| 例文 |
processing surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7705件
An opposite surface of a press part 18 in a reception part 16 in the processing tool 10 is provided with a plurality of pins 32a, b, and the pins 32a, b are put through attachment holes 62 for the bone plate 60.例文帳に追加
加工用具10における受け部16における押さえ部18との対向面は複数のピン32a,bが設けられており、骨接合用プレート60の取り付け穴62にピン32a,bを通すことができる。 - 特許庁
To obtain optimum conditions for processing of a thin film lithography element by one time of etching when the surface of one glass substrate is provided with fine pattern parts and coarse pattern parts varying in the sizes of the patterns in combination.例文帳に追加
薄膜リソグラフィ素子において、パターンの寸法が異なる微細パターン部および粗大パターン部がひとつのガラス基板の表面に併設される場合、1回のエッチングで加工するための最適条件が得られない。 - 特許庁
The magnetostrictive member is of the composition in which an alloy layer containing a predetermined quantity of aluminum together with iron and unavoidable impurities in the remaining part is integrally formed on the surface of a steel member by hot plastic processing.例文帳に追加
本発明の磁歪部材は、所定量のアルミニウムを含み、かつ残部に鉄および不可避不純物を有する合金層を、鋼部材の表面に熱間塑性加工により一体に形成した構成を有している。 - 特許庁
In the manufacturing method of the optical film, ink droplets are stuck on a transparent base material film, thereby, fine convex structures are formed on at least one side surface of substrate surfaces and, resultantly, anti-blocking processing is performed.例文帳に追加
透明基材フィルム上にインク液滴を付着させて、該基材表面の少なくとも一方の面に微細凸構造を形成しブロッキング防止加工をすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁
In the treatment method of an amorphous carbon film which is formed on a substrate and has been treated with wet washing after dry etching, the surface of the amorphous carbon film is treated with reforming processing before forming an upper layer thereon after the wet washing.例文帳に追加
基板上に成膜され、ドライエッチング後にウエット洗浄処理が施されたアモルファスカーボン膜の処理方法であって、ウエット洗浄処理後、上層の形成前に、アモルファスカーボン膜の表面改質処理を行う。 - 特許庁
To provide a laser processing method capable of cutting particularly a laminate with high accuracy at the time of cutting an object to be processed provided with the laminate formed on the surface of the substrate including the substrate and functional elements.例文帳に追加
基板と、機能素子を含んで基板の表面に形成された積層部とを備える加工対象物を切断するに際し、特に積層部を高精度に切断することができるレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide a lane marker position detecting method and lane maker position detecting device capable of detecting a lane maker position provided on a road surface without performing a large amount of calculation processing and a lane deviation alarm apparatus.例文帳に追加
多量の計算処理を行うことなく路面に設けられたレーンマーカー位置の検出を行うことができるレーンマーカー位置検出方法及びレーンマーカー位置検出装置並びに車線逸脱警報装置を提供する。 - 特許庁
To provide a processing device for a battery electrode sheet which can easily and surely fuse and remove a protruding metal from a surface or the like of a narrow width battery electrode sheet which is punched out and cut.例文帳に追加
打ち抜き・切断した幅狭の電池用電極シートの切断面などに突出して(食みだして)いる金属を容易に、かつ確実に溶断・除去することが可能な電池用電極シートの加工装置の提供。 - 特許庁
On the surface of a mat body comprising such a fiber as a rock wool and a glass wool used as a heat insulating material for construction, a fiber piece scattering preventing processing consisting of coating a coating agent such as an ethylene-vinyl acetate copolymer emulsion is applied.例文帳に追加
構築用の断熱材として使用されるロックウール、グラスウール等の繊維からなるマット体の表面に、エチレン・酢酸ビニル共重合体エマルジョン等の塗剤のコーティングからなる繊維片飛散防止加工を施す。 - 特許庁
Since irregularities are not provided, entire surface of the semiconductor wafer 150 under processing can be attracted electrostatically and the channel resistance of heat transfer gas becomes uniform on the side for attracting the semiconductor wafer 150.例文帳に追加
