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processing surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7705件
After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.例文帳に追加
基板1上に有機材料からなる薄膜2を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光4を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理8を施すことにより、残膜7も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁
The method of manufacturing the flexible printed board is characterized by maintaining an oxygen concentration in an etching processing atmosphere at 2 vol.% or below in a process of forming a copper wiring pattern by performing etching processing on a copper coating layer formed at least on one surface of an insulator film without interposing an adhesive.例文帳に追加
フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、2体積%以下に維持されることを特徴とする。 - 特許庁
Metal impurity at the surface area of the substrate is removed by supplying a substrate processing liquid formed of alkali solution of 10 weight% or more including CyDTA (trans-1, 2-diaminocyclohexane 4 acetic acid) reaction of metal impurity dispersed into the substrate processing solution and CyDTA.例文帳に追加
CyDTA(トランス−1,2−ジアミノシクロヘキサン4酢酸)を含む10重量%以上のアルカリ溶液からなる基板処理液を基板に供給してこの基板の表面部にある金属不純物を除去し、基板処理液中に分散した金属不純物とCyDTAとを反応させる構成とする。 - 特許庁
This fabric contains ultra-fine fibers having a fiber diameter of 700 nm or less, and has the whole or partial surface of the fabric has a filmy shape formed by uniting the ultra-fine fibers, and the filmy part is formed by compressing by performing calender-processing and/or emboss-processing, and the method for producing the same is also provided.例文帳に追加
繊維径が700nm未満の極細繊維を含む布帛であって、該布帛の全面もしくは一部分が超極細繊維が合一してなるフィルム状であって、該フィルム状の部分がカレンダー加工および/またはエンボス加工を施すことによる押圧加工により形成されたことを特徴とする布帛、その製造方法。 - 特許庁
The program to be used for the printing processing system and the recording medium storing the program allow the printing instructing device to determine in accordance with the set printing conditions whether surface printing or reverse printing is executed for every printing page and to generate the printing data adaptable for printing processing.例文帳に追加
また、その印刷処理システムに用いられるプログラムとそのプログラムを格納した記録媒体であって、印刷指示装置に、設定される印刷条件に基づき、印刷ページ毎に表面印刷か、裏面印刷かを判断させ、印刷処理を行うことが可能となる印刷データを生成させるようにする。 - 特許庁
To enhance cleaning power by employing a cleaning liquid for semiconductor substrate composed of ammonia, hydrogen peroxide and ultrapure water and specifying the relationship between the processing temperature, processing time and the mol concentration ratio between ammonia and hydrogen peroxide thereby suppressing roughness on the surface of the substrate.例文帳に追加
半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板の表面あれを発生させずに基板表面から異物を効果的に除去できる半導体基板表面の洗浄液、および当該洗浄液を用い処理後の基板表面状態を厳密に制御できる基板表面の処理方法を提供する。 - 特許庁
A determining means 25 compares positions in the light extraction surface of the bright pixel region extracted by the first processing means 23 and the dark pixel region extracted by the second processing means 24 to determine the region to be a defective region where the flaw eliminates irregularity if the positions of both correspond to each other.例文帳に追加
判定手段25は、第1の処理手段23で抽出された明画素領域と第2の処理手段24で抽出された暗画素領域との光取出面内での位置を比較し、両者の位置が合致した場合に当該領域を傷により凹凸が欠損している欠陥領域と判定する。 - 特許庁
The heat treatment apparatus 1 comprises a furnace body 5, a heater 18A provided on the inner peripheral surface of the furnace body 5, a processing container 3 arranged in the furnace body 5, a cooling medium supply blower 53 and a cooling medium exhaust blower 63 connected with the furnace body 5, and a temperature sensor 50 provided in the processing container 3.例文帳に追加
