| 意味 | 例文 |
process windowの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 328件
Process window can be expanded dramatically by using these etching agents, and such processing as requiring a low side etching rate and a high aspect ratio can be accommodated without relying upon a special excitation operation of a substrate, or the like.例文帳に追加
これらのエッチング剤を用いることにより飛躍的にプロセスウインドウを広げることができ、特殊な基板の励起操作等なしにサイドエッチ率が小さく高アスペクト比が要求される加工にも対応できる。 - 特許庁
An enhancement region is implanted through a spaced narrow window early in a process and is located in a JFET common conduction region which is formed later by and between the spaced base strips.例文帳に追加
エンハンスメント領域を、そのプロセスの初期段階に離間された浅い窓を通して注入し、かつ、後に、離間されたベースストリップによりおよびその間に形成されるJFETの一般の伝導領域に設置する。 - 特許庁
In the final process of assembly, the eyepiece assembly (d) or eyepiece assembly (e) is built in a fitting window c' of a rear cover assembly (c) and those are fitted to an intermediate camera assembly (a) to complete the camera.例文帳に追加
組立の最終工程において、アイピース部組dまたはアイピース部組eが後部カバー部組cの取付窓c’に組み込まれ、これがカメラ組立仕掛品aに取り付けられることによってカメラ100は完成される。 - 特許庁
While reproducing the data 30 by a music reproducing process section 40, the reproducing position is detected by a reproducing position detection processing section 41 and the position is displayed in the text data being displayed on the text/score/window.例文帳に追加
内部シーケンスデータを楽曲再生処理部40により再生中に、その再生位置を再生位置検出処理部41で検出し、テキスト・スコア・ウインドウ中に表示されているテキストデータ中にその位置を表示する。 - 特許庁
To facilitate the manufacture of a heat shield cloth being used as a material sheet of a curtain and a window shade and preferably having flame retardancy in a short process compared with a conventional method.例文帳に追加
カーテンやブラインドの原料シートとして用いることが可能な遮熱性布帛、好ましくは難燃性を有する遮熱性布帛を、従来方法に比べて短い工程で容易に製造することを可能にする。 - 特許庁
To devise cost reduction and delivery date reduction due to the minimization of a polishing angle of a transparent window, process simplification including a metal holder, and miniaturization of optical isolator components.例文帳に追加
透明窓付き光アイソレータモジュール及び光素子モジュールにおいて、透明窓の研磨角度の最小化と金属ホルダを含む工程簡略化及び光アイソレータ部品の小型化による低コスト化、納期短縮化を可能とする。 - 特許庁
To improve a function for a zoom setting dialogue means for setting the window position and the magnification and contraction rate for magnification- and contraction-displaying one portion of a display content, in an operation monitoring display concerned in process control.例文帳に追加
プロセス制御に関する操作監視用表示装置において、表示内容の一部を拡大縮小表示するウィンドウ位置並びに拡大縮小率を設定するズーム設定ダイアログ手段の機能改善を実現する。 - 特許庁
To provide a developing device and process cartridge that have a light transmission window in which loss of transmitted light is minimized for the purpose of detecting an amount of developer remaining in a developer storage part and to provide an image forming device to/from which the process cartridge can be attached/detached.例文帳に追加
本発明は現像剤収納部に収納されている現像剤の残量を検知するために光の透過損失が小さな光透過窓を有する現像装置及びプロセスカートリッジ及びそのプロセスカートリッジを着脱可能な画像形成装置を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁
Radiation heat radiated from a substrate 28 held on a stage 24 toward an optical system 29 is intercepted by providing a heat insulating plate 11, which shields a process window 22 via which the laser beam from the optical system 29 is projected upon the substrate 28.例文帳に追加
光学系29からのレーザビームを透過させて、ステージ24に保持された処理基板28に照射するプロセスウインドウ22を遮蔽する遮熱板11を設け、処理基板28から光学系に向かう輻射熱を遮断する。 - 特許庁
