「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(118ページ目) - Weblio英語例文検索

While the application head 3 discharging processing liquid moves on the whole upper surface of the substrate 100, the control part 8 determines the presence or not of the foreign matter on the upper surface of the substrate 100 based on the result obtained by comparing between the detected data and the threshold data and controls the movement of the application head 3 based on the determination result.例文帳に追加

制御部８は、塗布ヘッド３が処理液を吐出している状態で同じ基板１００の上面の全面に対して移動する間に、検出データと閾値データとを比較した結果に基づいて基板１００の上面における異物の有無を判別し、この判別結果に基づいて塗布ヘッド３の移動を制御する。 - 特許庁

To provide a sheet guide device having a movable guide surface for a processing treatment machine, constituted so that the guide surface of the sheet guide device is easily moved between a sheet holding mechanism and another sheet holding mechanism on the downstream side of the sheet transfer passage of the sheet holding mechanism.例文帳に追加

本発明は、加工処理機用の可動ガイド面を有する枚葉紙ガイド装置に関し、該枚葉紙ガイド装置のガイド面が、枚葉紙保持機構の枚葉紙移送路の下側でしかも前記枚葉紙保持機構とさらに他の枚葉紙保持機構の間において容易に動かせられる枚葉紙ガイド装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor optical detecting device 1 includes: a p-type semiconductor region 18 that is formed at the side of a surface 3a of a semiconductor substrate 3 and composes a photodiode 28 by a pn junction 26 with the semiconductor substrate 3; and a signal processing circuit section 9 formed at the side of the surface 3a of the semiconductor substrate 3.例文帳に追加

半導体光検出装置１は、半導体基板３の表面３ａ側に形成されており、半導体基板３とのｐｎ接合２６によりフォトダイオード２８を構成するｐ型半導体領域１８と、半導体基板３の表面３ａ側に形成されている信号処理回路部９と、を備えている。 - 特許庁

On the basis of this detection, while the distance between the surface 3 and the lens 108 is adjusted to be substantially constant so that a beam collection point P of laser beam L1 for processing is at a position a specific distance away from the surface 3, the laser beam L1 are collected by the lens 108 to form melted region 13 inside the workpiece 1.例文帳に追加

この検出により、加工用レーザ光Ｌ１の集光点Ｐが表面３から一定の距離の位置に合うように、表面３とレンズ１０８との距離を略一定に調整しながら、レーザ光Ｌ１をレンズ１０８で集光して、溶融処理領域１３を加工対象物１の内部に形成する。 - 特許庁

There is provided a plant processing method using a UV curable gel, wherein a first gel of low viscosity is coated on the surface of a plant substrate to form a comparatively thin coated film of the first gel, irradiating UV to completely cure the coated film of the first gel to form the first coating layer of smooth surface.例文帳に追加

紫外線硬化型ジェルを使用する植物の加工方法であり、粘性の低い第１のジェルを植物基材の表面に塗布して、第１のジェルの比較的薄い塗膜を形成し、紫外線照射して第１のジェルの塗膜を完全に硬化させて、表面が滑らかな第１のコーティング層を形成する。 - 特許庁

A plating processing is performed to the inner surface of an original board of a cylindrical shape in which refined irregularity is formed on its inner surface, subsequently the above original board is removed, and a plating member (metal cylinder) 30 of a seamless cylindrical shape having refined irregularity is inserted into the periphery of a roll mold base material MR to form a roll mold 40.例文帳に追加

内周面に微細な凹凸が形成された円筒形状の原盤の内周面にめっき処理を施し、ついで前記原盤をはずして、外周表面に微細な凹凸を有するシームレスの円筒形状のめっき部分（金属円筒）３０をロール型母材ＭＲの外周に嵌め込みロール金型４０とする。 - 特許庁

When a reflected image R_z is detected on the light receiving surface of the Z alignment two-dimensional detection sensor 60, a Z alignment signal processing circuit acquires Z luminance distribution information, and a reflected light discrimination circuit uses the Z luminance distribution information to discriminate whether the reflected light is mirror surface reflection of the cornea or diffuse reflection on an eyelid or a cheek.例文帳に追加

