「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(113ページ目) - Weblio英語例文検索

This road surface situation information provision system 100 includes: in-vehicle systems 1 mounted in vehicles VE1-VEn; and an information processing system 2 at a center side communicable with the in-vehicle systems 1 through a communication circuit.例文帳に追加

路面状況情報提供システム１００は、車両ＶＥ１〜ＶＥｎに搭載される車載システム１と、この車載システム１との間で通信回路を介して通信可能なセンター側の情報処理システム２とを含む。 - 特許庁

In a certain embodiment, the image processing apparatus 5 processes the surface sequential type image signals obtained when the plurality of chrominance signals are sequentially updated in a time sequential order every time of updating the chrominance signals.例文帳に追加

本発明のある実施の形態において、画像処理装置５は、時系列順に複数の色信号が順次更新されて得られる面順次方式の画像信号を色信号の更新時毎に処理する。 - 特許庁

To provide new corrugated cardboard which, with regard to resistance to folding and processing easiness, has no directionality or directionality as required within a certain range and is well resistant to pressure in the surface direction.例文帳に追加

折り曲げに対する抵抗性および加工容易性に関して、方向性がないか、またはある範囲内で、所望に応じた方向性をもり、面方向の圧力にはよく耐える、新規な段ボール紙を提供する。 - 特許庁

In the tin plated copper or the copper alloy material, a Cu-Sn alloy layer Y and an Sn layer X which are formed according to reflow processing are formed in this order on the surface of a base material A made of copper or copper alloy strip.例文帳に追加

銅又は銅合金板条からなる母材Ａの表面に、リフロー処理により形成されたＣｕ−Ｓｎ合金層ＹとＳｎ層Ｘがこの順に形成されたＳｎめっき付き銅又は銅合金材料。 - 特許庁

To provide an automatic parallel adjusting scraper apparatus for processing a minute optical scattering pattern precisely and continuously while tracing the three-dimensional curved surface of a light guide plate precisely in two steps.例文帳に追加

導光板表面の３次元的屈曲面を２段階で精密に追跡しながら微細な光学的な散乱パターンを正確で切れなしに連続して加工する自動平行調整スクレイパー加工装置を提供する。 - 特許庁

The cleaning device for cleaning the peripheral surface of the pressure cylinder is applied as a means for cleaning the gripper, and the heater for applying the drying processing to the medium is applied as a means for drying the gripper after supplying the cleaning liquid.例文帳に追加

グリッパーを洗浄する手段として圧胴の周面を洗浄する洗浄装置が適用され、洗浄液供給後のグリッパーを乾燥させる手段として媒体に乾燥処理を施すヒータが適用される。 - 特許庁

To provide an interlayer film 10 for laminated glass which hardly causes surface contamination, can be manufactured inexpensively with a fewer processes and can perform lamination processing for glass 101 at a room temperature and to provide a method for manufacturing the interlayer film for laminated glass.例文帳に追加

表面汚染が少なく、製造工程数が少なく低コストで製造でき、かつ、ガラス１０１へ室温で合わせ加工ができきる合わせガラス用中間膜１０及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To allow continuous use of highly reliable gas laser oscillator and laser processing device attaining stable discharge excitation regardless of secular formation of an oxide film on a surface of an electrode for discharge excitation.例文帳に追加

放電励起するための電極の表面に経年的に酸化膜が生成されても安定した放電励起ができる信頼性の高いガスレーザ発振装置およびレーザ加工装置の継続使用を可能とする。 - 特許庁

A center substrate 6 is grounded through a ground terminal, and the processing voltage is applied between the center substrate 6 and a pair of insulating substrates 7A and 7B on reverse-surface sides of outside substrates 8A and 8B to perform anode bonding.例文帳に追加