また、凹凸部が設けられていないため、処理中の半導体ウエハ150の全面を静電吸着することが可能となり、伝熱ガスの流路抵抗が半導体ウエハ150が吸着される面側で均一となる。 - 特許庁
To remove a liquid-state rubber to reuse an image formed version simply many times by improving a system for coating 130 the surface of the image formed version with the liquid-state rubber in a method of processing the image formed version.例文帳に追加
画像形成された版を処理する方法であって、版の表面に、液状のゴムを塗布130する方式のものを改良して、版を簡単に何度も再利用できるように、ゴムの除去を行うようにする。 - 特許庁
To stably obtain an electrode terminal whose top surface is in a concave shape suitable for joining using an ACF (Anisotropic Conductive Film) without performing additional processing on the top part of the electrode terminal formed on a substrate after baking.例文帳に追加
焼成後において基板上に形成された電極端子の頂部に対して追加の加工を行うことなく、頂面がACFを用いた接合に適した凹形状となる電極端子を安定的に得ること。 - 特許庁
To provide a constitution capable of eliminating the need for an auxiliary means requiring adjustment for each format when printing matter of various format is guided on the guide surface of a guiding device for a paper sheet processing printing machine.例文帳に追加
枚葉紙処理印刷機の案内装置における案内面上で様々な判の被印刷材料を案内する際、各々の判に合わせるために調節しなければならない補助手段が不要な構成を提供する。 - 特許庁
To provide a surface structure capable of preventing residual impurity in vacuum, in particular, remaining water molecules from being produced, while keeping acid resistance and heat resistance, in a vacuum processing chamber, such as an ALD apparatus or a CVD apparatus.例文帳に追加
ALD装置やCVD装置等などの真空処理室において、耐酸性や耐熱性を保ちながら、真空中の残留不純物、特に残留水分子の発生を防止した表面構造を提供する。 - 特許庁
An evaporated aluminum layer 13 is formed by aluminum evaporating processing on a background plate 10, that is constituted by the resin layer 12 and the resin surface layers 11a and 11b and reflects most of the incident lights.例文帳に追加
アルミ蒸着層13は、樹脂層12及び樹脂表面層11a、11bを形成する背景板10に、アルミ蒸着処理を行うことによって形成されており、入射した光をほぼ反射する。 - 特許庁
The first circuit board is positioned on the surface of the opposite side of the display screen of the wall part, having an input signal processing circuit for outputting at least image data from an input signal.例文帳に追加
第一の回路基板は、壁部の表示画面の反対側の表面上に位置され、この第一の回路基板には、入力された信号から少なくとも映像データを出力する入力信号処理回路が設けられる。 - 特許庁
A front camera 10 and a rear camera 12 acquire images around a traveling object including at least a road image, and an image processing part 30 detects the occurrence of a virtual image due to road surface reflection from the acquired images.例文帳に追加
少なくとも道路画像を含む移動体の周辺画像を前方カメラ10及び後方カメラ12で取得し、取得した画像から画像処理部30において、路面反射による虚像の発生を検出する。 - 特許庁
To inspect a projection coverage of a narrow part of an object by means of visual observation; to reduce operation cost of a projection coverage confirming test; and to improve measuring accuracy in surface processing treatment of shot peening and a shot blast.例文帳に追加
ショットピーニングやショットブラストの表面加工処理において、対象物の狭隘部の投射カバレージの目視による検査を可能とし、投射カバレージ確認試験の実施コストを低減し、かつ、測定精度を向上させる。 - 特許庁
To provide a disk-like recording medium which can perform high-density recording of information signals, and also perform various processing following recessed parts formed closer on the surface.例文帳に追加
情報信号の高密度な記録を行うことができることに加え、より表面に凹部を形成させることにより、これに追従させた各種処理を実行することが可能なディスク状記録媒体を提供する。 - 特許庁
Then, a silicone oxide film 10 is formed on the bit line diffusion layer 9 and a rounding oxidation processing is executed to the boundary of the STI region of the peripheral circuit part and the logic circuit part and the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加
次に、ビット線拡散層9上にシリコン酸化膜10を形成するとともに周辺回路部および論理回路部のSTI領域と半導体基板表面との界面に丸め酸化処理を施す。 - 特許庁