To provide a touch screen input device and a manufacturing method thereof capable of skipping a process for bonding an additional film coated with a conductive film to a window plate, preventing defects in a touch screen, and simplifying manufacturing processes.例文帳に追加
別途のフィルムに導電膜をコートしてウィンドウ板に接合する工程を省略し、タッチスクリーンの不良を防止し、製造工程を簡素化することができるタッチスクリーン入力装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To prevent decline of a reflectance or a transmittance in an optical system, and to prevent decline of analysis sensitivity, caused by adhesion of various substances in exhaust gas in a semiconductor manufacturing process onto a reflecting mirror or a window in a cell of a moisture meter.例文帳に追加
半導体製造プロセスにおける排気ガス中の様々な物質が、水分計のセル中の反射鏡や窓に付着し、光学系における反射率や透過率を低下させ、分析感度が低下することを防止する。 - 特許庁
A cylindrical resin molded material, formed using a furan resin initial condensate as its main row material, is calcined and carbonized and thereafter is subjected to high-temperature treatment to obtain a glassy clylinder, a finishing process is performed on the cylinder by a diamond, and the chamber 1 is provided with an observation window and gas inlet and exhaust vents.例文帳に追加
フラン樹脂初期縮合物を主原料とした円筒状の樹脂成形体を焼成炭化後、高温処理しガラス状円筒を得、ダイヤで仕上げ加工し観察窓とガス導入排出口を設けた。 - 特許庁
With a smaller number of measurements required than the prior-art multiple-model calibration, the focus-exposure model provides more predictive and more robust model parameter values that can be used at any location in the process window.例文帳に追加
従来技法の複数モデルキャリブレーションよりも少ない必要とされる測定値数で、フォーカス露光モデルは、プロセスウィンドウ内のいかなる位置でも使用することができる、より予測的でありより堅固なモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁
To provide a vehicle antenna connecting apparatus which includes an amplifier circuit and a vehicle ground in the vicinity of a glass antenna without incurring assembly process regulation such as disabling mounting of the amplifier circuit if a window pane is not assembled.例文帳に追加
窓ガラスが組み付かないとアンプ回路の取り付けができない等の組み立て工程への規制を生じさせることなく、ガラスアンテナの近傍にアンプ回路と車両アースを有する車両用アンテナ接続装置を提供する。 - 特許庁
To provide a gas flow cell allowing accurate consecutive high-sensitivity gas analysis without contamination of a surface of a mirror, an optical window or the like present in each of both ends of the gas flow cell caused by particles occurring inside a process chamber.例文帳に追加
プロセスチャンバーの内部で発生したパーティクルによって、ガスフローセルの両端にあるミラーや光学窓等の表面が汚染されることがなく、正確な高感度ガス分析を継続して行なうことが可能なガスフローセルを提供する。 - 特許庁
This microwave induction device has, via dielectric plates, a microwave induction window 6 that is made of a dielectric for inducing microwaves to generate plasma 7 of discharge gas in a vacuous process room 1 having a substrate 5 to be processed.例文帳に追加
処理されるべき基板5を備えた真空処理室1内へ放電ガスのプラズマ7を生成するためのマイクロ波を導入する誘電体製のマイクロ波導入窓6を、複数枚の誘電体板を介して構成する。 - 特許庁
A polishing pad 100 comprises a polishing pad body 11 having an aperture 18 formed therein, and a window 30 secured in the aperture for performing optical measurement of a semiconductor substrate to be polished during the polishing process.例文帳に追加
研磨パッド100は、中に形成された開口部18を有する研磨パッド本体11と、被研磨体である半導体基材の光学計測を研磨中に実施するための、開口部中に固定された窓30を含む。 - 特許庁
The phase shifting mask which widens a process window is manufactured by preparing a phase shifting mask having at least two phase shifters used for a multiple exposure method and adjusting the shifting width of the phase shifters according to the width of a light shielding region between the phase shifters.例文帳に追加
多重露光法に用いられる少なくても2つの位相シフタを有する位相シフトマスクの位相シフタ間の遮光領域の幅に対応して位相シフタのシフト幅を調整し、プロセスウィンドウを広げた位相シフトマスクを製作する。 - 特許庁