中央基板６は、接地端子によって接地され、中央基板６と、外側基板８Ａ，８Ｂの裏面側の一対の絶縁性基板７Ａ，７Ｂの間には、加工電圧が加わり、陽極接合が実行される。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing adhesive sheet capable of reducing contamination of a rear face of a semiconductor wafer and a semiconductor package and the like and adhesion of paste to a front surface of the semiconductor wafer and the semiconductor package and the like.例文帳に追加

半導体ウエハや半導体パッケージ等の裏面の汚染および半導体ウエハや半導体パッケージ等の表面への糊付着を低減することができる半導体加工用粘着シートを提供する。 - 特許庁

To improve heat resistance, chemical resistance, water repellency, low friction resistance, and dust peelability without damaging a filtration performance, regarding a filter surface processing method using finer nanofibers for fibers of cut fibers.例文帳に追加

本発明はカットファイバーの繊維をより細かいナノファイバーを使用したフィルタ表面加工方法に関し、過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することを目的とする。 - 特許庁

To provide a surface property measuring device capable of avoiding reduction in straightness of a linear guide mechanism of a following probe and measuring accuracy caused by an installation error, without requiring highly accurate processing and assembling accuracy.例文帳に追加

高精度な加工、組立精度を必要とすることなく、倣いプローブの直線案内機構の真直度や、取り付け誤差などに起因する測定精度の低下を回避できる表面性状測定装置を提供。 - 特許庁

The flow of gases can be regulated by a controller and a series of gas control valves to form and introduce the preselected gaseous mixture into the processing chamber as plasma to be exposed to the semiconductor wafer surface.例文帳に追加

ガスの流れをコントローラ及び一連のガス制御弁によって調整し、予め選択されたガス状混合体を形成させ、半導体ウェーハ表面に曝されるプラズマとして処理チャンバ内へ導入することができる。 - 特許庁

To provide an insect-proofing steel sheet which has lubricity well enabling press processing even without using a lubricant such as a press oil during press molding, is high in welding properties of its surface, and expels insects including a cockroach.例文帳に追加

プレス成型時にプレス油等の潤滑剤を使用しなくても良好にプレス加工のできる潤滑性を有し、かつ、鋼板表面の溶接性も高い、ゴキブリ等の昆虫を寄せ付けない防虫鋼板の提供。 - 特許庁

To provide a substrate drying method and a substrate drying device, eliminating rinse liquid remaining on the surface of a substrate in a short time, thereby contributing to improvement in productivity of substrate processing.例文帳に追加

基板表面に残留しているリンス液を短時間で排除することができ、これにより、基板処理の生産性の向上に寄与することができる基板乾燥方法および基板乾燥装置を提供する。 - 特許庁

To provide a gas laser oscillator capable of preventing generation of parasitic oscillation and suppressing decrease in a laser output due to the parasitic oscillation even when a surface of a discharge electrode is smooth without fine roughing processing.例文帳に追加

放電電極の表面に微細な凹凸処理を施さず表面が平滑であっても、寄生発振を防止することができ、寄生発振によるレーザ出力の低下を抑制することが可能なガスレーザ発振器を得る。 - 特許庁

A processing solution, comprising a liquid mixture of liquid ethylene carbonate, propylene carbonate or both heated to 50 to 200°C, is brought into contact with a substrate, having an organic coated film to remove the organic coated film on the surface of the substrate.例文帳に追加

有機被膜を有する基体に、50〜200℃に加熱した液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは両者の液状混合物からなる処理液を接触させて、基体表面の有機被膜を除去する方法。 - 特許庁

The lower part of a circumferential wall of a processing container 1 is formed with a microwave radiating port 9 for radiating microwave from a microwave oscillator 10 into the treatment container 1, and the opening surface is closed by a microwave permeating material 11.例文帳に追加

処理容器１の周壁下部に、マイクロ波発振器１０からのマイクロ波を処理容器内へ照射するマイクロ波照射口９を形成し、その開口面をマイクロ波透過材料１１で閉じる。 - 特許庁