熱処理装置1は炉本体5と、炉本体5内周面に設けられたヒータ18Aと、炉本体5内に配置された処理容器3と、炉本体5に接続された冷却媒体供給ブロア53および冷却媒体排気ブロア63と、処理容器3内に設けられた温度センサ50とを備えている。 - 特許庁
In the printing processing system having a printing instructing device for giving printing instructions to a printer adaptable for double-side printing, the printing instruction device determines in accordance with set printing conditions whether surface printing or reverse printing is executed for every printing page and generates printing data adaptable for printing processing.例文帳に追加
両面印刷が可能な印刷装置へ印刷指示を行う印刷指示装置を備えた印刷処理システムにおいて、印刷指示装置が、設定される印刷条件に基づき、印刷ページ毎に表面印刷か、裏面印刷かを判断して、印刷処理を行うことが可能となる印刷データを生成するように構成する。 - 特許庁
Thereby, the user's eyes can be made to adapt the chromatic adaptation reference by continuously displaying the chromatic adaptation reference on the display surface and the user can be made to recognize a display image as an image of natural tones of colors only by correction based on simple arithmetic processing without executing correction requiring complicated arithmetic processing of the image signal.例文帳に追加
従って、色順応リファレンスを表示面に表示し続けて、利用者の目を色順応リファレンスに順応させることができ、複雑な画像信号の演算処理を必要とする補正を行わなくても、簡単な演算処理による補正だけで表示画像を自然の色合いとして利用者に認識させることができる。 - 特許庁
To provide an acrylic resin filmy material which does not whiten a molded article, when subjected to an insert molding or in-mold molding, does not whiten a molded article, when subjected to a V-cutting processing or a wrapping processing in a cold district, and satisfies surface hardness and heat resistance needed to vehicle uses and building uses.例文帳に追加
インサート成形、またはインモールド成形を施した時に、成形品が白化しない、また、寒冷地でVカット加工やラッピング加工を施した時に、成形品が白化しない、かつ車輌用途、建材用途に用いることができる表面硬度、耐熱性を満足するアクリル樹脂フィルム状物を提供すること。 - 特許庁
To provide an image processor for a vehicle, the vehicle and an image processing program for the vehicle, allowing detection of a lane mark on a road on which the vehicle travels from an image with high accuracy by processing the image obtained by imaging the circumference of the vehicle so as to reduce influences of variation of local luminance and color on a road surface.例文帳に追加
車両の周辺を撮像した画像を、路面上の局所的な輝度や色の変動の影響を低減するように処理して、該画像から車両が走行している道路上のレーンマークを精度良く検出可能な車両用画像処理装置、車両、及び車両用画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁
Before electro-discharge machining is performed, a machine is run idle while supplying a processing fluid jet of a predetermined set pressure toward the surface of a workpiece from upper and lower processing fluid jet nozzles.例文帳に追加
放電加工を行なう前に所定の設定圧力の加工液噴流を上下加工液噴流ノズルから被加工物の表面に向けて供給しながら空運転を行ない、適時上下加工液噴流ノズルにおける加工液の負荷圧力を検出して相対移動軌跡上の上の相対位置と関連付けて記憶させておく。 - 特許庁
To solve a problem that a spare area is densely arranged to suppress increase of response delay time after a reassignment processing, however, on the other hand, use efficiency of a disk is lowered when the spare area is densely arranged, with respect to a disk device to perform the reassignment processing when an unrecoverable defect is generated on a recording surface of the disk.例文帳に追加
ディスクの記録面上に回復不可能な欠陥が発生した場合にリアサイン処理を行うディスク装置において、リアサイン処理後の応答遅延時間の増加を抑えるためにはスペア領域を密に配置する必要があるが、一方、スペア領域を密に配置するとディスクの利用効率が低下してしまう。 - 特許庁
This processor transfers the mask between a mask supplying section held at atmospheric pressure and a decompressed or vacuum processing chamber, and has a transfer means which sucks and holds the protective mechanism 100 for protecting a pattern surface PT in a non-contact manner, and transfers the mask MK held by the protective system between the mask supplier and the processing chamber.例文帳に追加