Ｚアライメント２次元検出センサ６０の受光面にて反射像Ｒ_Ｚが検出されると、Ｚアライメント信号処理回路はＺ輝度分布情報を取得し、Ｚ輝度分布情報を用いて反射光判別回路にて反射光が角膜の鏡面反射かまぶたや頬等の乱反射かを判別する。 - 特許庁

Through ADF mounted document read processing, shading correction data is updated effectively using the time up to when a front end of a top surface in a conveyance direction reaches a reading position after a reverse surface is read, and then while a decrease in a reading speed is suppressed, the shading correction data is suitably updated according to variation in light quantity.例文帳に追加

ＡＤＦ載置原稿読取処理によれば、裏面の読み取り後、表面の搬送方向先端が読取位置に到達するまでの時間を有効に利用してシェーディング補正データを更新することにより、読取速度の低減を抑制しつつ、光量変動に応じてシェーディング補正データを適宜更新することができる。 - 特許庁

A tray 30 includes a tray body including a tray surface for mounting a plurality of paper bundles P output from the processing section 15, and a transport section including a belt extending in an x-axis direction on the tray surface for transporting the paper bundle P toward a positive direction side in the x-axis direction by drive of the belt.例文帳に追加

トレイ３０は、処理部１５から出力されてくる複数の用紙束Ｐが載置されるトレイ面を有するトレイ本体と、該トレイ面上においてｘ軸方向に延在するベルトを含む搬送部であって、ベルトの駆動によって用紙束Ｐをｘ軸方向の正方向側に向かって搬送する搬送部と、を含んでいる。 - 特許庁

In the processing mechanism 20 of the waste plastic sheet, as water is flowed from a nozzle 36 along the surface center part of the waste plastic sheet 23 drawn from a state of a winding bundle 27 to form a water flow 37, the waste plastic sheet is conveyed while the center part of the waste plastic sheet 23 is pressed to the upper surface 22a of the guide base 22.例文帳に追加

廃プラスチックシートの処理機構２０では、巻き取り束２７の状態から引き出された廃プラスチックシート２３の表面中央部分に沿ってノズル３６から水を流すことにより水流３７を形成し、廃プラスチックシート２３の中央部分をガイドベース２２の上面２２ａに押し付けた状態で搬送する。 - 特許庁

When the processing of the predetermined number of sheets are ended and the highly reactive uppermost surface is removed from the surface of the protective layer 12E, the polishing particles 40 are not supplied to the rubbing auxiliary member 22 and, therefore, there is no such a risk that the protective layer 12E is polished over the necessary amount and the performance is adversely affected.例文帳に追加

所定の枚数を処理し終わり、反応性の高い極表層が保護層１２Ｅ表面に存在しなくなった時点では摺擦補助部材２２に対して研磨粒子４０は供給されないので、保護層１２Ｅが必要量を越えて研磨され、性能に影響を与える虞はない。 - 特許庁

This grinding machine is provided for grinding the work by relatively moving the rotating grinding wheel to the work set on a chuck upper surface, and includes a microscope movable in the vertical direction, a CCD camera for photographing an image of the microscope and an image processing device for measuring the vertical directional distance between a reference surface of the microscope and an observation object of the microscope by processing the image photographed by the CCD camera.例文帳に追加

チャック上面にセットされるワークに対して、回転する研削砥石を相対移動させることで当該ワークを研削する研削盤であって、鉛直方向に移動可能な顕微鏡と、前記顕微鏡の画像を撮影するＣＣＤカメラと、前記ＣＣＤカメラで撮影された画像を処理することによって、前記顕微鏡の基準面と当該顕微鏡の観察対象物との鉛直方向距離を測定する画像処理装置と、を備える。 - 特許庁

The magnetic recording medium in which a seed layer, a nonmagnetic substrate layer and a magnetic layer are sequentially deposited on a nonmetal substrate is obtained by executing texture processing for the surface of the nonmetal substrate, forming the films in the mixture of oxygen or nitrogen and an inactive gas, setting an oxygen or nitrogen concentration in the mixed gas to a specific concentration, and processing the surface of the seed layer by oxygen or nitrogen.例文帳に追加