When the program shifts to the photographing process, the whole images (entire images) 63 represented by the compressed image data and an image of the face (face image) 64 extracted by the face extraction circuit 48 are displayed on a photographing window 60 of a monitor 13.例文帳に追加
また、撮影工程に移行すると、モニタ13には、圧縮画像データで表される画像の全体(全体画像)63と、顔抽出回路48で抽出した顔の画像(顔画像)64とが撮影ウィンドウ60上に表示される。 - 特許庁
The system and the method provide a unified set of model parameter values that result in better accuracy and robustness of simulations at nominal process conditions, as well as the ability to predict lithographic performance at any point continuously throughout a complete process window area without a need for recalibration at different settings.例文帳に追加
システムおよび方法は、公称プロセス条件でのシミュレーションのよりよい精度および堅固性、ならびに、異なる設定での再キャリブレーションの必要なく、完全なプロセスウィンドウ領域全体に連続的にわたるいずれかの点でリソグラフィの性能を予測する能力を結果としてもたらす、統合された1組のモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁
The SMLO may be desirable over an existing source mask optimization (SMO) process or other optimization processes that do not include projection optics optimization, partially because including the projection optics in the optimization may lead to a larger process window by introducing a plurality of adjustable characteristics of the projection optics.例文帳に追加
部分的には、最適化に投影光学系を含むと、投影光学系の複数の調節可能な特性を導入することにより、より大きなプロセスウィンドウをもたらすことができるので、SMLOは、既存の光源およびマスクの最適化プロセス(SMO)または投影光学系の最適化を含まない他の最適化プロセスと比較して望ましいものであり得る。 - 特許庁
This method for monitoring a plasma chamber includes steps of: measuring an optical characteristic of plasma generated in the plasma chamber including a window in a predetermined measurement wavelength band (S10); extracting a process status index from the measured optical characteristic (S30); and thereafter determining a state of the plasma chamber by analyzing the extracted process status index (S50).例文帳に追加
ウィンドウを有するプラズマチャンバ内に生成されるプラズマの光学的特性を所定の測定波長帯域で測定(S10)し、前記測定された光学的特性から工程状態指数を抽出(S30)した後、前記抽出された工程状態指数を分析(S50)して、前記プラズマチャンバの状態を判断するステップを含む。 - 特許庁
Since the stopping table can be set while paying attention only to the remaining symbol positions inside the display window without paying attention to the symbol position which is not included in the effective lines, the process of setting the stopping table can be simplified.例文帳に追加
すなわち、有効ラインに含まれない図柄位置に注意することなく、表示窓内の残りの図柄位置にだけ注目して停止テーブルを設定することができるので、停止テーブルを設定する作業を簡素化することが可能となる。 - 特許庁
To provide an injection molding in-mold decorating apparatus capable of preventing the generation of wrinkles in the outer peripheral corner part of a projected isolated part in a patterning sheet stretching process to obtain a decorative laminated product of high quality having no wrinkles in its window part.例文帳に追加
絵付シートの延伸工程において、凸状孤立部の外周角部にしわが発生しないようにでき、もって、窓部等にしわが生じていない高品質の加飾積層製品を得ることのできる射出成形同時絵付装置を提供する。 - 特許庁
When it determines that the residual amount of the battery 36 is over the predetermined threshold and also the imaging is not in process, a window 55 is displayed on a monitor 47a to notify that a wireless system is available for the communication system.例文帳に追加
バッテリ36の残量が所定の閾値を超えていると判定され、かつ、撮影の処理中ではないと判定された場合、モニタ47aには、通信方式として無線方式の選択が可能である旨を通知するウィンドウ55が表示される。 - 特許庁
In the emitter aperture window forming process, immediately after a SiO_2 layer is removed with the dry etching method using a resist mask, the phosphorus ion is implanted into an Si substrate through the IBDP layer, SiO_2 layer and Si/SiGe layer using the same resist mask.例文帳に追加
