「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(115ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, the image processing part 320 uses the selected threshold to discriminate whether the level of the image signal outputted from the signal amplifying part is within the allowable range when the light emitting part projects light on a reference surface.例文帳に追加

さらに、画像処理部３２０は、選択した閾値を用いて、発光部から参照面に対して投光されたときに信号増幅部から出力される画像信号のレベルが許容範囲内であるか否かを判別する。 - 特許庁

To provide a transfer laminated sheet which is applicable to a small- size, inexpensive lamination apparatus for pouch processing and can form a surface protective film on a sheet to be laminated without changing the physical properties of the sheet.例文帳に追加

小型で安価なパウチ加工用ラミネート装置に対しても適用でき、被ラミネートシートの物理的性状を変えることなく、被ラミネートシート上に表面保護膜を形成することが可能な転写ラミネートシートを提供する。 - 特許庁

In order to obtain both surfaces being smooth and flat, a flake-shaped glass body is produced in the noncontact state without bringing glass into contact with a molding/processing device surface such as a roller or a substrate as in a conventional production method.例文帳に追加

両面が平滑な表面とするために、従来の製造方法のようにローラーや基板などの成形・加工装置表面にガラスを接触させることなく、非接触でフレーク状ガラス体を作製する。 - 特許庁

The reproduced melamine resin material for compression molding of the reproduced melamine resin molded article contains a black coloring agent with a ratio of at least 0.5% based on the total weight, and mat crimp processing 1s is given across the entire surface after molding.例文帳に追加

再生メラミン樹脂成形品の圧縮成形用再生メラミン樹脂材料は全重量比０.５％以上の黒色着色剤を含み、成形後の表面全体に艶消しシボ加工１ｓが施される。 - 特許庁

To provide a peening tool, capable of intensively peening a specific processing area in the peripheral direction at a work surface, and capable of miniaturizing a retainer for retaining a pressing body for performing peening.例文帳に追加

ワークの表面における周方向での特定の加工部位を集中的にピーニング加工することが可能なピーニング工具を提供すると共に、ピーニング加工を行う押圧体を保持するリテーナを径方向で小型化する。 - 特許庁

A medium Z inserted from a medium insertion port 4 rolls on an inclined surface 25a in the radial direction with self-weight and is interlocked to third and fourth shutters 31, 32 and located at a medium processing part 27.例文帳に追加

媒体投入口４から投入された媒体Ｚは、傾斜面２５ａを自重によって径方向に転動して第３および第４のシャッタ３１，３２に係止されて媒体処理部２７に位置付けられる。 - 特許庁

To provide a method of processing a glass substrate by which an uneven shape is formed on the surface of a passage or the like at a low cost with high precision and a properly fabricated shape is obtained even on the edge part of a micro-processed uneven structure.例文帳に追加

流路などの表面に凹凸形状を安価にかつ高精度に形成することができ、微細凹凸構造のエッヂ部においても適切な加工形状が得られるガラス基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated body suitably usable as machine parts, car parts or the like and good in sliding property, surface scratching resistance, heat resistance, adhesion to a metal and further less susceptible to peeling of a cut edge on shearing processing.例文帳に追加

機械用部材、自動車部品等として好適で、摺動性、耐表面傷付き性、耐熱性、金属との接着が良好であり、シャーリング加工において切断端部の剥離が少ない積層体を提供すること。 - 特許庁

An indented part 113tR1 is provided on a side surface of a frame body in the direction of attachment of a second process cartridge B2 for high processing speed, and a projecting part 216f is provided in an attaching part of a corresponding second image forming device A2.例文帳に追加

プロセス速度の速い第２のプロセスカートリッジＢ２における装着方向枠体側面に凹部１１３ｔＲ１を設け、対応する第２の画像形成装置Ａ２の装着部に突起部２１６ｆを設ける。 - 特許庁

To provide a process of processing a semiconductor wafer, by which back surface grinding of the semiconductor wafer having large unevenness is facilitated, the wafer is easily divided into individual chips and a sheet can be peeled without incurring any problem of remaining paste.例文帳に追加

凹凸の大きな半導体ウエハに対する裏面研削、およびチップ個片化が容易であるとともに、糊残り等の不具合なしに簡単にシートを剥離できる半導体ウエハの加工プロセスを実現する。 - 特許庁

Translucent information such that the nipples becomes thin as it goes to the vicinity of an outline of the liquid surface is set, and translucent processing can be executed on the basis of the translucent information when plotting the nipple object.例文帳に追加

液面の輪郭付近に近づくほど波紋を薄くするような半透明情報を設定しておき、波紋オブジェクトを描画する際に当該半透明情報に基づき半透明処理を行うようにしてもよい。 - 特許庁