In the lottery processing for the jackpot, a fast variable display of a plurality of symbols is carried on a display surface 4a of a performance display device to suggest the result of the lottery to players.例文帳に追加
また、上記大当たりについての抽選処理が行われるとき、演出表示装置の表示面4aでは、同抽選の結果を遊技者に示唆すべく、複数の図柄の高速変動表示が行われる。 - 特許庁
A transparent strip 7 is provided while the mat-processing is omitted along the vicinity of the opening part 6 of the bag body, and surface-roughened layers 11, 11 are provided on the inner face side corresponding the transparent strip 7 of the face film 2a and the back film 2b.例文帳に追加
袋体の開口部6の近傍に沿ってマット処理が欠除した透明帯7を有し、表フィルム2a及び裏フィルム2bの透明帯7に対応する内面側に粗面加工層11,11を設けた。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a metal material including a carburizing treatment process in which the pretreatment is simple, and a carburizing treatment can be easily carried out by using ordinary equipment, while a portion of the surface of the metal material can be subjected to carburizing processing.例文帳に追加
前処理が簡単で通常の設備で浸炭処理が容易に行え、金属材の表面の一部を浸炭加工可能な浸炭処理工程を備える金属材の製造方法を提供すること。 - 特許庁
Since a processing damage during the surface polishing operation is removed by the light secondary etching of the wafer in this way, a wafer polishing amount in a mirror polishing step can be reduced and the wafer flatness after the polishing can be increased.例文帳に追加
このように、表面研削時の加工ダメージを、このウェーハに軽く2次エッチして除去すれば、鏡面研磨工程におけるウェーハの研磨量が低減し、研磨後のウェーハ平坦度を高めることができる。 - 特許庁
The adhesive application surface of the sheet bundle is heated in the process, between accumulation of sheets and conveyance, of conveying the sheet bundle from an accumulation means for loading the sheet in the bundle to an adhesive application position (processing positions) by a conveyor means.例文帳に追加
シートを束状に積載する集積手段からシート束を接着剤塗布位置(処理位置)に搬送手段で搬送するシートの集積から搬送するまでの過程で、シート束の接着剤塗布面を加熱する。 - 特許庁
Thirdly, in the chemical processing device, a regulation roller to regulate the flow of the chemical E sprayed against the printed circuit board B longitudinally along the carrying direction on an outer surface, is arranged.例文帳に追加
第3に、この薬液処理装置では、プリント配線基板材Bに噴射された薬液Eが、事後、プリント配線基板材Bの外表面を搬送方向に沿い前後に流れることを規制する、規制ローラーが配設されている。 - 特許庁
To provide a production method for electronic circuit device which can automate the processing for removing a deformed portion from the surface of a casing on the side exposing a circuit board, and to provide an electronic circuit device formed by this production process.例文帳に追加
ケーシングの回路基板露出側の面の変形部分の除去加工を自動化することが可能な電子回路装置の製造方法およびこの製造方法により形成される電子回路装置を提供すること。 - 特許庁
A film N drawn from a cartridge 18 is carried and heat-developed in a state such that the film N is brought into contact with the outside peripheral surface of the drum 24 heated by the heater 26 while being superposed on a processing member K for development.例文帳に追加
パトローネ18から引き出されたフィルムNは、現像用処理部材Kと重ね合わされた状態でヒータ26により加熱されたドラム24の外周面と接触した状態で搬送され熱現像される。 - 特許庁
A processing means makes a display means display the image of a game board and the image of pieces read from an image storage part corresponding to the arrangement of the pieces on the game board stored in a board surface storage part and the attributes of the pieces.例文帳に追加
処理手段は、盤面記憶部に記憶されたゲーム盤上の駒の配置及び駒の属性に応じて画像記憶部から読み出したゲーム盤の画像及び駒の画像を表示手段に表示させる。 - 特許庁
Processing is performed by which the substitute gas is made to flow in a space between the rear surface of the substrate and the radiation temperature sensor for a fixed time by low flow rate, so as to allow a temperature difference between the center and the outer periphery of the substrate to become not larger than a prescribed value.例文帳に追加