An adhesion prevention recessed groove 16 for preventing an adhesion of the anchor part 15 against the small diameter sleeve part 10B of the core cylinder 10 is formed on an end surface of an adsorption part 15A of the anchor part 15 by press processing.例文帳に追加

そして、アンカ部１５の吸着部１５Ａの端面には、コア筒１０の小径スリーブ部１０Ｂに対してアンカ部１５が密着するのを防ぐ密着防止用の凹溝１６をプレス加工により形成する。 - 特許庁

Immersion plating processing is carried out using a plating bath containing metal ions which has a less tendency to ionize than the iron-based metal magnetic powder to form a plating electrode layer on a portion of the surface of the molding.例文帳に追加

鉄系金属磁性体粉末よりもイオン化傾向が小さい金属イオンを含むめっき浴を用いて置換めっき処理を行って成形体の表面の一部に第１のめっき電極層を形成する。 - 特許庁

The mask pattern 36 is removed and a mask pattern 37 is formed on the surface of the substrate 21 so that a substrate processing area including the concave 27 may be formed into a prescribed shape.例文帳に追加

その後に、上記凹部形成用マスクパターン３６を除去し、然る後に、凹部２７を含む基板加工領域を設定の形状に加工するための成形用マスクパターン３７を半導体基板２１の表面に形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of preventing an electrode exposed on the end surface of the liquid crystal display device from coming into contact with a holder protecting the liquid crystal display device from outside without performing insulation processing.例文帳に追加

液晶表示装置の端面に露出された電極が、液晶表示装置を外側から保護するホルダに接触するのを、絶縁処理を行うことなく防止できる液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

The cloth contains a filament yarn A having a single fiber diameter of ≤1,000 nm and a filament yarn B having a single fiber diameter of >1 μm, and has an uneven pattern on a surface of the cloth by embossing or resin printing processing.例文帳に追加

単繊維径が１０００ｎｍ以下のフィラメント糸Ａと、単繊維径が１μｍより大のフィラメント糸Ｂを含む布帛であって、布帛表面に、エンボス加工または樹脂プリント加工により凹凸柄が形成されている。 - 特許庁

To provide a compact sheet bundle cutting device for cutting a thick sheet bundle with small cutting force to have an excellent cutting surface at a low cost and a sheet processing device having the sheet bundle cutting device.例文帳に追加

本発明は、厚いシート束を小さい裁断力で裁断し、かつ、その裁断面が良好であり、低コストでコンパクトなシート束裁断装置、及びこれを有するシート処理装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The plastic sheet is set so that the squeegeeing surface is opposed to the excimer laser device side, and then the sheet is dug to a desired depth by an ablation processing by exposure to an excimer laser, so as to form the recess around the perforation.例文帳に追加

そして、そのスキージ面がエキシマレーザ装置側に対向するように、プラスチック板をセットしたら、エキシマレーザを照射してアブレーション加工により所望の深さまで掘り下げ、貫通孔の周囲に凹部を形成する。 - 特許庁

To provide a laser processing method for a wafer which includes an altered layer formed inside along streets without causing abrasion even if a device region and an outer circumferential excessive region enclosing it has a difference in surface height.例文帳に追加

デバイス領域とそれを囲む外周余剰領域の表面高さが異なっていても、アブレーションを起こすことなく内部にストリートに沿って変質層を形成することができるウエーハのレーザー加工方法を提供する。 - 特許庁

When capacity becomes necessary to suppress an influence of the voltage variation, the reverse surface side of the semiconductor substrate 2 is subjected to back grind processing to expose the electrode 15, and a capacitance element such as a decoupling capacitor is connected thereto.例文帳に追加

電圧変動の影響を抑えるために容量が必要になったときには、半導体基板２の裏面側をバックグラインド処理し、その電極１５を露出させ、そこにデカップリングコンデンサ等の容量素子を接続する。 - 特許庁

