「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(116ページ目) - Weblio英語例文検索

To make it possible to perform foreign matter removal processing for a surface of an intermediate transfer body by a cleaning blade appropriately for a long period without deteriorating image productivity unnecessarily in a cycle type color image forming apparatus.例文帳に追加

サイクル型カラー画像形成装置において、クリーニングブレードによる中間転写体表面の異物除去処理を、画像生産性を徒に低下させることなく、長期にわたり適切に行えるようにする。 - 特許庁

To enable each position on the body surface of an examinee responding to a sliced position under processing of an image reconstruction from collection data and/or a sliced position of a reconstructed image displayed on a monitor, to be directly displayed.例文帳に追加

収集データから画像再構成処理中のスライス位置及び又は再構成された画像のモニタに表示中のスライス位置にそれぞれ対応する被検体の体表上の位置を直接表示可能とする。 - 特許庁

To provide a tipped saw for timber processing, the tipped saw achieving a small cut depth per one tip blade, generating less vibration and having superior linearity regardless of rip sawing and cross sawing and easily providing light and clean sawn surface.例文帳に追加

１刃当たりの切り込み深さを小さくし得て、縦挽きや横挽きに拘わらず、振動が少なく直線性に優れると共に軽く綺麗な挽き肌が容易に得られる木材加工用チップソーを提供する。 - 特許庁

In a system for removing foreign matter or the like sticking to the surface of a strip by providing the brush rolls on a continuous strip processing line and rotating the brush rolls, the brush rolls are released when the line is stopped.例文帳に追加

帯板連続処理ライン内にブラシロールを設け、該ブラシロールを回転させることにより帯板表面に付着している異物等を除去するものにおいて、ライン停止時には前記ブラシロールを開放すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing arrangement of a semiconductor device capable of efficiently processing a substrate to be treated with heat, using a heat ray in a short time, regardless of the size of a surface area of the substrate to be treated.例文帳に追加

被処理基板の表面積の大きさに拘らず、熱光線を用いて短時間で効率よく、かつ、略均一に被処理基板に加熱処理を施すことができる半導体装置の製造装置を提供する。 - 特許庁

The porous body having continuous pores and the microstructure that the pores continue in the area from the surface to the inside is obtained without post-processing by providing a component forming pores when it diminishes on the surface of a cavity in a molding flask, then pouring a gel casting slurry into the cavity and forming, and firing the obtained formed body.例文帳に追加

型枠内のキャビティの表面に消失して気孔を形成する成分を配してからキャビティ内にゲルキャスティングスラリーを流し込んで成形し、得られた成形体を焼成することにより、非加工状態で表面から内部に至る領域で気孔が連続した微構造を有する連孔多孔質体を得る。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive tape for semiconductor wafer processing which does not contain a surfactant and an organic tin compound as curing accelerator in a pressure-sensitive adhesive layer, exhibits superior prevention performance concerning the surface adhesive deposit and the lateral surface adhesive deposit and further exhibits superior prevention performance concerning the LM (Laser Mark) adhesive deposit.例文帳に追加

本発明により、粘着剤層に、界面活性剤や、硬化促進剤としての有機スズ化合物を含まず、表面糊残り、側面糊残りにおいて優れた防止性能を発揮し、かつ、ＬＭ糊残りについても優れた防止性能を発揮する半導体ウエハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁

Further, in the arithmetic processing circuit 11, the surface reflected light component or diffused and reflected light component is changed by an expression based on a horn illumination model or Lambert reflection model and on the basis of that changed surface reflected light component or diffused and reflected light component, the pixel value is changed.例文帳に追加

さらに、演算処理回路１１では、表面反射光成分または拡散反射光成分が、それぞれをフォーンイルミネーションモデルまたはランベルシャンリフレクションモデルによって表現することで変更され、その変更後の表面反射光成分または拡散反射光成分に基づいて、画素値が変更される。 - 特許庁

A processing device 3 comprises: a conversion part 33 to convert the information on the lightness and the color of every pixel extracted from the image imaged by the imaging device 2 into a surface angle of the test object 7; and a surface extract part 34 which extracts planes having a same angle by grouping the angle of the every pixel.例文帳に追加