非金属基板上に、シード層、非磁性下地層、および磁性層が順次成膜された磁気記録媒体において、前記非金属基板の表面にテクスチャ加工を施し、酸素または窒素および不活性ガスの混合ガス中で成膜し、かつ該混合ガス中の酸素濃度または窒素濃度を特定の濃度とし、さらに前記シード層の表面を酸素または窒素で処理することにより上記本発明の記録媒体を得る。 - 特許庁

To provide a reformer capable of reforming a surface in response to a change in a thickness of a workpiece, an image forming device having this reformer and a postprocessing device of the image forming device, in the reformer for reforming the surface by contacting plasma with a processing object surface of the sheet-like workpiece formed by applying the image formation in the image forming device.例文帳に追加

画像形成装置において画像形成が施されること等により形成されたシート状の被加工物の被加工面にプラズマを接触させて同面の改質を行う改質装置であって、被加工物の厚みの変化に対応して表面改質を行うことが可能な改質装置、この改質装置を備えた画像形成装置、画像形成装置の後処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate comprising a surface-roughening processing in which an aluminum alloy sheet is electrolytically surface-roughened by using AC in an acidic solution and an anodizing treatment process characterized by using an AC wave shape with a time of 1.5-6 msec from 0 to the peak in the electrolitically surface-roughening process is provided.例文帳に追加

酸性溶液中で交流電流を使用してアルミニウム合金板を電解粗面化処理する粗面化処理工程および陽極酸化処理工程を含む平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記電解粗面化処理において、０からピークまでに達する時間が１．５〜６ｍｓｅｃの交流電流波形を使用することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。 - 特許庁

To provide a light-emitting device in which a circuit pattern having a glossy surface can be obtained without requiring plating or etching processing, and processes can be reduced and simplified as a result, a high-density circuit pattern can be easily formed, and the circuit pattern having the glossy surface can be efficiently formed by avoiding the formation of a glossy surface on a circuit pattern which does not need gloss.例文帳に追加

めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして効率よく回路パターンの表面を光沢面に形成することができる発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The production method of the medical material includes a step of preparing the amnion cleared of the sponge layer, a step in which a biocompatible polymer membrane is bonded on one surface of the amnion and undergoes the crosslinking connection processing, a step of making the epithelial stem cells adhere onto the other surface of the amnion and a step of making the epithelial cells breed on the surface of the amnion from the epithelial stem cells.例文帳に追加

スポンジ層を取り除かれた羊膜を調製するステップと前記羊膜の一方の表面に生体適合性高分子膜を貼り合わせて架橋結合処理するステップと前記羊膜の他方の表面に上皮幹細胞を付着させるステップと前記羊膜表面に前記上皮幹細胞から上皮細胞を増殖させるステップとを含む前記医療用材料の製造方法。 - 特許庁

This road surface condition detecting method for processing an image photographed by a TV camera to detect a wet condition and a frozen condition of a road surface, is characterized in that a brightness addition value is found in a differential image provided by differentiating images before and after a photographed time, and the road surface condition is detected based on the photographed image when the brightness addition value is smaller than a preset brightness value.例文帳に追加

テレビカメラにより撮影した画像を処理し路面の濡れや凍結などを検出する路面状態検出方法において、撮影した時間的に前後する画像どうしを差分した差分画像における輝度加算値を求め、該輝度加算値が予め設定した輝度値より小さい場合に、上記の撮影した画像による路面状態検出を行うことを特徴とする路面状態検出方法である。 - 特許庁

A hole 5 that contains a groove cut on the surface of a silicon substrate W as an object of processing is filled through a filling method comprising a titanium film forming process in which a titanium metal film 6 is formed on the surface of the substrate, an etching process in which the surface of the titanium metal film 6 is uniformly removed as thick as prescribed excluding its part that combines with the ground material.例文帳に追加

