「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

In an apparatus of image processing 20 according to the invention, at first, pattern sheets having more than one patch whose amount of each component color are changed in each gray-scale of more than one gray-scale are produced to output through an image output device.例文帳に追加

本発明による画像処理装置２０によれば、まず、複数階調の各階調において各要素色の量を変化させた複数のパッチを有するパターンシートが生成されて画像出力装置によって出力される。 - 特許庁

The processing circuit decides an optimum directivity pattern from the scanning decision result and transmits directivity data including a reception frequency to the control circuit at reception and transmits directivity data including a transmission frequency to the control circuit at transmission.例文帳に追加

そしてこのスキャン判定結果から最適な指向性パターンを決定し、前記制御回路に対して、受信時には受信周波数を含む指向性データを、送信時には送信周波数を含む指向性データを送出する。 - 特許庁

The number of pixels of an input video signal (display data) is converted by subjecting the video signal to interpolation processing based on coefficient information by a prescribed period pattern according to the ratio of conversion of the number of pixels.例文帳に追加

入力された映像信号（表示データ）に対し、画素数変換の比率に応じた所定の周期パターンによる係数情報に基づいた補間処理を行うことで、上記映像信号についての画素数変換を行う。 - 特許庁

To provide a slimming method of a thin film containing carbon capable of improving reproducibility per slimming processing by suppressing variations in a slimming amount (cutting amount) when a salient of a pattern of the thin film containing the carbon such as a resist is slimmed.例文帳に追加

レジスト等の炭素含有薄膜のパターンの凸部のスリミング処理時のスリミング量（削り取り量）のばらつきを抑制してスリミング処理毎の再現性を向上させることが可能な炭素含有薄膜のスリミング方法である。 - 特許庁

The multiplexing circuit 3 multiplexes the frame synchronizing signal from the synchronizing register 2, the TMCC signal from the memory 1 and the signal of a prescribed pattern for finish processing from the synchronizing register 2 in this order and sends than to a Reed-Solomon encoding circuit 4.例文帳に追加

多重化回路３は、同期レジスタ２からのフレーム同期信号、メモリ１からのＴＭＣＣ信号、同期レジスタ２からの終結処理のための所定のパターンの信号の順で多重化し、リードソロモン符号化回路４に送る。 - 特許庁

A second malware detection part acquires additional software for executing detection processing of the malware, and an additional pattern which is data to be used for detection of the malware to be stored in a second data base to detect the malware in detail.例文帳に追加

第２のマルウェア検出部は、マルウェアの検出処理を実行するための追加ソフトウェア及び第２のデータベースで保存するマルウェアの検出に用いるデータである追加パターンを取得してマルウェアを詳細に検出する。 - 特許庁

To provide a development processing method for a substrate, the method preventing such a phenomenon that an eluted component from a resist by development is diffused in a developer solution to induce inhomogeneous development, and improving uniformity in the pattern dimension.例文帳に追加

現像によってレジストから溶出した成分が現像液中で拡散して現像処理が不均一となることを防止して、パターン寸法の均一性を向上させることができる基板の現像処理方法を提供する。 - 特許庁

A recognition device 1 is provided with an illumination means 4 which throws illuminating light, an optical sensor 5 which picks up the image of reflected light from a reflecting optical element 2 as a two-dimensional pattern, a signal processing part, an A-D converter, a memory, CPU, etc.例文帳に追加

認識装置１は、照明光を照射する照明手段４、反射光学素子２からの反射光を２次元パターンとして撮影する光学センサー５をはじめ、信号処理部、Ａ−Ｄ変換器、メモリ、ＣＰＵなどを備える。 - 特許庁

To provide a processing method which can suppress microloading effects and improve CD controllability, without using any dummy pattern, etc., by increasing the volatility of a reaction product obtained, when a base material layer is etched.例文帳に追加

母材層をエッチングする際の反応生成物の揮発性を高くすることにより、マイクロローディング効果を抑制し、ダミーパターン等を用いなくともＣＤ制御性を向上させることのできる加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A difference between an input data stream 307 to be inputted to a filter 221 and a data stream 308 to be outputted from the filter 221 is calculated, and whether or not preliminarily defined critical processing instructions are included in a difference data stream is detected by pattern matching.例文帳に追加

フィルタ２２１に入力する入力データストリーム３０７と出力されるデータストリーム３０８の差分を取り、予め定義したクリティカルな処理命令が差分データストリームに含まれているか否かをパターンマッチングにより検出する。 - 特許庁