大気圧に維持されたマスク供給部と減圧または真空の処理チャンバとの間でマスクを搬送する処理装置であって、パターン面PTを非接触に保護する保護機構100を吸着し、保護機構に保持されたマスクMKをマスク供給部と処理チャンバとの間で搬送する搬送手段とを有する。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of symmetrically and uniformly generating a plasm density distribution throughout the center part and an outer periphery by forming openings for entering a processing gas at the center part of the lower part in a reaction chamber and a side surface thereof and by providing fan-shaped antennas below the reaction chamber.例文帳に追加
反応チャンバ内の下部中央部及び側面に処理ガスの流入口を形成し、反応チャンバ下部に扇形アンテナを具備することでプラズマ密度分布を中央部と外郭にかけて対称的でかつ均一に発生させることができる誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide an acrylic resin film-formed material, without getting white on a formed article on performing an insert molding or in-mold molding, also without getting white on the formed article on performing a V-cut processing or lapping processing, and satisfying a surface hardness and heat resistance capable of being used in uses of vehicles and construction materials.例文帳に追加
インサート成形、またはインモールド成形を施した時に、成形品が白化しない、また、寒冷地でVカット加工やラッピング加工を施した時に、成形品が白化しない、かつ車輌用途、建材用途に用いることができる表面硬度、耐熱性を満足するアクリル樹脂フィルム状物を提供すること。 - 特許庁
A surface mounting apparatus 100 (substrate processing apparatus) includes a substrate transfer part 10 transferring a printed substrate 110, a laser length measuring device 25 detecting the state of an arrangement regarding the printed substrate 110 in the substrate transfer part 10, and an operation processing part 71 determining whether or not the arrangement is conducted correctly.例文帳に追加
この表面実装機100(基板処理装置)は、プリント基板110を搬送する基板搬送部10と、運転を開始する際に、基板搬送部10におけるプリント基板110に関する「段取り」の状態を検出するレーザ測長器25と、この「段取り」の良否を判別する演算処理部71とを備えている。 - 特許庁
To provide a propylenic resin film that is composed of a propylenic resin inexpensively and efficiently manufactured by a gas phase method, is excellent in blocking property and surface smoothness, prevents a film roll from wrinkling when wound into a roll shape, and also, is excellent in processability during bag-making processing or printing processing.例文帳に追加
気相法によって安価に効率的に製造されるポリプロピレン系樹脂からなり、耐ブロッキング性に優れており、滑り性が良好であり、ロール状に巻き取ったときにフィルムロールに皺が入りにくく、製袋加工時や印刷加工時における加工性の良好なポリプロピレン系樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁
When light diffusion processing parts 14 are formed on the surface of a core formed on a part from which a part of the clad 11 of the cable 10 is removed, light propagated into the core 12 is scattered on the processing parts 14, so that only a necessary part can be concentrically irradiated with light.例文帳に追加
照明用光ケーブル10のクラッド11の一部が除去された部分のコア12の表面に光拡散処理部14が形成されている場合には、コア12内を伝搬した光が光拡散処理部14で散乱するので、必要な部分にのみ光を集中して照射することができる。 - 特許庁
A magnet coil 8 and a storage tank 9 for the magnetic abrasive grains as the processing medium for roughening processing of a workpiece 2 in the surface treatment device 1 are each equally sized not more than a half of the workpiece 2 and integrated with each other.例文帳に追加
表面処理装置1の加工対象物2を粗面化処理する処理媒体としての磁性砥粒を収容する磁性砥粒収容槽9と電磁コイル8とを加工対象物2の1/2以下であって、かつ夫々同じ長さに設け、さらに磁性砥粒収容槽9と電磁コイル8を一体に設ける。 - 特許庁
An unnecessary signal detection circuit 15 judges whether the level of the unnecessary signal of sea surface reflection, rain and snow reflection or the like contained in the receiving signal exceeds a prescribed value, when it exceeds the prescribed value, the result of the correlation processing is written to a memory 10, and when it does not exceed the prescribed value, the result of the residual image processing is written to the memory 10.例文帳に追加