シリコン基板Ｗよりなる被処理体の表面に形成されている溝を含むホール５を埋め込む埋め込み方法において、前記被処理体の表面にチタン金属膜６を形成するチタン膜形成工程と、前記チタン金属膜の表面を、チタン塩化物ガスをエッチングガスとして下地と化合した部分を除いて所定の厚さだけ略均一に除去するエッチング工程とを有する。 - 特許庁

In an ashing processing in the semiconductor manufacturing process by the plasma processing, a solid dielectric is installed on the opposing surface of at least one of a pair of electrodes opposing each other in the atmosphere under a pressure near the atmospheric pressure, and discharge plasmas obtained by introducing the processing gas between the pair of the electrodes and applying a pulse-like electric field are brought into contact with a base material to be processed.例文帳に追加

プラズマ処理による半導体製造工程におけるアッシング処理において、大気圧近傍の圧力下、雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られる放電プラズマを被処理基材に接触させることを特徴とする半導体素子の処理方法及び装置。 - 特許庁

To prevent the generation of a new flaw by catch-in of chips and abrasive grains while surely removing the chips and the abrasive grains generated by grinding of flaws generated on the surface of a metal strip by minimum processing equipment.例文帳に追加

金属帯の表面に生じる疵の研削によって発生する切屑・砥粒などを最小限の処理設備で確実に除去し、かつ、切屑・砥粒などの噛み込みによる新たな疵の発生を未然に防止することにある。 - 特許庁

To fully cope with the lifetime prolongation of an image forming apparatus and processing cartridge, accompanying speedup (process speed up), by preventing the occurrence of image defects caused by exfoliation discharge, between an image carrier surface and a rear end of a transfer material.例文帳に追加

像担持体表面と転写材後端部の剥離放電によって引き起こされる画像不良を防止して、高速化（プロセススピードｕｐ）に伴う、画像形成装置やプロセスカートリッジの長寿命化に十分対応させる。 - 特許庁

The microcomputer 2 determines the seat on which the occupant is seated by processing a heat image data and detects the wearing state of the seat belt by using discontinuity of surface temperature distribution of an upper half body of the occupant's especially of a face and a scruff.例文帳に追加

マイクロコンピュータ２は、熱画像データを処理して、乗員の居る座席を判断するとともに、乗員の上半身の特に顔および首筋の表面温度分布の不連続性を利用して、シートベルトの着用状態を検出する。 - 特許庁

In the connecting part 4, a labyrinth structure, having a contact part 5 that mutually is brought into contact with the facing surface of the flange 3a and that of the support flange 1b is formed, to prevent the infiltration of particles into the inside of the quartz processing tube 1.例文帳に追加

さらに、この継手部４に、フランジ３ａと支持フランジ１ｂとの対向面に互いに接触する接触部５を有し、上記石英プロセスチューブ１の内部にパーティクルが侵入するのを阻止するラビリンス構造を形成する。 - 特許庁

The substrate is disposed on one side surface of the optical triplexer module, in a position adjacent to the optical transmitting/receiving parts that are linearly arranged, and then, the circuits for processing the input/output signals of the optical transmitting/receiving parts are mounted on the substrate.例文帳に追加

光トリプレクサモジュールの一つの側面で、かつ直線状に配置された光送受信部に近接した位置に基板を配置し、上記光送受信部の入出力信号を処理する回路を上記基板上に実装する。 - 特許庁

To provide the structure of a piezoelectric oscillator in which processing is carried out consistently under the state of glass or silicon wafer from manufacturing process, surface mounting is possible, and a signal of desired oscillation frequency can be outputted even if the oscillator is miniaturized, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ガラスあるいはシリコンウエハ状態で製造工程から一貫して処理する表面実装可能な圧電発振器を小型化しても所望の発振周波数信号を安定して出力できる構造と製造方法の実現。 - 特許庁

In this imaging device, an optical filter 10 has defocusing correction characteristics by processing the optical filter 10 to increase thickness of its periphery in accordance with warping of a peripheral part of the imaged surface 22 if the peripheral part is warped backward.例文帳に追加

撮撮像面２２の周辺部が後方に反り返っている場合は、それに応じて光学フィルタ１０の周辺が厚くなるように加工することで、光学フィルタ１０に焦点ずれ補正特性を持たせることができる。 - 特許庁