エミッタ開口窓の形成工程において、レジストマスクを用いてSiO_2層をドライエッチングした直後に、同じレジストマスクを用いてIBDP層とSiO_2層とSi/SiGe層を貫通させて、Si基板中にPのイオン注入を行う。 - 特許庁
To make a Zn diffusion position deep from a ZnO/SiO2 film, to the extent in which the COD tolerance of a laser end surface window structure can be made larger than conventional, as to a manufacturing method for a compound semiconductor device which includes the process of diffusing zinc into a compound semiconductor layer.例文帳に追加
化合物半導体層への亜鉛拡散工程を含む化合物半導体装置の製造方法に関し、レーザ端面窓構造のCOD耐量を従来よりも大きくすることができる程度にZnO/SiO_2膜からのZn拡散位置を深くすること。 - 特許庁
A timing chart window 2 of a control process edit screen W2 displays a timing chart in which channels 20 individually registering lighting parts for illumination and frames 22 arranged along horizontal time axes of the respective channels, are arranged in matrix shape.例文帳に追加
制御プロセス編集画面W2のタイミングチャートウィンドウ2では、電飾用の点灯部を個別に登録するチャンネル20と、各チャンネルの横向き時間軸に沿って配列されたフレーム22がマトリクス状に配置されたタイミングチャートを表示させる。 - 特許庁
This application relates to an isotropic Nd-Fe-B type magnetic material manufactured by a rapid solidification process having a lower optimal wheel speed and a broader optimal wheel speed window than those used in manufacturing a magnetic material.例文帳に追加
磁性材料の製造において使用される最適ホイール速度及び最適ホイール速度ウィンドウよりも低い最適ホイール速度及び広い最適ホイール速度ウィンドウを有する急速凝固プロセスにより製造された等方性Nd-Fe-B型磁性材料に関する。 - 特許庁
To provide a U-shaped resin glass run mounted on a vehicle sash for guiding up-and-down movements of a window glass of a vehicle, wherein the run can easily be manufactured only by a continuous extruding process without after-treatment processes.例文帳に追加
自動車の窓ガラスを昇降案内するための車両サッシュに取付ける略U字状の樹脂グラスランに関し、後処理加工を必要とせず押出成形工程の連続プロセスのみで容易に製造することができることを課題とする。 - 特許庁
To provide an infrared shielding film-coated glass plate which has high visible light transmittance, high radiowave transmittance and low infrared transmittance and which can be applied to a site where mechanical durability is highly required such as a window glass plate for an automobile and a production process therefor.例文帳に追加
可視光透過性、電波透過性に優れ、赤外線透過率が低く、かつ自動車用窓ガラス板などの機械的耐久性が要求される部位へも適用が可能な赤外線遮蔽層付きガラス板及びその製造方法の提供。 - 特許庁
In the image display apparatus, a system composed of a general-purpose operation system and a general-purpose Window system includes a control process which controls drawing timing so as to display an image on a memory display device by a GUI (graphical user interface) application.例文帳に追加
汎用のオペレーションシステムと汎用のウインドウシステムとから構成されたシステムに、GUI形式のアプリケーションにてメモリ性表示デバイスへの表示が行われるように描画タイミングを管理するための管理プロセスを備えた画像表示装置。 - 特許庁
In this correction process, inspection windows are set based on the inspection data in the bare-board image, the image in an inspection window W4 which is to serve as the standard for other windows to refer to is threshold processed, and then lands 35 in the binary image are sensed.例文帳に追加
この修正処理では、ベアボードの画像上に前記検査データに基づく検査用ウィンドウを設定した後、他のウィンドウの設定基準となる検査用ウィンドウW4内の画像を2値化し、この2値画像上のランド35を検出する。 - 特許庁
In a crystal growth process P1, between a contact layer 26 consisting of GaAs and a window layer 22 consisting of AlGaAs, an intermediate layer 24 consisting of AlGaAs containing Al at ratio intermediate between the layers are interposed.例文帳に追加
結晶成長工程P1において、GaAsから成るコンタクト層26とAlGaAsから成るウインドウ層22との間に、それらの層の間の中間的な割合のAlを含むAlGaAsから成る中間層24を介在させられている。 - 特許庁
The number of data of each data block is made identical by executing a rate conversion process for the obtained blocked data, and then spectrum data is calculated by executing the FFT method without using a window function, and an NRRO or the like is obtained from the spectrum data.例文帳に追加