不要信号検出回路15は受信信号に含まれる海面反射や雨雪反射等の不要信号のレベルが所定値を超えるか否かを判定し、所定値を超える時、相関処理の結果をメモリ10に書き込み、所定値を超えない時、残像処理の結果をメモリ10に書き込む。 - 特許庁
To provide a connection structure for a nut, an internal cylinder, and a stopper in a linear actuator which doesn't require screw processing on an outer surface of an internal cylinder, simultaneous processing of a hole of a spring pin for connecting the nut, internal cylinder and stopper, also a stop nut, and nor welding of the stopper into the internal cylinder.例文帳に追加
内筒の外周面のねじ加工を不要とし、ナットと内筒とストッパとを連結するためのスプリングピン用穴の同時加工を不要とし、止めナットを使用する必要がなく、内筒にストッパを溶接する必要がない直線作動機におけるナットと内筒とストッパとの連結構造を提供する。 - 特許庁
Since the ground electrodes 23 and 23 are arranged in a case part 11 with a signal processing circuit, it is possible to simplify the connection structure between the signal processing circuit and the ground electrodes 23 and 23 in comparison with the case that the ground electrodes 23 and 23 are provided for both end parts 20A and 20B of the measuring tube 20 protruding to the external surface of the case part 11.例文帳に追加
また、アース電極23,23が、信号処理回路と共にケース部11の内部に配置されたから、アース電極23,23がケース部11の外面に突出した計測管20の両端部20A,20Bに設けられた場合に比較して、信号処理回路とアース電極23,23との接続構造が簡素化できる。 - 特許庁
A line processing guide member 30 is a resin member fixed to a second side plate 22, and multiple wiring guides 30a preventing lifting of wiring 31 of a power source substrate 25a, two core attachment parts 30b to which a ferrite core 33 is attached, and a support part 30c supporting a rear surface of the power source substrate 25a are formed in the line processing guide member 30.例文帳に追加
線処理ガイド部材30は、第2側板22に固定される樹脂製の部材であり、電源基板25aの配線31の浮き上がりを防止する複数の配線ガイド30aと、フェライトコア33を取り付ける2箇所のコア取付部33bと、電源基板25aの裏面を支持する支持部30cが形成されている。 - 特許庁
To provide a plasma processing device and a plasma processing method by which plasma discharging can be maintained regardless of whether or not the process object body is facing an applying electrode and the surface of the process object body can be uniformly processed by plasma discharging regardless of the existence of a conductive pattern formed on the process object body.例文帳に追加
被処理体が印加電極に対面しているかいないかに関わらずプラズマ放電を持続できるとともに、被処理体上に形成されている導電性パターンの有無に関わらずプラズマ放電により被処理体の表面を均一に処理することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of obtaining a fine fixed image by extracting feature values on the surface of a recording medium, performing highly accurate sheet determination and performing fixing processing under an optimum fixing processing condition even in recording media of various sorts while improving usability and cost performance.例文帳に追加
ユーザービリティ及びコストパフォーマンスの向上を図りつつ、記録材表面の特徴量を抽出し、精度の高い用紙判別を行い、様々な種類の記録材においても最適な定着処理条件で定着処理を施し良好な定着画像を得ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide an evaluating method for judging the existence of a contact by a shape change in a dye ball by particularly spraying a dye containing droplet onto a liquid repellent processing surface and the vicinity, and applying stress by the contact to the coagulated fine dye ball in a method for discriminating the existence of a liquid repellent film in liquid repellency processing.例文帳に追加
本発明は、撥液処理における撥液膜の存在の有無を判別する方法に関し、特に染料入り液滴を撥液処理面およびその近傍に噴霧し、凝固した微細な染料球に接触による応力を負荷し、同球の形態変化によって接触の有無を判断する評価方法を提供する。 - 特許庁