When a special pattern is determined and displayed (S301:YES) and a jackpot flag is set to 1 (S302:YES), a jackpot processing for opening a big winning hole 32 is performed (S303), and various flags are reset (S304).例文帳に追加

特別図柄が確定表示され（Ｓ３０１：ＹＥＳ）、大当たりフラグが１にセットされていれば（Ｓ３０２：ＹＥＳ）、大入賞口３２を開放動作させるための大当たり処理を実行し（Ｓ３０３）、各種フラグをリセットする（Ｓ３０４）。 - 特許庁

According to the matched expression mark, a rhythm correction part 11, a pattern selection part 12, an effective sound generating part 14, a BGM(background music) generation part 15, and an acoustic processing part 16 are operated to add the nuance or expression of the speaker.例文帳に追加

マッチングした表情記号に応じて、韻律補正部１１、パターン選択部１２、効果音発声部１４、ＢＧＭ（背景音楽）生成部１５、音響処理部１６等を作動させ、発言者のニュアンスや表情を付加させる。 - 特許庁

A CPU 82 performs an emergence processing of a third mascot character (s319) when a big hit is generated by a special big hit pattern in a second general game state after the end of a special game state (s318: YES).例文帳に追加

ＣＰＵ８２は、特別遊技状態が終了した後の第２通常遊技状態において、特定大当り図柄で大当りが発生した場合に（ｓ３１８：ＹＥＳ）、第３マスコットキャラクタの出現処理を行う（ｓ３１９）。 - 特許庁

When a rejected character is present in a recognition object field, a recognition processing part 13 stores its rejected character pattern in a recognition result information storage part 14 in the form of a multi-gradation image and informs a recognition result correction part 15 of the rejection.例文帳に追加

認識処理部１３は、認識対象フィールドにリジェクト文字があるときのみ、そのリジェクト文字パターンを多階調画像で認識結果情報格納部１４に格納し、リジェクトがある旨を認識結果修正部１５に通知する。 - 特許庁

To decrease a rate of interlacing or duplicate reading of frames in the synthesis of different video image signals into one image pattern with a frame synchronization technology with a simple contrivance and to eliminate temporal discontinuity between frames after frame synchronization processing.例文帳に追加

フレームシンクロ技術によって異なる映像信号を１画面に合成する際に、フレームの飛び越しや重複読み出しをする割合を簡素な仕組みで低くし、またフレームシンクロ処理後のフレーム間の時間的不連続性を改善する。 - 特許庁

Variation in an output level of a sensor output signal caused by an individual difference or heating of a magnetic sensor element 40 is corrected by the offset adjustment processing, thereby avoiding or suppressing reduction in detection accuracy of the magnetic pattern.例文帳に追加

オフセット調整処理によって磁気センサ素子４０の個体差や発熱などに起因するセンサ出力信号の出力レベルのばらつきが是正されるので、磁気パターンの検出精度の低下を回避あるいは抑制できる。 - 特許庁

The defect detection method comprises an image acquiring process for capturing the image of the object to be inspected having an identical sequence of pattern, and a defect emphasizing process for performing the defect emphasizing processing to the captured image.例文帳に追加

欠陥検出方法は、同一繰り返しパターンを有する被検査物を撮像して画像を取得する画像取得工程と、取得した画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程とを有する。 - 特許庁

A first magnetic responsive member (3) formed at an end of a first revolving shaft (1) comprises: a magnetic material cylinder part; and a first pattern of non-magnetic conductive material formed by a surface processing on the outer peripheral surface of the magnetic material cylinder.例文帳に追加

第１の回転軸（１）の端部に形成された第１の磁気応答部材（３）は、磁性体筒の部分と、該磁性体筒の外周面上に表面加工処理によって形成された非磁性導電材質の第１パターンとを含む。 - 特許庁

The integration processing comprises "a function capable of performing matching without being much affected by an unreasonably high evaluation value" and thereby suppresses occurrence of an estimation error in such occlusion area as not matching an actual occlusion pattern.例文帳に追加

また、実際のオクルージョンパターンに適合しないオクルージョン領域においては、上記融合処理が持つ、「不当に高い評価値に影響を大きく受けずマッチングが行える機能」において、推定誤りの発生を低く抑える。 - 特許庁

In the alignment processing method for radiating optical energy to an alignment film formed on a substrate through a photomask to provide alignment characteristics on a surface of the alignment film, the photomask is relatively moved along a linear pattern formed on the substrate, and a deviation is detected by a positional relation between the linear pattern and a reference pattern formed on the photomask, and the photomask is moved in a direction orthogonal to a movement direction of the substrate to correct the deviation.例文帳に追加