処理装置３は、撮像装置２から撮像した画像から抽出される画素ごとの明度と色との情報を用いて検査対象７の表面の角度に換算する換算部３３と、画素ごとの角度をグループ化することにより同じ角度を有した平面を抽出する面抽出部３４とを備える。 - 特許庁

In the image conversion method using a computer for image conversion processing, an image picked up by a camera whose optical axis is tilted at an arbitrary angle with respect to a reference surface is converted into an image substantially equivalent to an image picked up by the camera whose optical axis is at right angles to the reference surface.例文帳に追加

コンピュータにより画像変換処理を行う画像変換方法において、基準面に対して光軸が任意の角度傾いたカメラにより撮像した撮像画像を、基準面に対して光軸が垂直な状態のカメラにより撮像した撮像画像と実質的に等価な画像に変換するように構成する。 - 特許庁

When a plurality of substrates are processed under the same processing conditions, a resist film being formed on the major surface of the last substrate becomes thinner as compared with a resist film being formed normally on the major surface of a substrate because the last substrate is not subjected to thermal effect when it is carried from the cooling unit to the coating unit.例文帳に追加

複数枚の基板を同一の処理条件にて処理したとすると、最終基板については冷却ユニットから塗布処理ユニットに搬送する工程での熱影響が無いことに起因して、その主面に形成されるレジスト膜の膜厚が通常基板の主面に形成されたレジスト膜の膜厚よりも薄くなる。 - 特許庁

When necessary processing is performed on the glass substrate and rough polishing and then finish polishing are performed on the surface of the glass substrate, a finish polishing process comprises an ultra-precision polishing step of polishing the surface of the glass substrate by using a polishing liquid (polishing slurry) comprising colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organosilicon compound.例文帳に追加

ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁

This V ribbed belt 1 has an adhesive rubber layer 2 embedded with a conductor 3 and a compressed rubber layer 4 composed of a plurality of rib parts 5 extending in the belt lengthwise direction, and is characterized by having a surface hardened layer 7 formed on the rib part 5 surface by electron bream irradiating processing.例文帳に追加

心線３を埋設した接着ゴム層２とベルト長手方向に延在する複数のリブ部５からなる圧縮ゴム層４を有するＶリブドベルト１において、リブ部５表面に電子線照射処理によって形成される表面硬化層７を有すること特徴とするＶリブドベルト１である。 - 特許庁

In the drying processing, the substrate W is thus heated while the high-temperature nitrogen gas is supplied to the substrate back surface Wb, so even if many steam components are present at a periphery of the substrate, no drop of water sticks on the substrate surface Wf and the substrate W is securely dried.例文帳に追加

このように乾燥処理の間、基板裏面Ｗｂに高温窒素ガスを供給して基板Ｗを加熱しているため、仮に基板の周辺に多量の水蒸気成分が存在していたとしても、基板表面Ｗｆに水滴は付着することなく、基板Ｗを確実に乾燥することができる。 - 特許庁

The biological information processing method includes the steps of: obtaining the plural biological images of the user using the biological sensor; detecting the surface reflection areas in the plural biological images; storing the biological information, which is obtained from the biological images having surface reflection areas different from each other among the plural biological images, in the storage.例文帳に追加

生体情報処理方法は、生体センサを用いて、ユーザの複数の生体画像を取得し、複数の生体画像の表面反射領域を検出し、複数の生体画像のうち、表面反射領域が互いに異なる生体画像から得られる生体情報を記憶部に記憶する、ものである。 - 特許庁

A surface characteristic of the organic resin film is improved and peeling liquid is prevented from penetrating inside the organic resin film when the resist film formed on the organic resin film is peeled (including after peeling of the resist film) for patterning the organic resin film by previously plasma-processing a surface of the organic resin film.例文帳に追加

有機樹脂膜の表面を予めプラズマ処理することにより、有機樹脂膜の表面特性を改善し、有機樹脂膜のパターニングのために有機樹脂膜上に形成されたレジスト膜を剥離する際（レジスト膜の剥離後も含む）に剥離液が有機樹脂膜内部に浸透するのを防ぐことを特徴とする。 - 特許庁

In the laser processing method of removing the residual defect of the photomask, the substrate is set so as to make its surface to be processed face downward, and the surface of the substrate is irradiated with a laser beam from below in an atmosphere containing halogenated hydrocarbon gas (e.g. ethyl iodide gas) to remove the residual defect.例文帳に追加