To provide a resin molded article having a different color part capable of being easily provided to the surface thereof without applying coloring processing and excellent in appearance quality, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

着色加工を施すことなく、表面に、異なる色を有する部分を容易に設けることができるとともに、外観品質にも優れた樹脂成形品および樹脂成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Sticking of deposits on the upper half surface of the second gas supply member 42 can be suppressed with plasma produced in the processing container 2, and then the discharge hole 71 can be prevented from being blocked.例文帳に追加

処理容器２内に発生するプラズマによって、第２のガス供給部材４２の上半面に対する堆積物の付着を抑制することができ、吐出孔７１が閉塞されるのを防止することができる。 - 特許庁

After the work 2 has been processed, cutting fluid is stored in a receiving member 6 in such a way that the processing surface 11a of the tool 11 is dipped therein and ultra sonic vibration is applied to cutting fluid is 7, so that the clogging of the tool 11 is thereby removed.例文帳に追加

ワーク２の加工後に、工具１１の加工面１１ａが浸漬するように加工液７を受け部材６に貯留し、加工液６に超音波振動を加えて工具１１の目詰まりを除去する。 - 特許庁

A surface of the reflection layer is preferably smoothed by calender processing, and the white pigment is preferably at least one white pigment selected from alumina, yttrium oxide, zirconium oxide, and titanium oxide.例文帳に追加

反射層の表面はカレンダー処理により平滑化されていることが好ましく、白色顔料はアルミナ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる少なくとも一種の白色顔料であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a cleaning method of a semiconductor substrate which does not make metal wiring be eluted without generating a spot on the surface of a semiconductor substrate, and to provide a semiconductor substrate processing device used for such cleaning.例文帳に追加

半導体基板の表面にシミを発生させず、しかも、金属配線を溶出させることのない半導体基板の洗浄方法と、そのような洗浄に使用される半導体基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A rectangular tubular ground pattern 15 is formed with a conductive wiring pattern around the radiation detection element 5 and amplifying circuit 6 fixed to the upper surface of a signal processing circuit board 3.例文帳に追加

信号処理回路基板３の上面に、当該上面に固定された放射線検出素子５及び増幅回路６の周囲に長方形の管状にグランドパターン１５を導電性の配線パターンにて形成する。 - 特許庁

The substrate 2 has a hemispherical projection portion 13 formed on the backside 14 on the opposite side from the upper surface where the nitride semiconductor layers are formed by removing a processing deterioration layer on the backside 14.例文帳に追加

基板２において、窒化物半導体層が形成された表面と反対側の裏面１４には、裏面１４の加工変質層を除去することにより形成された半球状の凸部１３が形成される。 - 特許庁

To make an operator understand easily that a foam molding base material insert is performed with the surface treatment by a frame processing and the like not only before the manufacturing of a foamed molding but also after the manufacturing of the foamed molding.例文帳に追加

フレーム処理等による表面処理が施された発泡成形用基材インサートであることを、発泡成形品の製造前のみならず、発泡成形品の製造後においても、作業者が容易にわかるようにする。 - 特許庁

The method for producing particulate phosphor comprises a preparation step S1 preparing the raw material solution for the particulate phosphor, a spraying and pyrolysis step S2, a surface processing step S3 and a light emission activating step S4.例文帳に追加

微粒子蛍光体の製造方法は、微粒子蛍光体の原料溶液の調整ステップＳ１と、噴霧熱分解ステップＳ２と、表面処理ステップＳ３と、発光活性化処理ステップＳ４とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a method of processing a semiconductor substrate which makes the surface of a semiconductor element on the opposite side from a semiconductor circuit-formed side flat, realizing a good connection of the semiconductor element with a circuit board.例文帳に追加

半導体回路の形成面とは反対側表面が平坦になり、回路基板との良好な接続を実現することができる半導体素子を得ることができる半導体基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a precision processing method optimum for accurately correcting the shape of an aspherical lens whose shape is complicated, and further to provide a highly accurate lens having excellent surface smoothness and complicated shape.例文帳に追加

形状が複雑な非球面レンズの形状修正を高精度に行うのに最適な精密加工方法を提供し、さらに表面の平滑性に優れかつ複雑な形状を有する高精度レンズを提供する。 - 特許庁

To provide a composite surface processing device that serves as an ion implantation device using an ion beam and also as a plasma doping device at the same time, and carries out a low-energy ion doping process using an ion beam with high accuracy and high efficiency.例文帳に追加

イオンビームを用いたイオン注入装置とプラズマドーピング装置とを兼ね備えた複合型の表面処理装置において、イオンビームを用いて低エネルギーのイオンドーピング処理を高精度かつ効率良く行う。 - 特許庁