前記基板裏面と前記放射温度センサとの間の空間に、前記基板の中央部と外周部との温度差が所定値以下になる低流量で一定時間置換ガスを流す処理をする。 - 特許庁
At least a part of the surface of this conductive support with an electric resistance adjusting layer is subjected to chemical roughening processing and then is subjected to zinc phosphate treatment or iron phosphate treatment.例文帳に追加
少なくとも電気抵抗調整層が設けられる上記導電性支持体の表面部分に、化学的粗面化処理が施され、次いでリン酸亜鉛処理あるいはリン酸鉄処理が施されている導電性支持体。 - 特許庁
A walking pattern generation part 25 generates a reference walking pattern to be the position to land a sole part 9 by carrying out a reference walking processing to make the biped walking robot 1 walk on a flat road surface G.例文帳に追加
歩行パターン生成部25は、平坦な路面Gを2足歩行ロボット1に歩行させるための基準歩行処理を実行することにより、足底部9を着地させる位置となる基準歩行パターンを生成する。 - 特許庁
To provide a processing method for three-dimensional shape capable of creating a draft angle body without extending off the three-dimensional shape when creating the draft angle in a bossed shape projected onto a freely- curved surface.例文帳に追加
自由曲面上に突出したボス形状に抜き勾配を生成する際、抜き勾配体を当該3次元立体形状からはみ出すことなく生成することができる3次元形状処理方法を提供する。 - 特許庁
A light shielding plate has an almost transparent light guide plate 4c to which light scattering processing 8 is applied, and light sources 9a and 9b for supplying the light inside the light guide plate 4c from an end surface of this light guide plate 4c.例文帳に追加
遮光板は、光散乱処理8が施されたほぼ透明の導光板4cと、この導光板4cの端面から導光板4cの内部に光を供給する光源9a,9bとを備える。 - 特許庁
When a part of the interlayer insulating film is worked by etching or milling, insulating failures are prevented by employing the design of oxidizing the surface again after the working or leaving an oxidized film even after the processing.例文帳に追加
エッチングやミリングによって層間絶縁膜の一部を加工する場合には、加工後に再度、表面を酸化処理するか、加工後も酸化処理した膜が残るように設計することで絶縁不良を防止することができる。 - 特許庁
The method of forming a protective film forms a protective film covering the surface of an object to be processed used for processing a cross section by an FIB device by condensing and solidifying a gaseous material that is the raw material of the protective film.例文帳に追加
FIB装置による断面加工に用いる加工対象物表面に被覆する保護膜を、保護膜原料となるガス状物質を凝結固化させることにより形成する保護膜形成方法。 - 特許庁
As a result, secure smoothness of motion of images displayed on a display surface can be secured by the main side process A, while effective utilization of processing ability of a CPU can be secured by the subsidiary side process B.例文帳に追加
その結果、メイン側処理Aによって表示画面に表示させる画像の動きの確実な円滑性を確保しつつ、サブ側処理BによってCPUの処理能力の有効な利用も確保することができる。 - 特許庁
To efficiently perform laser beam machining and secure surface quality of a workpiece after laser beam machining, by applying optimum thermal energy to a processing point to control occurrence of splash during laser beam machining of a key-hole die.例文帳に追加
最適な熱エネルギーを加工点に与えて、キーホール型のレーザ加工時におけるスプラッシュの発生を抑制することにより、レーザ加工を効率よく行うと共に、レーザ加工後の被加工物の表面品質を確保する。 - 特許庁
With radiation of high frequency oxygen plasma, the surface of reaction product (4) is physically shocked and such reactive product can be removed easily with a post-processing (ashing and wet process with an organic solvent).例文帳に追加
この高周波を伴う酸素プラズマ照射により、反応生成物(4)の最表面が物理的な衝撃を受け、後処理(アッシング及び有機溶剤によるウエット処理)によって、容易に除去することができる。 - 特許庁
Hole sealing processing is applied on the surface of the oil accumulative grooves 6 so that lubricating oil accumulated in the oil accumulative grooves 6 is maintained in the oil accumulative grooves 6 without being pulled into an inner air hole 3 during a temperature fall.例文帳に追加
油溜り溝6の表面には、この油溜り溝6に溜められた潤滑油が、温度下降時に内部空孔3へ引き込まれることなく油溜り溝6に保持されるよう、封孔処理が施されている。 - 特許庁