基板上に形成した配向膜に、フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法であって、前記フォトマスクを、前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させると共に、前記線状パターンと、前記フォトマスクに形成された基準パターンとの位置関係からズレ量を検出し、前記フォトマスクを、前記基板の移動方向と直交する方向に移動させてズレ量を補正させる。 - 特許庁

In the special effects processing sections 3a and 3b, a set value of advance ratios which are to become the reference of timing for performing selective switching operation of an input image signal are preset as a processing pattern, and every time a specified value of advance ratio passes through the set value, a selection designating information is delivered to the composite switching control section 5.例文帳に追加

この特殊効果処理部３ａおよび３ｂでは、入力画像信号の選択切り換え動作を行うタイミングの基準となる進行比率の設定値が、処理パターンとしてあらかじめ設定され、進行比率の指定値がこの設定値を通過するたびに、合成切り換え制御部５に対して選択指示情報を送出する。 - 特許庁

The control unit 59 controls the substrate processing apparatus to move a holding mechanism 39 to an upper position after rinsing the substrate W by supplying pure water to the processing tank 1, and since the substrate W is hydrophobized, the pure water to be left can be reduced and thereby the surface tension applied to the fine pattern of the substrate W by the pure water can be reduced sharply.例文帳に追加

制御部５９は、純水を処理槽１に供給させて基板Ｗをリンス処理させた後、保持機構３９を上方位置に移動させるが、基板Ｗは疎水化されているので、純水の液残りを少なくすることができるともに、純水により基板Ｗの微細パターンにかかる表面張力を非常に小さくできる。 - 特許庁

Contents written in a paper 2 for inputting nursing information which is a recording paper which functions as a paper for electronic processing on which a dot pattern is printed is obtained as electronic data with the electronic pen 3. the obtained electronic data is transmitted to a server 4 which is an analyzer via a repeater 5 and an intra-hospital network 6 and the server performs prescribed data processing to it.例文帳に追加

ドットパターンが印刷された電子処理用ペーパとして機能する記録用紙である看護情報入力用紙２に記入された内容を、電子ペン３で電子データとして取得し、取得した電子データを中継器５、院内のネットワーク６を介して、解析装置であるサーバ４に送信し、サーバ４で所定のデータ処理を行う構成を有している。 - 特許庁

According to a value of a calculation result by an APL detection part 15 and a luminance control part 16, error diffusion processing circuits 300 and 300' switch the value of an error diffusion coefficient, a diffusion pixel range, etc., and a dither processing circuit varies a dither coefficient pattern and a matrix number, etc., to adaptively correlate and vary individual processes in accordance with variation in the APL.例文帳に追加

ＡＰＬ検出部１５と輝度制御部１６の算出結果の値に応じて、誤差拡散処理回路３００、３００′では、誤差拡散係数の値や拡散画素範囲等を切り替え、また、ディザ処理回路では、ディザ係数パターンやマトリクス数を変化させるなど、夫々の処理をＡＰＬの変化に関連付けて適応的に可変する。 - 特許庁

Also, when a user performs the rotating processing of the photo data, since a rotary image selection part 109 reads an image for the display of a pattern corresponding to a rotating operation from the images for display for the corresponding photo data and displays it at a display part 12, the need of performing image rotating processing when the rotating operation is performed is eliminated and high speed display is made possible.例文帳に追加

また、回転画像選択部１０９は、ユーザーがフォトデータの回転処理を行った際に、対応するフォトデータについての表示用画像から、回転操作に応じた図柄の表示用画像を読み出して表示部１２に表示させるので、回転操作がなされたときに画像回転処理を行わなくて済み、高速表示が可能である。 - 特許庁

An imprint system 1 has a configuration connecting together the followings: a wafer carry-in-and-out station 2; a wafer processing station 3 which forms a first resist film on a wafer W; an imprint processing station 4 which forms a second resist film on the wafer W and a prescribed resist pattern upon the second resist film; and a template carry-in-and-out station 5.例文帳に追加

インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、テンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

To solve the following problems: in creating an interconnection pattern data, making an increment of the width and interval of the interconnection a minimum dimensonal unit increases the data volume of the OPC (Optical Proximity Correction) voluminous, causes a step of its setting and verification substatial, increases the OPC processing time to enlarge the processing system.例文帳に追加

半導体装置における配線パターンデータ作成において、配線幅および配線間隔の変更の刻みを最小寸法単位とすると、ＯＰＣ（Optical Proximity Correction）のデータ量が膨大なものとなり、その設定および検証に工数が多大なものとなり、また、ＯＰＣ処理時間を増大すると共に処理システムの肥大化を招くことにもなる。 - 特許庁