To provide an endoscope capable of preventing the erosion of stainless steel material arranged in the inside space of the endoscope by preventing a chrome oxide film in the surface of the stainless steel material from being damaged during processing with an autoclave.例文帳に追加

オートクレーブ処理の際にステンレス鋼材表面のクロム酸化膜が破壊されないようにして、内視鏡の内部空間に配置されているステンレス鋼材の腐食を防止することができる内視鏡を提供すること。 - 特許庁

To enhance intra-plane uniformity in laser processing, in an apparatus in which a cup with a chuck arranged is horizontally moved and in which for example dicing is performed by a laser beam with a liquid interposed on the surface of a wafer.例文帳に追加

チャックが配置されたカップを水平方向に移動させ、ウエハの表面に液体を介在させてレーザー光により例えばダイシングを行う装置において、レーザー処理の面内均一性を向上させること。 - 特許庁

The signal processing IC 2 and semiconductor IC 3 are fixed on the same surface of a flexible substrate 1 and put back to back when the flexible substrate 1 is folded.例文帳に追加

フレキシブル基板１の同一面上に信号処理ＩＣ２及び半導体ＩＣ３とが固定され、信号処理ＩＣ２と半導体ＩＣ３とは、フレキシブル基板１が折り曲げられた状態において背面が重なっている。 - 特許庁

The microarray including a substrate and a cover stickable to its part has characteristics wherein antistatic processing is applied to the cover surface, and the cover has at least one hole penetrating itself.例文帳に追加

基板とその一部に密着可能なカバーとを含むマイクロアレイであって、カバー表面に帯電防止加工が施されており、かつカバーがそれを貫通する少なくとも１つの孔を有していることを特徴とするマイクロアレイ。 - 特許庁

To eliminate fine damage and metal impurities which are generated by processing a semiconductor substrate, and enable the superior elimination of impurities on the substrate which contain organic deposits and fine particles on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の加工により生じた微小ダメージや金属不純物を除去するとともに、半導体基板表面の有機性付着物や微粒子を含む基板上の不純物を良好に除去し得る。 - 特許庁

The heat energy generation method includes a step of processing the powder so that oxides on the surface of the powder of the Pd-containing alloy are removed, and a step of supplying high-purity hydrogen gas to the processed powder.例文帳に追加

熱エネルギー発生方法は、Ｐｄ含有合金の粉末の表面の酸化物が除去されるように粉末を処理するステップと、高純度の水素ガスを処理された粉末に供給するステップとを包含する。 - 特許庁

The surface of the plate can be roughened by a process made by an irradiating means for electric particulates or an irradiating means for physical particulates including electrochemical etching process or a laser shot processing.例文帳に追加

上記板の表面は、電気化学的エッチング処理又はレーザーショット加工処理を含む電気的微粒子の照射手段又は物理的微粒子の照射手段による処理により粗面化することができる。 - 特許庁

To provide a rare earth magnet having no risk to be decomposed due to hydrogen fragility when it is used in a hydrogen gas atmosphere and to contaminate a reaction vessel with a magnet surface processing film.例文帳に追加

水素ガス雰囲気中で使用される場合に、水素脆性により分解するおそれがなく、さらに磁石表面処理膜で反応槽を汚染するおそれのない希土類磁石を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an electronic device which includes a plating film forming process for preferentially burying a plating film in the recess of a substrate by an electroplating processing in a state where a surface is made almost flat.例文帳に追加

電解めっき処理により基材の凹部にめっき膜を優先的にかつ表面が略平坦化された状態で埋め込むことが可能なめっき膜形成工程を含む電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pigmented polymer composition; and to provide a method for preparing the melt-processible polymer composition comprising a melt-processible polymer, a surface-treated inorganic pigment (typically titanium dioxide) and a polymer processing aid.例文帳に追加

顔料を添加したポリマー組成物、ならびに、溶融加工が可能なポリマー、表面処理した無機顔料（典型的には二酸化チタン）およびポリマー加工助剤を含む溶融加工が可能なポリマー組成物の調製方法。 - 特許庁

In the region of the heat accumulation layer 12 opposite to the heat element 13, a plurality of hollow portions 26 are formed by laser processing using femtosecond laser at positions away from the surface on which the heat element 13 is formed.例文帳に追加

蓄熱層１２の発熱抵抗体１３に対向する領域には、発熱抵抗体１３が形成される面から離間した位置に、フェムト秒レーザーを用いたレーザー加工によって空洞部２６を複数形成する。 - 特許庁