During an interval from a time when laser beams are emitted from a RF exciting laser emitter to a time when the laser beams are finally condensed, a laser mask is interposed, and the laser beams which are different in an energy density between a center part and an outer peripheral part are emitted, whereby it is possible to form a curved surface in a hole processing or a groove processing.例文帳に追加
RF励起方式のレーザー発振装置から発振されたレーザービームが最終的に集光されるまでの間に、レーザーマスクを介在させ中央部と外周部でエネルギ−密度の異なるレーザービ−ムを発生させる事により、孔加工や溝加工において曲面付けすることを可能にする。 - 特許庁
Optical scanning is performed by using the same polygon mirror 23a for respective photoreceptors (1YC and 1MK) in an adjacently provided pair consisting of two processing units (10YC and 10MK), and the surface of the belt is made to circulate twice so that toner images by the respective processing units may be superposed and transferred every time the belt circulates.例文帳に追加
2つのプロセスユニット(10YC,10MK)からなる隣設対について、それぞれの感光体(1YC,1MK)に対して同一のポリゴンミラー23aを用いて光走査を行わせ、且つ、ベルト表面を2周させて、周回毎に各プロセスユニットによるトナー像を重ね合わせ転写させるようにした。 - 特許庁
The processing method of substrate for removing a resist layer 3 and a polymer layer 5 form a substrate W following etching comprises a first step for rendering the surface part 6 of a resist layer 3 and a polymer layer 5 existing on a substrate W to be hydrophilic, and a second step for subsequently removing the resist layer 3 and the polymer layer 6 with a processing liquid.例文帳に追加
エッチング後の基板Wからレジスト層3およびポリマー層5を除去する基板処理方法であって、基板W上に存在するレジスト層3およびポリマー層5の表面部分6を親水性にする第1工程と、その後処理液によりレジスト層3およびポリマー層6を除去する第2工程とを具備する。 - 特許庁
Such a wet processing apparatus 10 can reduce the wet processing liquid 8 from being adhered to the chuck facing surface 22 opposed to the chuck 1 by uniformly jetting the gas 24 jetted from the jetting port 16 from a space sandwiched between the outer peripheries 14, 15 of the objects 7 to be wet-processed and the chuck 1.例文帳に追加
このようなウェット処理装置10は、噴出口16から噴出した気体24がウェット処理対象7の外周14、15とチャック1とに挟まれた隙間からに均一に噴出されることにより、チャック1に対向するチャック対向面22にウェット処理液8が付着することを低減することができる。 - 特許庁
The present invention controls a substrate rotation mechanism 70 after one round trip of ion beam irradiation processing, inputs a substrate 2 into an ion beam irradiation device 100 again after rotating the substrate by 180 degrees, and irradiates a range where ion beam irradiation processing has not yet been completed with ion beams to irradiate the whole surface of the substrate with ion beams.例文帳に追加
イオンビーム照射処理を1往復行った後、基板回転機構70を制御し、基板2を180度回転させた後、イオンビーム照射装置100に再投入し、イオンビーム照射処理未完了の範囲をイオンビーム照射し、基板の全面にイオンビーム照射させることを特徴としたイオンビーム照射方法。 - 特許庁
In the manufacturing method of a printed wiring board wherein a solder mask is formed by coating the surface of a base material having formed circuits and through holes with a liquid solder resist and by subjecting the solder resist to its exposure processing and its development processing, the solder resist remaining in each through hole after the formation of the solder mask is sublimated and removed by a laser.例文帳に追加
回路及びスルーホールを形成した基材の表面に、液状のソルダーレジストを塗布し、露光処理、現像処理をすることによってソルダーマスクを形成するプリント配線板の製造方法において、ソルダーマスクの形成後、スルーホール内に残存したソルダーレジストをレーザーにより昇華除去するものとした。 - 特許庁
Processing for the surfaces of contact electrifying member parts 2g and 2g or image carrier parts corresponding to image non-forming areas B and B in an abutting area (a) between the contact electrifying member 2 and the image carrier 1 is made to differ from processing for the surface of the contact electrifying member part or the image carrier part corresponding to an image forming area A.例文帳に追加
接触帯電部材2と像担持体1との当接域a内における非画像形成域B・Bに対応する接触帯電部材部分2g・2gまたは像担持体部分の表面の処理を画像形成域Aに対応する接触帯電部材部分または像担持体部分の表面の処理と異なるようにする。 - 特許庁