To provide a support for photographic printing paper maintaining sufficient rigidity and excellent surface quality while having high infiltration resistance to a development processing liquid, and also free from the generation of the problem on the stain of rolls in a paper making process and a resin coating process.例文帳に追加

現像処理液に対する高い耐浸透性をもちながら、十分な剛度と優れた面質を維持し、且つ、抄紙工程及び樹脂被覆工程のロール汚れの問題を発生することなく写真印画紙用支持体を提供する。 - 特許庁

To process the deformation of the free curved surface shape of an article in a much shorter time in the case of generating the new design data of the article by operating shape deformation processing to the existing article shape.例文帳に追加

既存の物品形状に対して形状変形処理を施すことによって物品の新たな設計データを生成する際に、物品の自由曲面形状での変形を、より短時間で処理することが可能とすることである。 - 特許庁

Thus, a projecting part of a processing object surface generated by positioning the lowest point P between the rotational center of the workpiece W and the outer peripheral edge, is shaven off, and becomes the substantially same height as relatively projecting these intermediate parts.例文帳に追加

そのため、最下点ＰをワークＷの回転中心と外周縁との間に位置させることに起因して生ずる被加工面の凸部が削り落とされて、相対的に凹になっていたそれらの中間部と略同じ高さとなる。 - 特許庁

The finishing accuracy of grinding processing of the outer edge part of the ring-shaped surface 52c is not sufficient, however, the part is covered with the ring-shaped spacer member 58, therefore no adverse effect is exerted on the performance such as abrasion resistance, of the thrust bearing part 80.例文帳に追加

環状面５２ｃの外周縁部は、研磨加工の仕上げ精度が不十分であるが、その部分は環状スペーサ部材５８により覆われているので、スラスト軸受部８０の耐磨耗性等の性能に悪影響を及ぼさない。 - 特許庁

To provide a flip-chip connection method which can prevent damage on a chip active surface caused by fine dust by completely packing an underfill resin between a chip and a substrate even if the height of a gold stud bump reduces in accordance with a narrow pitch processing of a semiconductor chip.例文帳に追加

半導体チップの狭ピッチ化に伴い金スタッドバンプの高さが減少しても、チップ−基板間へアンダーフィル樹脂を完全充填し、微小塵によるチップアクティブ面の損傷を防止できるフリップチップ接続方法を提供する。 - 特許庁

To provide an on-ground object shape and three-dimensional map preparation processing system for automatically preparing a three-dimensional map by classifying on-ground object shapes and a ground surface on the basis of a high density elevation model at an on-ground position obtained by airplane laser measurement.例文帳に追加

航空機レーザー測量で得た地上位置の高密度標高モデルに基づいて、地物形状と地表面を分類して３次元地図を自動的に作成する地物形状と３次元地図作成処理システムを提供する。 - 特許庁

In the working processing, on the other hand, the energy density is decreased and the spot diameter is increased of the laser beam 2 with which the surface of the work W is irradiated by inserting a movable lens 10 into the optical path from the laser oscillator 1 to the condenser lens 5.例文帳に追加

そして、マーキング加工時にはレーザ発振器１から集光レンズ５への光路に可動レンズ１０を挿入し、被加工物Ｗの表面へ照射されるレーザ光２をエネルギ密度が低くスポット径の大きなものとする。 - 特許庁

To set an appropriate material load factor (member surface area/chamber volume) for various samples without processing the samples, and to enable collection of VOC by reproducing the dissipation speed of the VOC in a state close to a using aspect.例文帳に追加

試料を加工することなく、種々の試料に対し適切な材料負荷率（部材表面積／チャンバー容積）を設定でき、ＶＯＣの放散速度を使用態様に近い状態で再現してＶＯＣを捕集することを可能にする。 - 特許庁

The member K and the peeled film N are carried on the outside peripheral surface of the drum 24 in a state of being superposed on a processing member M for fixing, also heated by the drum 24, and processed in terms of fixation.例文帳に追加