The pixels of sensor image data 4 are subjected to interpolation processing on reference to the output characteristic data C of a sensor 2 formed on the basis of the respective characteristics of the sensor 2 and a magnifying optical system 3 and a mask restoring filter 20 for acquiring sensor image data 28 acquired by restoring the pattern image formed on a mask 1 from the sensor image data 27 subjected to interpolation processing is provided.例文帳に追加

センサ２及び拡大光学系３の各特性に基づいて作成されたセンサ２の出力特性データＣを参照してセンサ画像データ４の画素を補間処理し、この補間処理されたセンサ画像データ２７からマスク１に形成されたパターンの像を復元したセンサ画像データ２８を取得するマスク復元フィルタ２０を設けた。 - 特許庁

Design of a pattern figure is prepared by image processing soft of a personal computer in order to dye yarns for woven fabric and weave the yarns into woven fabric, and the design is changed to a design to be dyed to warp and weft retained inparallel on the film by the image processing soft and the changed design is printed by an inkjet plotter to dye the warps and wefts.例文帳に追加

これと前後して、織物用糸に染色し、織物に織り上げるため意匠図のデザインを、パーソナルコンピュータの画像処理ソフトで行い、これを画像処理ソフトにより前記フィルムに平行に保持された縦糸と横糸に染色すべき図柄に変更し、これをインクジェットプロッタにより印刷して縦糸と横糸に染色する。 - 特許庁

To provide a metallic decorative sheet excellent in adhesiveness to a metal, and a decorative metal sheet causing no peeling even by secondary processing such as punching, bending, deep drawing and the like, causing no outflow or the dripping of a resin from the cut surface of the decorative metal sheet at the time of cutting or punching processing, having no paste coating irregularity pattern and having beautiful appearance.例文帳に追加

金属に対する接着性が優れた金属調を有する化粧シートを提供し、更に、打抜き、曲げ、深絞りなどの２次加工によっても剥離することが無く、その後の切断や打抜き加工時に、その切断面から樹脂の流れ出しやボタ落ちがなく、糊塗工むら模様のない外観上美麗な化粧金属板を提供する。 - 特許庁

An imprint system 1 has a constitution in which a wafer carrying in/out station 2, a wafer processing station 3 for forming a first resist film on a wafer W, an imprint processing station 4 for forming a second resist film on the wafer W and forming the predetermined resist pattern on the second resist film, and two or more template carrying in/out stations 5 are integrally connected.例文帳に追加

インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、複数のテンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

When determination results by the two programs are actually different for a train ticket classified into the pattern A, a determination result by a new determination program is adopted, and when the determination results are the same, abnormality processing is performed so that a person in charge may treat the ticket.例文帳に追加

パターンＡに分類された乗車券に対して、２つのプログラムによる判定結果が実際に異なる場合は、新判定プログラムによる判定結果を採用し、判定結果が同一の場合は、係員対応のための異常処理を行う。 - 特許庁

A specified pattern is presented to a data input layer 101 to perform learning needed for detecting a new feature class by a non-learning processing module comprising a plurality of neurons having a reception field structure for learning an unlearned feature class.例文帳に追加

所定のパターンをデータ入力層１０１に提示することにより、未学習の特徴クラスを学習すべき受容野構造が不定な複数ニューロンからなる未学習処理モジュールにおいて新規な特徴クラスの検出に必要な学習を行う。 - 特許庁

Thus, the user can determine whether the recognition result of the character recognition processing is reasonable using, as clues, the position of the image pattern in the reproduced image 260, the other image elements (character images before and after it, photographic image, footer, and header), and the like.例文帳に追加

これにより、利用者は、再現画像２６０における画像パターンの位置、及び、他の画像要素（前後の文字画像、写真画像、フッタ及びヘッダ）などを手懸りとして、文字認識処理の認識結果が妥当であるか否かを判断することができる。 - 特許庁

To solve a problem in which a modulated pattern tends to be visually recognized as the beat noise or the vertical line noise when the input signal has constant luminance as to a noise shaping circuit which decreases the number of bits of an input signal and also performs processing without spoiling the gradation property.例文帳に追加

入力信号のビット数を削減するとともに階調性を損なわないよう処理するノイズシェーピング回路において、入力信号が一定輝度の場合、変調パターンがビートノイズ、若しくは、縦線ノイズとして視認され易い。 - 特許庁

To provide an ultrasonic development processing method allowing development in low impact, and capable of achieving reduction of a development time and improvement of development accuracy, and achieving improvement of a removal effect of scum remaining in a circuit pattern part; and a device therefor.例文帳に追加