To provide a substrate processing method by which a substrate wherein a laminated film with a ruthenium and tungsten compound or a tantalum compound is formed does not oxidize and deteriorate the tungsten compound or the tantalum compound, and Low-K does not deteriorate even if a device formation area surface is exposed to water or an alkaline solution; and to provide a substrate processing device.例文帳に追加
ルテニウムとタングステン化合物又はタンタル化合物との積層膜が形成された基板を、タングステン化合物又はタンタル化合物を酸化変質させることなく、更にデバイス形成領域面が水やアルカリ溶液に曝され、LowKが変質することなのない基板処理方法、及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
A CPU (central processing unit) 22, a scanner ASIC (application specific integrated circuit) 32 and a printer ASIC 42 mounted on a multifunction printer 10 recognize the position of an image for material, and the like, and selects a range corresponding to the label surface from an image for processing.例文帳に追加
マルチファンクションプリンタ10に搭載されたCPU22、スキャナASIC32及びプリンタASIC42が、素材用画像の位置等を認識して加工用画像からレーベル面相当範囲を選択するため、トレイを用いることなく素材用画像のうちユーザが希望する範囲の画像をレーベル面に印刷することができる。 - 特許庁
To provide a processing apparatus and a processing method for a photosensitive lithographic printing version by which when a photosensitive lithographic printing version is heat-treated after exposure, a plate surface is uniformly heat-treated and the quality of the printing plate can be kept uniform, and by which photosensitive lithographic printing plates whose supports are different in thickness can be processed together.例文帳に追加
感光性平版印刷版を露光後に、加熱処理する場合、版面を均一に加熱処理し、印刷版の品質を均一に保つことのでき、且つ、厚みの違う支持体の感光性平版印刷版を混在処理が可能な感光性平版印刷版の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photographic film processing device where a photographic film supplied in a state statically charged at a high level from a processing part to a container space after a prescribed processing is hardly stuck temporarily to the side wall inside surface or the like of the container space.例文帳に追加
写真フィルムに現像と乾燥などの処理等を施す処理部と、処理部から供給される乾燥された写真フィルムを一時的に格納する空間を有する写真フィルム処理装置において、所定の処理を終えて、高レベルの静電気を帯電した状態で処理部から格納空間に供給された写真フィルムが、一時格納空間を構成する側壁内面等に付着し難い写真フィルム処理装置を提供する。 - 特許庁
Preferably in the method for processing cylindrical fluoride single crystal with (100) crystal face, the processing is a cylindrical grinding process, and the surface roughness (RMS) of the ground face of single crystal cylinder after the cylindrical grinding processing is 0.1-5.0 μm.例文帳に追加
育成された単結晶インゴットを切断して多角体を得、該多角体をアニール処理した後、さらに切断、加工する、(100)結晶面のフッ化物単結晶の加工方法であって、上記加工が円筒研削加工であり、該円筒研削加工後の単結晶円筒研削加工面の表面粗さ(RMS)が0.1〜5.0μmであることを特徴とする、(100)結晶面の円筒状フッ化物単結晶の加工方法等を採用する。 - 特許庁
To provide an image forming device by which information (such as image density, image variable magnification ratio, image layout, the number of print output, processing regarding specification of an image printing surface)regarding a part of print processing to an information input means for inputting information regarding the print processing can not be input while a sheet detection means detects a sheet by providing the sheet detection means for detecting printed and output sheet.例文帳に追加
印字出力されたシートを検知するシート検知手段を設けることで,シート検知手段がシートを検知している間は,印字処理に関する情報を入力する情報入力手段への一部の印字処理に関する情報(画像濃度,画像変倍率,画像レイアウト,印字出力枚数,画像印字面の指定に関する処理等)の入力ができない画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The method for analyzing the depth direction element distribution of a sample consists of a process subjecting the surface of a sample to precise cross-sectional processing by converged ion beam 2', a process for measuring fine particles 3 generated from the cross section 17 obtained by the precise cross-sectional processing and a process for processing the measured value as a function of the depth direction scanning position of the converged ion beam.例文帳に追加