フォトマスクの残留欠陥をレーザ加工法によって除去するレーザ加工方法において、被加工面を下向きにして、下方からレーザ光を照射する構成として、ハロゲン化炭化水素ガス（一例として沃化エチルガス）を含む雰囲気中でレーザ光を照射して、残留欠陥の除去を行う。 - 特許庁

This method of processing a thin plate cut out from a nearly cylindrical or prismatic block, and when defects occur in the outer periphery or surface of the thin plate in the process, the thin plate having defects on its surface or periphery is processed into a product in a smaller size and a smaller thickness than the initial target product standards.例文帳に追加

略円筒状または角柱状の塊状物から切り出された薄板を加工する方法であって、加工工程において前記薄板の外周部もしくは表層に不良が生じた薄板を、初期に目的とした製品規格より小さい大きさで厚さの薄い規格の製品に加工する。 - 特許庁

A capacitor is housed or built in a multilayered printed wiring board, in which at least a part of its surface makes a contact angle of 7 to 45° with respect to water, and at least a part of its surface is subjected to at least plasma processing, cleaning, or an acid treatment.例文帳に追加

多層プリント配線板に収納または内蔵させるコンデンサであって、その表面の少なくとも一部は、水に対する接触角が７〜４５°であることを特徴とするコンデンサであって、その表面の少くとも一部にはプラズマ処理、洗浄処理および酸処理のうちの少くとも一の処理が施されている。 - 特許庁

The plasma processing device includes: a UV irradiation means 1 for irradiating ultraviolet rays UV on the surface of an object S to be processed; and a plasma supply means 2 for supplying plasma P on the surface of the object S with the ultraviolet rays UV irradiated by the UV irradiation means 1, both means arranged adjacent to each other.例文帳に追加

被処理物Ｓの表面に紫外線ＵＶを照射するための紫外線照射手段１と、紫外線照射手段１で紫外線ＵＶが照射された被処理物Ｓの表面にプラズマＰを供給するためのプラズマ供給手段２とを隣り合って配置したプラズマ処理装置に関する。 - 特許庁

While the surface of the semiconductor wafer W is held at a nearly constant processing temperature T2, even a position a little deeper than the surface is raised in temperature to some extent, so the activation of implanted ions and the recovery of an introduced defect are both achieved without thermally damaging the semiconductor wafer W.例文帳に追加

半導体ウェハーＷの表面温度を概ね一定の処理温度Ｔ２に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができるため、半導体ウェハーＷに熱的なダメージを与えることなく、注入されたイオンの活性化および導入された欠陥の回復の双方を行うことができる。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes an electrode for applying an excitation voltage to a discharge gas to generate plasma; a jetting mechanism provided relatively movably with the surface to be processed and jetting the plasma to the surface to be processed; and a rotary mechanism configured to rotate and move the electrode such that the axis of rotation is in the jetting direction of the plasma.例文帳に追加

放電用ガスに励起電圧を印加してプラズマを発生させる電極と、被処理面との間で相対的に移動可能に設けられ、前記プラズマを前記被処理面に噴射する噴射機構と、前記プラズマの噴射方向を回転軸方向として前記電極を回転移動させる回転機構とを備える。 - 特許庁

The image processing device 101 formed on the upper surface of an image forming device 103 is provided with a first paper discharge unit 204 for discharging record papers to a paper receiving space 210, and a second paper discharge unit 205 for discharging record papers except the paper receiving space 210 provided in the side surface of the image forming device 103.例文帳に追加

画像処理装置１０１は、画像形成装置１０３の上面に設けられ、記録用紙を用紙受取空間２１０に排出する第１排紙部２０４と、画像形成装置１０３の側面に設けられ、記録用紙を用紙受取空間２１０以外に排出する第２排紙部２０５とを備える。 - 特許庁

To provide a 3-D configuration measurement device capable of reducing or inhibiting the abnormal phenomena in height measurement caused by saturation phenomena generating in the PSD (position sensing device) and its signal processing circuit by very strong reflection light from measurement object of the almost mirror surface like as metallic surface at the time of height measurement with the triangulation method.例文帳に追加