To provide an ion implantation annealing method for single crystal silicon carbide (SiC) which has good electric activity of ion doping, can reduce surface roughness due to annealing processing and has good throughput.例文帳に追加

単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）に対するイオン注入アニール方法において、イオンドープの電気的活性度が良好であると同時にアニール処理による表面粗れを低減でき、且つスループットが良好な方法を提供する。 - 特許庁

The image of the card surface of a predetermined area TX of the time card TC is picked up by an image sensor 5' and digital image data obtained by subjecting this image data to image processing is stored in a memory 6 for each individual as individual employee identification information.例文帳に追加

タイムカードＴＣの所定エリアＴＸのカード面を画像センサー５′で撮像し、この撮像データを画像処理したデジタル画像データを、社員個人の識別情報として各個人のメモリ６に記憶させる。 - 特許庁

To provide a ceramic heater for a semiconductor manufacturing apparatus which can prevent the generation of damage at the time of thermal processing and improve soaking performance on the surface of a wafer by optimizing a distance between wirings of a resistive heat generator.例文帳に追加

抵抗発熱体の配線間距離を最適化することによって、加熱処理時に損傷が発生せず、しかもウエハ表面の均熱性を高めた半導体製造装置用セラミックスヒーターを提供する。 - 特許庁

An initial setting processing part 30 sets the threshold for the driver by correcting the threshold to serve as the reference using the measurements given by a seat pressure gauge 4 and a blood flow meter 6 arranged on the seating surface of a seat 2 when the driving is started.例文帳に追加

初期設定処理部３０は、運転開始時においてシート２の座面に配設された座圧計４、血流計６からの測定値を用いて基準となる閾値を補正して当該ドライバのための閾値を設定する。 - 特許庁

A plurality of recesses 60 are formed by laser processing either in the periphery (seat surface 51) of a suction hole 24 with which the suction valve 30 of a valve plate 2 is in contact, or in a part of the suction hole 24 coming into contact with the valve plate 2.例文帳に追加

バルブプレート２の吸入弁３０が当接する吸入孔２４の周囲（シート面５１）、又は、バルブプレート２と当接する吸入弁２４の部分に、レーザ加工により複数の凹部６０を形成する。 - 特許庁

An organic solvent containing a conductive compound of 150°C to 250°C in boiling point is used as the electric current processing agent and applied onto the circuit board to electrically process the circuit board surface.例文帳に追加

沸点１５０℃以上２５０℃以下の導電性化合物を含有した有機溶媒を通電処理剤として用い、回路基板上に塗布して回路基板表面に通電処理を施すことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a work holding head and a polishing device having the work holding head capable of unifying a polishing rate on a substantially whole surface of work, wherein pressure distribution in processing is unified even when an orientation flat or a notch is provided on the work.例文帳に追加

ワークにオリフラやノッチが設けられていても、加工時の圧力分布が均一となり、ワークの略全面において研磨レートを均一とできるワーク保持ヘッド及び該ワーク保持ヘッドを有する研磨装置を提供する。 - 特許庁

The spool cut in a cutting process 1 is polished in a polish process 2 and soaked in an electrolytic solution to be given anodizing processing in an anodizing filming process 3 so as to form a porous anodizing film on the surface of the spool.例文帳に追加

切削工程１で切削加工したスプールを研磨工程２で研磨し、陽極酸化被膜工程３で電解液に浸漬して陽極酸化処理し、スプール表面に多孔性の陽極酸化被膜を形成する。 - 特許庁

When a camera 11 is attached on a vehicle, a road surface 16 is recognized using an infinite point 18 and recent points 19 in extension of white lines 17 as a reference point in an image 10 which is picked up by an image processing part 13.例文帳に追加

カメラ１１を車両に取付ける際に、路面１６を撮像する画像１０中に、白線１７の延長上の無限遠点１８や最近点１９を基準点として、画像処理部１３で認識する。 - 特許庁

To propose a material for making a printing face, which is suitable for printing images different from one another times out of number with one and the same thereof and excellent in surface characteristics and processing characteristics, so as to reduce a cost.例文帳に追加

同一の版面で異なる画像を何度も印刷するのに好適であるような、優れた表面特性と処理特性を有する版面のための材料を提案し、同時に、それによってコストを削減する。 - 特許庁

To provide a bag for stick pack, the bag having a mechanical strength and heat resistance required for a packing material and which can be torn from any part thereof with the hand without providing any notches or surface- scratch processing thereon.例文帳に追加

包装材料として求められる力学的強度や耐熱性を有すると共に、ノッチ付与や表面傷加工を施すことなく、どこからでも自由に手で引裂けるスティック包装袋を提供する。 - 特許庁