収束イオンビーム(2’)により試料表面を精密断面加工する工程と、前記精密断面加工により得られた断面(17)から発生する微粒子(3)を測定する工程と、前記測定によって得た値を前記収束イオンビームの深さ方向走査位置の関数として処理する工程と、を具備することを特徴とする、試料の深さ方向元素分布分析を行う方法。 - 特許庁
S shape correction is excessively performed in order to make brightness uniform at the center and in the circumference of the tubular surface and, then, the distortion of contraction and expansion in a display image, which occurs by excessive correction, is corrected by a signal processing in a TV receiver.例文帳に追加
管面の中心及び周辺の明るさを均一化するために、S字補正の過補正を行ない、過補正により生じる表示映像の伸縮の歪みの補正を、信号処理で補正するテレビ受信機。 - 特許庁
A photosetting resin 22 as processing materials is applied on a substrate 20, the imprint mold 30 is overlapped on the upper surface of the photosetting resin applied on the substrate, a pressure is applied onto the imprint mold while performing heating, UV-rays are irradiated to harden the photosetting resin and the releasing is performed.例文帳に追加
基板20の上に加工材料である光硬化性樹脂22を塗布し、その上面にインプリント用モールド30を重ね、加熱しながら圧力を加え、紫外線を照射して硬化させた後、離型する。 - 特許庁
An insert article 1 in coated with a silicon rubber primer at its peripheral surface at a part to be injected as a processing agent in advance, is installed at a predetermined position between an upper side mold and a lower side mold.例文帳に追加
インサート品1表面の被射出部周辺に処理剤としてシリコーンゴムプライマーを予め塗布し、こうして得たインサート品1を上側金型D1と,下側金型D2との間の所定の位置に装着する。 - 特許庁
To provide a throwaway chip for groove forming with an excellent chip processing performance which can control the exhaust direction of chips securely in a normal groove forming process parallel to the peripheral surface, and regardless of the position and the form of the groove.例文帳に追加
通常の平行な周面への溝入れ加工で、さらには溝の箇所や形状にかかわらず確実に切り屑の排出方向をコントロールできる切り屑処理性のよい溝入れ用スローアウェイチップを提供する。 - 特許庁
When the bobbin winding processing is performed, a default value stored in a RAM 64 is first read to lift the intermittent presser foot 6 to a position shown by the default value (5 mm above an upper surface of the throat plate 2a) (S30).例文帳に追加
糸巻き処理を実行すると、先ず、RAM64に記憶されたデフォルト値を読み出して間欠押え6をデフォルト値(針板2aの上面から5mm上方)で示す位置に上昇させる(S30)。 - 特許庁
The work W_1 is cleaned with an organic solvent as pretreatment and the UV-cleaning is then carried out while pressurizing the processing gas so that the contaminants and the organic solvent remaining on the surface of the work W_1 can be removed completely in a short time.例文帳に追加
前処理として有機溶剤による液体洗浄後に、処理ガスを加圧してUV洗浄することで、ワークW_1 の表面に残る汚染物質や有機溶剤を短時間で完全に除去できる。 - 特許庁
A supporting shaft 12 is fixed in a supporting stand 11 supporting a spring 15, and the supporting shaft 12 and a frame body portion 2 of the processing apparatus 1 are connected each other by means of a wire 17 horizontally arranged in a position higher than an upper surface of the spring 15.例文帳に追加
ばね15を支持する支持台11に支持軸12を固定し、ばね15の上面より高い位置に水平に配置したワイヤ17により支持軸12と加工装置1の枠体部2とを接続する。 - 特許庁
When light is radiated from a light projector 5 to a steel plate 1 positioned in the closest position to a final stand roll 2 of a finishing rolling machine, its reflected light is received by means of a line sensor camera 6 for image processing, and the surface flaw is detected.例文帳に追加
仕上圧延機の最終スタンドロール2にできるだけ近い位置にある鋼板1に、投光器5より光を照射し、反射光をラインセンサカメラ6で受光して画像処理し、表面欠陥を検出する。 - 特許庁
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