低インパクトでの現像を可能にすると共に、現像時間の短縮及び現像精度の向上が図れ、かつ、回路パターン部に残渣するスカムの除去効果の向上が図れるようにした超音波現像処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To solve a problem wherein a conventional biological information acquisition device is not designed with consideration of pattern variation of a thin blood vessel, for example, in order to assure the reliability of biometrics authentication, it is necessary to apply complicated imaging processing etc. to biometrics authentication equipment.例文帳に追加

従来の生体情報取得装置は、細い血管のパターン変動を考慮したものではなく、例えば、生体認証の信頼性を確保するために複雑な画像処理等を生体認証装置に適用することが必要になる。 - 特許庁

The information processing system 1 comprises the controlled device 2 including at least one of a display area, a means generating a predetermined sound, a marker reflecting electromagnetic wave in an incoming direction, and a means emitting light in a predetermined pattern; and a control device 4.例文帳に追加

情報処理システム１は、表示領域、所定の音を発する手段、電磁波を入射方向に反射するマーカーおよび所定のパターンで光を発する手段のうち少なくとも１つを含む被制御装置２と、制御装置４とを備える。 - 特許庁

In the preliminary light emitting processing, a CPU 7 firstly detects the battery voltage of a battery 12, and retrieves a pulse pattern corresponding to the detected battery voltage from an EEPROM 9 and outputs it to an LED driving circuit 10 to control the preliminary emission.例文帳に追加

ＣＰＵ７は、予備発光処理において、まず電池１２の電池電圧を検出し、検出された電池電圧に対応するパルスパターンをＥＥＰＲＯＭ９から取得してＬＥＤ駆動回路１０に出力し、予備発光を制御する。 - 特許庁

An image correction processing part 103 corrects the distortion of the image inputted by the part 102, and a face pattern detecting part 104 detects the face patterns of the persons 107 and 108 from the image whose distortion is corrected by the part 103.例文帳に追加

画像補正処理部１０３は、画像入力部１０２で入力された画像の歪みを補正し、顔パターン検出部１０４は、画像補正処理部１０３で歪みを補正された画像から人物１０７，１０８の顔パターンを検出する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of semi-automatically correcting magnification color aberration by an image pickup lens in which the characteristics related to the magnification color aberration are not known only by designating a region having the influence of the magnification color aberration followed by picking up an image of the monochromatic test pattern.例文帳に追加

モノクロのテストパターンを撮像し、倍率色収差の影響が出ている領域を指定するのみで、倍率色収差に関する特性が未知である撮像レンズによる倍率色収差の補正を半自動処理によって可能にする。 - 特許庁

According to the method of manufacturing the surface acoustic wave element 22, the electrode pattern 20 having a high size accuracy is easily manufactured, compared with the conventional manufacturing method needing a deposition processing of an antireflective film, taking a much labor and time.例文帳に追加

すなわち、この弾性表面波素子２２の製造方法によれば、多大な手間と時間を要する反射防止膜の成膜処理が必要な従来の製造方法に比べて、寸法精度の高い電極パターン２０を容易に作製することができる。 - 特許庁

To achieve processing of high quality and high precision by preventing a light component of 0th order from being generated strongly to form an uneven light intensity distribution when a beam is split by a hologram and put one over the other on an irradiated part or pattern mask to make the light intensity uniform.例文帳に追加

ホログラムでビームを分割し、被照射部、またはパターンマスク上で重畳して光強度を均一化する際に、０次光成分が強く発生し不均一な光強度分布となることを防止し、高品質、高精度な加工を達成する。 - 特許庁

The image processing method for structured optical profile comprises a step for sampling the image (28) of a structured optical pattern (18) in order to obtain intensity distribution (36), and a step for selecting two or more sets of the points (43) sampled from the intensity distribution.例文帳に追加

構造化光プロファイルに関する画像処理方法は、強度分布（３６）を得るために構造化光パターン（１８）の画像（２８）をサンプリングすることと、強度分布からサンプリングされたポイント（４３）の複数の集合を選択することとを含む。 - 特許庁

A filtering processing means 120 removes the periodic pattern caused by the scattered ray removal means from the radiation image P obtained by detecting the radiation transmitting through the subject S via the scattered ray removal means by a radiation detector 10.例文帳に追加

フィルタリング処理手段１２０は、被写体Ｓを透過した放射線を散乱線除去手段を介して放射線検出器１０により検出して得られた放射線画像Ｐから散乱線除去手段に起因する周期的パターンを除去する。 - 特許庁