三角測量法で高さ測定を行う場合に、測定対象が金属面などの鏡面に近く非常に強い反射光により、ＰＳＤおよびその信号処理回路で発生する飽和現象による高さ測定異常を、低減・抑制することのできる、立体形状測定装置を提供する。 - 特許庁

A sample retaining tray used in the tissue sample processing system comprises a reagent-holding portion that defines a reagent-retaining recess; a sample-holding portion that defines a platen that includes a reagent surface; and a fluid flow portion that is configured to place the reagent-retaining recess that is in fluid communication with the reagent surface.例文帳に追加

組織サンプル処理システムにおいて用いられるサンプル保持トレイであって：試薬保持凹部を規定する試薬保持部分；試薬表面を含むプラテンを規定するサンプル保持部分；および該試薬保持凹部を該試薬表面と流体連絡に置くような形態である流体流れ部分を備える、サンプル保持トレイ。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes one or more antenna openings 22 formed in a wall surface of a vacuum container 4; a lid 24 for covering an external surface of the vacuum container; antenna conductors 26 provided inside the respective antenna openings 22; and dielectric cups 30 that cover the antenna conductors 26 in the respective antenna openings 22.例文帳に追加

このプラズマ処理装置は、真空容器４の壁面に設けられた１以上のアンテナ用開口２２と、その真空容器外側の面を塞いでいる蓋２４と、各アンテナ用開口２２内に設けられたアンテナ導体２６と、各アンテナ用開口２２内においてアンテナ導体２６を覆っている誘電体カップ３０とを備えている。 - 特許庁

The steering switch comprises a load detection switch 30 disposed along a surface of a steering wheel 20, a plurality of switch units 40a-40j disposed on the surface of the steering wheel 20 at the position of arranging the load detection switch 30, and a processing unit 7 to receive the input based on the detection signal from the load detection switch 30.例文帳に追加

ステアリングホイール２０の表面に沿って配設された荷重検出スイッチ３０と、ステアリングホイール２０の表面であって荷重検出スイッチ３０の配設位置上に設けられた複数のスイッチ部４０ａ〜４０ｊと、荷重検出スイッチ３０からの検出信号に基づいて入力を受付ける処理部７とを備えている。 - 特許庁

To provide a new antenna device capable of reducing the camber of an antenna panel, ensuring the surface accuracy of the antenna panel, and suppressing the convergence of solar beams by forming fine projecting and recessing parts on the surface and back face of the antenna panel by blast processing, and to provide a method for manufacturing this antenna device.例文帳に追加

この発明は、アンテナパネルの表面及び裏面に微細凹凸をブラスト処理により形成することにより、アンテナパネルのそりを低減してアンテナパネルの表面精度を確保しつつ、太陽光の集光を抑制しうる新規なアンテナ装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus performing surface modification by carburizing or the like an object to be treated comprising a metal material using plasma in an inside of a vacuum furnace, capable of optionally changing an electric field strength for plasma generation, thereby improving degree of freedom in surface modification of various objects to be treated.例文帳に追加

真空炉の内部にてプラズマを用いて金属材料からなる被処理物の浸炭等による表面改質を行うプラズマ処理装置において、プラズマ生成のための電界強度を任意に変更可能とし、これによって多種多様な被処理物の表面改質における自由度を向上させる。 - 特許庁

The semiconductor stacked structure includes a linear ridge 20 formed on a first surface, a pair of laser resonance surfaces 21 and 22 formed on the longitudinal edges of the ridge 20, and edge-face processing marks 8 formed in the lower edge portions of the laser resonance surfaces 21 and 22 continuing to a second surface of the semiconductor stacked structure.例文帳に追加

前記半導体積層構造は、表面側に形成された直線状のリッジ２０と、リッジ２０の長手方向両端に形成された一対のレーザ共振面２１，２２と、レーザ共振面２１，２２において前記半導体積層構造の裏面に連なる下縁領域に形成された端面加工痕８とを含む。 - 特許庁

To provide a high gloss decorative sheet having a high gloss feeling, excellent in mirror surface properties and marking erasing properties and having an ionizing radiation curable resin, which suppresses the slip properties of a panel at the time of processing of the decorative sheet into a decorative panel, in its surface protective layer, and a decorative panel constituted by joining the decorative sheet and a substrate.例文帳に追加