これにより得られたブロック化データに対し、レート変換を施して各データブロックのデータ数を同一とし、その後、窓関数を使用せずにFFTを施すことによりスペクトルデータを算出し、このスペクトルデータからNRRO等を求める。 - 特許庁
To provide a window structure which is effective in COD prevention without diffusing an impurity or irradiating a resonator end surface with laser light so as to expand a band gap nearby the resonator end surface in a process of manufacturing a semiconductor laser device.例文帳に追加
半導体レーザ装置の製造工程の中で、共振器端面近傍のバンドギャップを拡大するために、不純物の拡散を行なったり、共振器端面にレーザ光を照射したりしなくても、COD防止に有効な窓構造を実現する。 - 特許庁
To provide a card processing device and method that enable a ticket issuing process to be carried out using an integral structure and ticket information stored on the IC chip of a noncontact card, at a window of a facility such as a theater or a concert hall.例文帳に追加
本発明は、劇場やコンサートホールなどの施設の窓口で、非接触カードのICチップに記憶されたチケット情報によりチケットを発行する処理を一体構造でできるカード処理装置およびその処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
Moreover, a high speed and precise trial writing is conducted by obtaining timing from the circuit indicating the fact that the information of the memory is reflected onto the parameters and by generating a counter window that is used to count the number of error pulses or the like used in the trial writing process.例文帳に追加
また、レーザ駆動回路から、メモリの情報がパラメータに反映されたことを示すタイミングを得ることにより、試し書き処理で使用するエラーパルス等をカウントするためのカウンタ窓を作成することにより、高速で精度よく試し書きを行うことができる。 - 特許庁
When performing a gradation process by changing the value of WW (window wide) to a medical image, the relation between the operation amount of a mouse and the change amount of the value of the WW is determined on the basis of the value of the WW of the medical image displayed at timing of depressing the button of a mouse.例文帳に追加
医用画像に対しWWの値を変化させて階調処理を行う際、マウスダウンのタイミングで表示されている医用画像のWWの値に基づいて、マウスの操作量とWWの値の変更量との関係を決定する。 - 特許庁
To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加
遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
When a dielectric separation wafer is manufactured, the entire body of the backside resist 12A of a silicon wafer 10 is cross-linked after the resist 12A is applied to the wafer 10 in a photoliothograph process, in which a resist film 12 having a window section 12a is provided on the surface of the wafer 10.例文帳に追加
誘電体分離ウェーハの製造時、シリコンウェーハ10の表面に窓部12a付きのレジスト膜12を設けるフォトリソグラフ工程において、シリコンウェーハ10に裏面レジスト12Aを塗布後、これを全面露光して裏面レジスト12A全体を架橋させる。 - 特許庁
Further, by mixing with an oxygen-containing gas or a halogen-contaning gas as the second gas, or an inert gas as the third gas, the process window can be expanded significantly, and the agent can also accommodate processing requiring a high aspect ratio without special substrate excitation operation or the like.例文帳に追加
さらに、第二のガスとして、含酸素ガス、含ハロゲンガス、あるいは第三のガスとして不活性ガスと混合することで、飛躍的にプロセスウインドウを広げることができ、特殊な基板の励起操作等なしに高アスペクト比が要求される加工にも対応できる。 - 特許庁
To provide a window film for thermocompression bonding which includes an adhesive layer containing an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) that is hardly deteriorative against a long-term use as a principal component, and hardly causes poor appearance therein even if subjected to a process including pressure application by a nip roll when adhered to a glass plate.例文帳に追加
長期間の使用でも劣化し難いEVAを主成分として含む粘着剤層を有する熱圧着用のウィンドウフィルムで、ガラス板に貼り付ける際にニップロールによる加圧を含む工程であっても、外観不良が生じ難いウィンドウフィルムを提供する。 - 特許庁
