated steel plate for a drawn can provided with a resin skin structure in which the release of a film is not generated in a heat treatment process carried out for the purpose of removing processing distortions formed on the film in a can manufacturing process and sufficient corrosion resistance to a content provided after the can is manufactured is provided.例文帳に追加

製缶工程でフィルムに入った加工歪みを除去する目的で行われる熱処理工程でフィルムの剥離が発生せず、製缶後、内容物に対する十分な耐食性を持った樹脂皮膜構造を有する絞り缶用ラミネート鋼板を提供する。 - 特許庁