高光沢感を有する化粧シートにおいて、表面の鏡面性およびマジック消去性に優れ、かつ化粧板に加工した際の板のすべり性をおさえた電離放射線硬化性樹脂を表面保護層に有する化粧シート及び該シートと基板とを接合した化粧板を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus capable of eliminating a cause of particle generation and the necessity of a substrate cooling mechanism by eliminating the necessity of heating a substrate in coating an adhesion reinforcing agent on the main surface of a substrate in substrate processing of forming an application film after coating the adhesion reinforcing agent on the main surface of the substrate.例文帳に追加

基板の主面に密着強化剤を被着させた後に塗布膜を形成する基板処理において、基板の主面に密着強化剤を被着させる際に基板を加熱する必要を無くし、パーティクル発生の原因を取り除くとともに、基板冷却機構を不要とすることができる装置を提供する。 - 特許庁

A transparent conductive film 12 is formed covering the top surface and a flattening film 13 is formed thereupon and the entire surface is etched until the acryl-based resin film 10a in the area except the through hole and recess is exposed to pattern pixel electrodes 12a, and contact hole processing and pixel electrode patterning are carried out by a sheet of photomask.例文帳に追加

その表面を覆うように透明導電膜１２を形成し、その上に平坦化膜１３を形成し、貫通孔および凹所以外の領域のアクリル系樹脂膜１０が露出するまで全面エッチングすることで画素電極１２ａをパターニングし、コンタクトホール加工と画素電極パターニングを１枚のフォトマスクで行う。 - 特許庁

With respect to the processing method for a recording sheet S which can be recycled by removing printing toner stuck to the surface, the surface of the recording sheet S to which toner is stuck is subjected to unreadability treatment by an unreadability treatment part, for example, a heat roll 13 of an unreadability treatment device 10 so that secret information cannot be seen from the outside.例文帳に追加

表面に付着された印字用トナーを除去することにより再生可能な記録シートＳの処理方法において、トナーが付着した記録シートＳの表面に、不読化処理装置１０の不読化処理部、たとえば加熱ローラ１３等により不読化処理を施し、外部から機密情報が見えないようにする。 - 特許庁

At the surface processing, the table 10 is rotated in a state that the substrates 12 are placed on a plurality of portions of the table 10, respectively apart from the base end of the protrusion 13 to the direction of an outer peripheral end portion of the table 10 with an equal distance from the tip of the protrusion 13, while each surface to be processed is horizontally supported.例文帳に追加

表面処理時には、突起部１３の基端からテーブル１０の外周端部方向に所定距離だけ離れ、且つ、それぞれ突起部１３の先端から等距離となるテーブル１０上の複数の部位に、基板１２をその被処理面が水平になるように支持した状態でテーブル１０を回転させる。 - 特許庁

To provide a surface protection polypropylene based resin film roll which excels in heat-resistant dimensional stability and flatness, excels in impact resistance and lamination processability, reduces fish eyes, has good transparency, furthermore does not vary the external appearance, and is suited in each step of pressure-sensitive adhesive application, adhesion processing, and peeling and a surface protection film roll.例文帳に追加

耐熱寸法安定性や平面性に優れ、耐衝撃性や貼り合わせ加工性に優れ、フィッシュアイが少なく、透明性がよく、さらに外観変動がなく、粘着剤塗布・粘着加工・剥離の各工程に適した表面保護用ポリプロピレン系樹脂フィルムロールおよび保護フィルムロールを提供することにある。 - 特許庁

The measured surface shape of the evaporation pipe 4 is superimposed on a reference surface shape for the evaporation pipe 4, including the reference mark and having no reduction in thickness, which has been stored previously in a storage means, and the amount of the reduction in thickness of the evaporation pipe 4 is calculated from the difference between both by the signal processing device 16.例文帳に追加

計測された蒸発管４の表面形状を、信号処理装置１６によって、記憶手段に予め記憶された減肉がない状態における、前記基準マークを含む蒸発管４の基準表面形状に重ね合わせて、両者の差分から蒸発管４の減肉量を算出する。 - 特許庁