The gradation reduction rule setting part 25 sets gradation reduction rules in the case of generating the CG image expressed with the low gradation through rendering processing on the basis of the combination of the shape and surface attribute of each 3D model.例文帳に追加

低階調化ルール設定部２５は、各３Ｄモデルの形状と表面属性の組み合わせに基づいて、低階調で表されるＣＧ画像をレンダリング処理によって生成する際の低階調化ルールを設定する。 - 特許庁

The fine processing is carried out by ion irradiation using the stencil mask comprising the self-assembled monolayer constitution body provided with the self-assembled monolayer in which tensile stress is generated on the solid surface by irradiation with corpuscular beam.例文帳に追加

粒子線照射により固体表面に引張り応力を生じさせる自己組織単分子膜を備えている自己組織単分子膜構成体からなるステンシルマスクを用いてイオン照射により微細加工する。 - 特許庁

The method for producing particulate phosphor comprises a preparation step (S1) preparing the raw material solution for the particulate phosphor, a spraying and pyrolysis step (S2), a surface processing step (S3) and a light emission activating step (S4).例文帳に追加

本発明の微粒子蛍光体の製造方法は、微粒子蛍光体の原料溶液の調整ステップ（Ｓ１）と、噴霧熱分解ステップ（Ｓ２）と、表面処理ステップ（Ｓ３）と、発光活性化処理ステップ（Ｓ４）とを含んでいる。 - 特許庁

The antenna pattern 2 can be constituted of a coil, and can also be constituted by applying fine processing such as etching and laser beam machining to a conductor film formed on the surface of the insulating layer 4.例文帳に追加

アンテナパターン２は、巻線をもって構成することもできるし、絶縁層４の表面に形成された導体膜に例えばエッチングやレーザビーム加工等の微細加工を施すことにより構成することもできる。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a spin chuck 2 holding a wafer W substantially horizontally, and a shield plate 3 which shields an atmosphere near the surface of the wafer W held with the spin chuck 2 from a periphery thereof.例文帳に追加

基板処理装置１は、ウエハＷをほぼ水平に保持するスピンチャック２と、スピンチャック２に保持されたウエハＷの表面付近の雰囲気をその周囲から遮断するための遮断板３とを備えている。 - 特許庁

The conductive impurity region 3 for transferring the electric signal from the light receiving element 14 to the signal processing circuit 15 is formed from the bottom of the trench as far as the upper surface of the semiconductor growth layer 2.例文帳に追加

受光素子１４からの電気信号を信号処理回路１５へ伝送するための導電性不純物領域３は、トレンチの底部から半導体成長層２の上面まで至るように形成されている。 - 特許庁

To provide a surface processing method (resin coating method) of easily improving a rare earth permanent magnet in corrosion resistance and a rare earth permanent magnet improved in corrosion-resistance by the above method.例文帳に追加

簡便でかつ良好な耐食性を付与できる希土類永久磁石の表面処理方法（樹脂コーティング方法）およびその表面処理方法による耐食性に優れた希土類永久磁石を提供する。 - 特許庁

In the present invention, pore processing is performed on at least one surface of a semiconductor wafer by using a gas evaporated from a mixed liquor containing hydrofluoric acid, nitric acid and sulfuric acid to obtain a solar cell wafer.例文帳に追加

本発明は、フッ化水素酸、硝酸および硫酸を含む混合液から気化したガスにより半導体ウェーハの少なくとも片面を多孔質化処理して太陽電池用ウェーハとすることを特徴とする。 - 特許庁

When a projected image on a projection surface 3 is distorted, the computer 4 receives a specified input from a user, receives an input signal from the projector 2, performs its geometrical correction, and sends its processing result to the projector 2.例文帳に追加

投射面３上の映像が歪んでいるとき、コンピュータ４はユーザーより所定の入力を受け、プロジェクタ２より入力信号を受信し、幾何学補正を行い、その処理結果をプロジェクタ２に送信する。 - 特許庁