The rubber composition comprises >10 pts.wt. and <120 pts.wt. silica per 100 pts.wt. dien rubber and a silane coupling agent, wherein the silica is surface-treated by atmospheric plasma processing.例文帳に追加
ジエン系ゴム100重量部に対して、シリカを10重量部を超え120重量部未満、及びシランカップリング剤を含んでなるゴム組成物であって、前記シリカが大気圧プラズマ処理による表面処理が施されている。 - 特許庁
Since the conductive film is formed on all of the surface, a density of electric charges accumulated in a gate electrode can be reduced in processing with plasma (plasma process) like anisotropic etching, and the damage due to the plasma process can be reduced.例文帳に追加
導電性膜が全面に形成されていることにより、異方性エッチング等のプラズマによる処理(プラズマプロセス)においてゲート電極に蓄積される電荷密度を低減でき、プラズマプロセスによる損傷を低減できる。 - 特許庁
The post-printing processing liquid is obtained by forming an ink receiving layer on a substrate in particular and is effective to a recording medium having a 75 degree glossiness of 1 to 10% on the surface of the ink receiving layer as the layer to be recorded.例文帳に追加
この印刷後処理液は、特に、基材上にインク受容層を設けてなり、被記録面となる該インク受容層の表面の75度光沢度が1〜10%である記録媒体に対して有効である。 - 特許庁
The processing material W firmly placed on a conveying surface A is clamped and fixed by block operations of a pair of lateral vises corresponding to both side faces of the material and descending operations of vertical vises D, E corresponding to the upper face of the material.例文帳に追加
搬送面Aに定置した加工材Wを、その両側面に対応する左右一対の横バイスの閉塞動作と、上面に対応する立バイスD,Eの下降動作とによってクランプ固定する。 - 特許庁
Thus, a film having fewer impurities, and a low wet etching rate, is formed on the resist or amorphous carbon layer (ACL) at a low processing temperature not causing damage to the resist or amorphous carbon layer (ACL) on the surface of the substrate.例文帳に追加
これにより、基板の表面のレジストあるいはACLにダメージを与えることのない低い処理温度で、不純物が少なく、ウェットエッチングレートが低い膜をレジストあるいはACLの上に形成することができる。 - 特許庁
To provide a lighting system of a resin cap which can increase quantity of the inspection processing, and illuminating uniformly without illumination irregularities, the outside surface on the camera side of caps on two pairing support bases.例文帳に追加
検査処理数量を増やすことができ、かつ対をなす2台の支持台上のキャップのカメラ側の外側面を照明ムラなく均一に照明することができる樹脂製キャップの照明装置を提供する。 - 特許庁
An image deformation processing part 33 deforms the image according to the configurations of the face in a developed image obtained by developing the surface of a prescribed three-dimensional face shape into a plane by using the feature point and the additional feature point.例文帳に追加
画像変形処理部33は、特徴点および追加特徴点を利用して、所定の三次元的な顔形状の表面を平面に展開した展開画像における顔の構成に合わせて、画像を変形する。 - 特許庁
In a step in which surface processing is conducted by irradiating a plasma jet 31 from a plasma jet gun 1 to quartz glass 24, light emitting portion 32 produced by a reaction of the plasma jet 31 with the quartz glass 24 is imaged with a CCD video camera 27.例文帳に追加
石英ガラス24にプラズマジェットガン1からプラズマジェット31を照射し、表面加工する工程において、プラズマジェット31と石英ガラス24との反応による発光部32をCCDビデオカメラ27で撮像する。 - 特許庁
The motor for driving enables high-speed operation since the load of motor for rotation is not applied to it, and the processing residue adhering to the surface of the flexible substrate that is laser processed can be removed.例文帳に追加
また、駆動用モータも回転用モータの負荷がかからないことにより、高速運転が可能となると同時に、レーザ加工された可撓性基板表面に付着した加工残渣を除去することが可能となる。 - 特許庁
To provide an image processing method that performs density correction of an image having illumination unevenness irrespective of kinds of tires and tire surface states, and to provide an image processor, a program, and a recording medium therefor.例文帳に追加
タイヤの種類およびタイヤ表面の状態に依存することなく、照明むらのある画像の濃度補正を行うことができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|