A construction method division determination part 16a determines, on the basis of information showing finished states of a side surface in respective stages and finished states of a bottom surface in respective stages, which are indicated by hole information, construction method divisions suitable for processing of a hole represented by the hole information per stage in accordance with stored contents in an HDD 10d.例文帳に追加

工法区分決定部１６ａが、穴情報が示す各段毎の側面の仕上がり状態を表す情報、及び各段毎の底面の仕上がり状態を表す情報に基づいて、この穴情報が示す穴の加工に適した工法区分をＨＤＤ１０ｄに記憶された記憶内容から各段毎に決定する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and image forming system which can execute coating processing such as varnish and a film onto a fixed surface of a transfer material on which the toner image is fixed, while avoiding a drop in operating efficiency and high cost of production, and can improve correctivity on the fixed surface of the transfer material.例文帳に追加

作業効率の低下及びコスト高を回避しつつ、トナー画像が定着された定着済みの転写材の表面へのニス、フィルム等のコート処理を良好に行うことができ、当該定着済みの転写材の表面における加筆性を向上させることができる画像形成装置及び画像形成システムを提供する。 - 特許庁

By subjecting a mother substrate 6 to a chemical strengthening treatment, a compression stress layer of 15 to 50 μm in thickness is formed on the surface; after a desired processing tretament is carried out on at least one surface of the mother substrate 6, the mther substrate 6 is cut along imaginary lines 10 into individual glass substrates 1.例文帳に追加

マザー基板６に化学強化処理を施すことにより、表面に１５〜５０μｍの厚さの圧縮応力層を形成し、前記マザー基板６の少なくとも一方の面に所望の加工処理を行った後、前記マザー基板６を仮想の切断線１０に沿って個片のガラス基板１に切断することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive dry film which can be developed with a water-based developer, ensures good surface smoothness, flame retardancy, adhesion and surface hardness of a cured film after an alkali processing step, and avoids bleed-out of a flame retardant from the cured film; and to provide a printed wiring board using the photosensitive dry film.例文帳に追加

本願発明の課題は、水系現像が可能で、アルカリ処理工程後の硬化膜表面平滑性、難燃性、密着性、表面硬度が良好で、かつ、硬化膜からの難燃剤のブリードアウトが発生しない優れた感光性ドライフィルム、及びこれを用いたプリント配線板を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for producing a permanent protective coating for a printed wiring board using an excellent photosensitive resin composition which can be developed with a water-based developer, ensures good surface smoothness, flame retardancy, adhesion and surface hardness of a cured film after alkali processing, and avoids bleed-out of a flame retardant from the cured film.例文帳に追加

本願発明の課題は、水系現像が可能で、アルカリ処理後の硬化膜表面平滑性、難燃性、密着性、表面硬度が良好で、かつ、硬化膜からの難燃剤のブリードアウトが発生しない優れた感光性樹脂組成物を用いたプリント配線板用永久保護膜の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

First and second openings 440, 450 are formed in the first and second metal plates, respectively, and first and second inclined surfaces 441, 451 are formed at first and second opening peripheral units 44, 45, respectively for dividing and forming the first and second openings 440, 450 by press surface processing to allow exposure to a surface side of the dial 4.例文帳に追加

第１、第２金属板には、第１、第２開口４４０，４５０がそれぞれ形成され、第１、第２開口４４０，４５０を区画形成する第１、第２開口周縁部４４，４５には、文字板４の表面側に露出するようにプレス面押し加工により第１、第２傾斜面４４１，４５１がそれぞれ形成される。 - 特許庁

The correction function creation step creates the optical condition correction function that corrects a lighting parameter other than an exposure amount to be used in exposure processing onto the first substrate based on exposure coordinates within the first substrate surface on the basis of a substrate in-surface size distribution of a pattern formed on a second substrate.例文帳に追加

補正関数作成ステップでは、第１の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第１の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第２の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate which can be obtained with high yield by optimizing a center line average roughness on a polishing pad surface for CMP and processing pressure at the time of polishing, reducing the total number of defects on the semiconductor substrate surface after polishing, and also reducing the ratio of scratches in the defects.例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨パッド表面の中心線平均表面粗さおよび研磨時の加工圧力を適正化し、半導体基板表面の研磨後の総欠陥数を減らしかつ欠陥に占めるスクラッチの割合を低減して、高い歩留まりを得ることが可能な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