A plasma reactor for processing a workpiece 110 comprises: a vacuum chamber defined by a sidewall and a ceiling; and a workpiece support pedestal which has a workpiece support surface in the chamber, faces the ceiling, and includes a cathode electrode.例文帳に追加

加工物１１０を処理するプラズマ反応器は、側壁およびシーリングによって画定される真空チャンバと、チャンバ内に加工物支持表面を有し、シーリングに面し、カソード電極を含む加工物支持用ペデスタルを含む。 - 特許庁

To perform optical monitoring for the surface of a substrate to be processed in a processing container with high precision by using monitor light of wide wavelength region with no impact on the uniformity of electromagnetic wave radiation characteristics of a flat plate slot antenna.例文帳に追加

平板スロットアンテナの電磁波放射特性の均一性に影響を与えずに波長領域の広いモニタ光を用いて処理容器内の被処理基板の表面に対する光学的なモニタリングを高精度に行う。 - 特許庁

To provide a laser processing method capable of cutting a planar object to be processed equipped with a hexagonal SiC substrate having a main surface at an off angle to the c-plane accurately along a scheduled cut line.例文帳に追加

ｃ面とオフ角分の角度を成す主面を有する六方晶系ＳｉＣ基板を備える板状の加工対象物を切断予定ラインに沿って精度良く切断することができるレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁

Media 3 are blown against the surface of the product 1 coated with the film material 2 in a sandblasting process to roughen the processing surfaces (C), and lastly the film material 2 is removed by dissolving with an alkaline aqueous solution (D).例文帳に追加

この被膜材で被覆した成形品の全面にサンドブラスト加工によりメデア３を噴射して粗面化し図１Ｃ、最後に被膜材２をアルカリ水溶液により溶解させ溶解して除去する図１Ｄものである。 - 特許庁

A dry etching apparatus 11 includes a coil 36 for generating a plasma in a vacuum container 12, and a camera 45 which photoes the image of the surface to be etched of the substrate (1) which generates the plasma and is under processing by dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング装置１１は、真空容器１２内にプラズマを発生させるコイル３６と、プラズマが発生してドライエッチングにより加工中である基板（１）の被エッチング面の画像を撮影するカメラ４５を備える。 - 特許庁

To provide an expansion molded product of a polyolefin resin having improved drawdown properties, loss of resilience and surface roughening during heating caused when carrying out molding processing and further sufficient impact properties and flexibility.例文帳に追加

本発明は、成形加工時に起こる加熱時の垂れ下がり性、ヘタリや表面荒れが改善され、しかも充分な衝撃性及び柔軟性を備えたポリオレフィン系樹脂発泡成形品を提供せんとするものである。 - 特許庁

In a pattern application method for forming a pattern of a coating film on the substrate film by applying a coating liquid on the substrate film, part of the substrate film is subjected to pattern-like surface reform processing.例文帳に追加

基材フィルム上に塗布液を塗布することによって基材フィルムに塗布膜のパターンを形成するパターン塗布方法において、まず、基材フィルムの一部にパターン状の表面改質を施す加工を行う。 - 特許庁

To provide a straightening facility for a metal plate which can lessen the occurrence of surface flaws as well as shortens lead time (processing time) by greatly reducing the number of times of handling the metal plate.例文帳に追加

本発明は、金属板のハンドリング回数を大幅に削減して、そのリード・タイム（処理時間）を従来より短縮するだけでなく、表面疵の発生をも低減可能な金属板の矯正装置を提供すること。 - 特許庁

A removing brush 25 removing dust sticking on the paper P is provided downstream from the contact portion T1 of the side wall surface 14 in the conveying direction and upstream from the development processing section E in the conveying direction.例文帳に追加

側壁面１４の接触部分Ｔ１よりも搬送方向下流側であって且つ現像処理部Ｅよりも搬送方向上流側には、ペーパーＰに付着した塵埃を取り除く除去ブラシ２５が設けられている。 - 特許庁