そして、現像用処理部材Ｋと剥離されたフィルムＮは定着用処理部材Ｍと重ね合わされた状態でドラム２４の外周面を搬送されると共にドラム２４により加熱され、定着処理が施される。 - 特許庁

An enclosure wall 6 is provided at position which encloses a work 4 on a process stage 3, where the work 4 is placed so that an ozone gas which tends to flow down from the process stage 3, is kept inside the enclosure wall 6 for damming, for improved ozone concentration on the processing surface of work 4.例文帳に追加

ワークを載置する処理ステージ上の前記ワークを囲む位置に囲壁を設けることにより、処理ステージから流下傾向にあるオゾンガスをせき止め囲壁内に滞留させて、ワーク処理面におけるオゾン濃度を向上させる。 - 特許庁

The structural component for the speaker device is applied to, for example, a diaphragm, frame, voice coil bobbin, center cap or dust cap of the speaker device, and has a configuration in which a metal coating is formed by plating processing on the surface of a magnesium-based material used as a base material.例文帳に追加

スピーカー装置用構成部材は、例えばスピーカー装置の振動板、フレーム、ボイスコイルボビン、センターキャップ又はダストキャップなどに適用され、基材であるマグネシウム系素材の表面に、メッキ処理により金属皮膜が形成されている。 - 特許庁

To prevent contamination of a side face in forming a resist film, to reduce processes and to improve a yield, in relation to a device for forming a resist film for forming the resist film on a surface in a processing process of a photomask or a wafer.例文帳に追加

本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関し、ジスト膜形成に側面の汚染を防止し、工程の削減、歩留りの向上を図ることを目的とする。 - 特許庁

Also the nonwoven fabric 8 includes a face-bonded part 8a formed by face-bonding neighboring contact parts of the split web 1 and the slit web 6 and a circular recess part 8b formed on a surface of the nonwoven fabric 8 by emboss processing.例文帳に追加

また、不織布８は、隣接するスプリットウェブ１とスリットウェブ６との接触部位同士を面接着させて形成された面接着部８ａと、エンボス加工により不織布８の表面に形成された円状の凹部８ｂと、を備える。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus, a method and a substrate processing apparatus which can slower progress of the contamination on a rotating roll cleaning member used for the cleaning a pattern forming surface and also can extend the replacement period.例文帳に追加

パターン形成面の洗浄に使用された回転ロール型洗浄部材の汚染の進みを遅くでき、交換時期を長くすることができる基板洗浄装置、基板洗浄方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent a film from being formed on an inner surface of a sidewall part 14 of a dielectric wall vessel 11 by a scattering substance associated with sputter etching to hinder supply of high-frequency power, in an inductively-coupled plasma processing device.例文帳に追加

誘導結合形プラズマ処理装置において、スパッタエッチングに伴う飛散物によって誘電体壁容器１１の側壁部１４内面へ膜が形成され、高周波電力の供給が阻害されることを防止する。 - 特許庁

With this processing method, a dielectrics 23 coated on the first electrode 22 functions as an aggregate of micro capacitors so that no electric discharge is converged on a specific position, giving no damage on the hole formation surface and the like.例文帳に追加

この処理方法によれば、第１電極２２に被覆された誘電体２３が微小コンデンサの集合体として機能し、放電を特定の位置に集中させない役割を果たすため、孔形成面等に損傷を与えることがない。 - 特許庁

A shielding material M of a long shape (wire-like), supplied from the supply wheel 101, is bridged and supported in between the pair of support wheels 102, and the shielding material M of that part is arranged above the processing surface SA of the sample S.例文帳に追加

供給ホイール１０１から供給された長尺状（ワイヤ状）の遮蔽材Ｍは、一対の支持ホイール１０２の間で架橋されて支持され、この部分の遮蔽材Ｍが試料Ｓの加工面ＳＡの上方に配置される。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of effectively removing the roughness of the surface on the fringe of a substrate and films which stick to the fringe and contaminate the substrate in the process of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程などにおいて、基板の周縁部等に発生する表面荒れや基板の周縁部等に付着し汚染源となる膜を効果的に除去することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