A window 8 made of silica glass for introducing high-frequency power to generate plasma, a resonator 9 for combining the high-frequency power with the plasma, an inlet 10 for introducing gas for generating plasma, and an inlet 11 for introducing process gas are provided in the plasma chamber 12.例文帳に追加
プラズマチャンバ2にはプラズマ生成用の高周波電力を導入するための石英ガラス製の窓8、高周波電力をプラズマと結合するためのレゾネータ9、プラズマ生成用のガス導入口10およびプロセスガス導入口11を設けている。 - 特許庁
To provide a nitride-based semiconductor laser of high reliability and high output by forming a window region without deteriorating contact resistance, in a laser process where a nitrogen material gas containing a hydrazine derivative is used for crystal growth of p-type layer of a nitride semiconductor.例文帳に追加
窒化物半導体のp型層の結晶成長にヒドラジン誘導体を含む窒素原料ガスを用いたレーザプロセスに於いてコンタクト抵抗を劣化させること無く窓領域を形成して、信頼性の高い高出力の窒化物半導体系レーザを得る。 - 特許庁
A frame synthesis section 111 smoothly connects overlapped parts of residual signal conversion frames e' obtained from the sbutractor 113, by using a window function or the like to reduce errors which are concentrated on a frame end in the process of the conversion of the adaptive filter 104.例文帳に追加
ここで、フレーム合成部111にて、減算器113から得られる残差信号変換フレームe′のオーバーラップ部分を窓関数等を用いて滑らかに繋ぐことにより、適応フィルタ104の収束の過程でフレーム端に集中する誤差を軽減する。 - 特許庁
The production method for a vehicle window glass for forming an infrared reflective film using a vacuum deposition method is characterized by involving a process for removing, by means of dry etching, the film edge of an infrared reflective film having an electromagnetic wave transmission window that has been formed using a masking material and transmits electromagnetic waves, and is particularly characterized by using a whetstone or a laser as the dry etching means.例文帳に追加
真空成膜法を用いて赤外線反射膜を形成する車両用窓ガラスの製造方法であって、マスキング材を用いて形成した電磁波を透過する電磁波透過窓を有する赤外線反射膜の膜端部をエッチングにより除去する工程を有することを特徴とし、特に上記エッチング手段として砥石又はレーザーを使用することを特徴とする車両用窓ガラスの製造方法。 - 特許庁
The method of temporarily halting the program being executed on the specified system comprises the steps of: allowing the system to receive a temporary halt request signal; displaying a window for determining a temporary halt in response to the reception of the temporary halt request signal by the system; and performing a process of temporarily halting the program being executed after or while the window is displayed.例文帳に追加
システムが一時停止要求信号を受領するステップと、システムが当該一時停止要求信号の受領を契機に、一時停止を確定するためのウィンドウを表示するステップと、当該ウィンドウを表示した後、または、当該ウィンドウの表示と並行して、前記実行中のプログラムを一時停止する処理を実行するステップにより、所定のシステム上で実行中のプログラムを一時停止する方法。 - 特許庁
To prepare a molded article which has no inferiority of appearance such as defects and deformation and wherein a window part and the main body of the molded article are bonded by enough bonding strength without requiring a special installation, by an existing installation, by a convenient process and inexpensively.例文帳に追加
傷付き、変形等の外観不良がなく、窓部と成形品本体とが充分な接合強度で接合されている成形品を、特別な設備を必要とせずに既存の設備によって簡便な工程で、低コストで製造できる方法およびその製造方法によって得られる成形品の提供。 - 特許庁
Therefore, the system automatically recognizes the shape of a pattern 33a after the OPC process by recognizing the coordinates of each vertex and sets candidates [1] to [5] for a dimension measurement window which is a candidate for a region where the dimension measurement is done, in a space between coordinates of vertexes.例文帳に追加
そこで、システムが自動で、OPC処理後のパターン33aに対して、例えば、頂点座標を認識するなどでパターン33aの形状を認識し、各頂点座標の合間の空間に寸法測定を行う領域の候補となる寸法測定ウインドウの候補[1]〜[5]を設定する。 - 特許庁
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