「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(119ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a silver halide color photographic sensitive material capable of diminishing an auxiliary solvent to be used and ensuring high scratch resistance and excellent fastness in storage even under a high humidity condition for the surface of a printed material after processing.例文帳に追加

補助溶剤を減らすことが可能であり、かつ、処理後のプリント材料の表面が引掻に対する耐性が強く、高湿条件下で保存時の堅牢性に優れたハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

The device dependent part 12 includes a drawing function group 120 composed of a plurality of drawing functions and each drawing function is a program for writing pixels in a surface operation processing part 111 in accordance with the specifications of hardware on which the system is mounted.例文帳に追加

デバイス依存部１２は、複数の描画関数からなる描画関数群１２０を含み、各描画関数は、システムが実装されるハードウェアの仕様に応じてサーフェス操作処理部１１１に対して画素書き込みを行うプログラムである。 - 特許庁

Furthermore, this bending processing provides the spacer 5 with an annular inner tube holding portion 6 wrapped around the circumference of the inner tube 2 and an annular interval holding portion 7 contacting the inside surface of the outer tube 1, facing the axial direction of the ventilation passage 3 in parallel.例文帳に追加

そして、この曲げ加工により、スペーサ５に、内管２の周囲に巻き付ける環状の内管保持部６と、通気路３の軸方向に平行に向いて外管１の内面に当接する環状の間隔保持部７とを設ける。 - 特許庁

Since the magnetic pole layer 24 and the yoke layer 35 are formed in different processing steps, the width of the magnetic pole layer 24 is easily adjusted, and the yoke layer 35 is formed on a flat surface making its thickness even.例文帳に追加

磁極層２４をヨーク層３５と別の工程で形成しているため、磁極層２４の幅寸法などの調整が容易であり、また前記ヨーク層３５を平坦面で形成できるため、均一な膜厚のヨーク層３５を形成できる。 - 特許庁

The search processing part 10 individually evaluates the ground surface states (such as planarity, flatness, a degree of inclination and an existing state of an obstacle) of the landing candidate point based on the distance information dij when the landing candidate point is extracted.例文帳に追加

探索処理部１０は、着陸候補地点が抽出された場合、距離情報に基づいて、着陸候補地点の地表状態（例えば、平面性、平坦性、傾斜の度合い、障害物の存在状況等）を個別に評価する。 - 特許庁

A laminated steel sheet as a raw material has 800 Mpa or less of tensile strength TS after processing in which the equivalent strain εeq is 1.6 and a sheet thickness tb at the broken end surface after tensile breaking and a sheet thickness t_0 before breaking satisfy a relation of 0.25≤tb/t_0.例文帳に追加

素材とするラミネート鋼板は、相当歪みεeqが１.6となる加工後の引張強度TSが800Mpa以下であり、かつ、引張破断後の破断部端面での板厚ｔbと引張破断前の板厚ｔoが0.25≦ｔｂ/ｔｏを満足する。 - 特許庁

In the single-wafer processing apparatus, having an electrically insulative mount 3 for mounting a work w in a process chamber 2, the mount 3 has a conductive film 10 on the surface for relieving charged static electricity.例文帳に追加

処理容器２内に被処理体ｗを載置する電気絶縁性の載置台３を備えた枚葉式処理装置において、前記載置台３の表面に、帯電した静電気を逃がすための導電性被膜１０を形成してなる。 - 特許庁

To provide an ink jet recorder with a good cleaning performance, while suppressing: the reduction of throughput; the increase of spent ink; the deterioration by wear, of a surface where ejection ports are formed; and the consumption amount of a processing fluid for obtaining a good cleaning performance.例文帳に追加

スループットの低下、廃インクの増加、吐出口形成面の磨耗劣化、クリーニング性能を高める処理液の消費量を抑えつつ、良好なクリーニング性能を得ることができるインクジェット記録装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a drill head capable of preventing occurrence of a spiral mark in a hole inner peripheral surface in forming a through-hole on a cutting object material as a drill head including a brazing type cutting blade, and providing excellent external appearance and high processing accuracy.例文帳に追加

ロウ付けタイプの切刃を備えたドリルヘッドとして、被削材に貫通孔を形成する際に孔内周面におけるスパイラルマークの発生を防止でき、優れた外観体裁と高い加工精度が得られるものを提供する。 - 特許庁

To provide a thin heat pipe in a simple constitution, which does not need special processing, is superior in mass-productivity, and has high heat radiating and heat absorbing properties so that the entire surface can be heated or cooled in a short time with a temperature distribution free from unevenness.例文帳に追加

簡素な構成で、特殊な加工を必要とせず、量産性に優れ、表面全体を短時間で温度分布に斑の無い状態に加熱又は冷却することができる放熱性、吸熱性に優れた薄型ヒートパイプの提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing device and a manufacturing method for a light guide plate capable of preventing rising of molten resin in the vicinity of a notch section in a hill-shape and adhesion of the molten resin to a lower surface of a processing tool in the vicinity of a blade.例文帳に追加

溶融した樹脂が切欠き部周囲に丘状に盛り上がったり、刃部周囲の加工具下面に付着したりすることを防止することができる導光板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method, capable of controlling the pattern of a rugged structure to be formed on a surface of a substrate with high accuracy and avoiding waste of particles, and to provide the substrate processed by the method.例文帳に追加

基板表面に形成されるべき凹凸構造のパターンを高精度に制御することができ、粒子の無駄をなくすことができる基板処理装置、基板処理方法、及びこの方法によって処理された基板を提供すること。 - 特許庁

To provide an engraving head and an engraving apparatus which keep a distance between the mounting surface of an object to be engraved and the tip of an engraving pin within a proper range without changing the standby position of the engraving pin, nor processing the engraving pin.例文帳に追加

打刻ピンの待機位置を変化させることなく、かつ、打刻ピンの加工を行うことなく、被打刻物の載置面と打刻ピンの先端との距離を適正範囲内に収めることができる打刻ヘッド及び打刻装置を提供する。 - 特許庁

To easily and surely eliminating small projections of a crystal level regarding a device and a method for processing a magnetic head slider, designed to eliminate small projections stuck to the floating surface of the magnetic head slider by polishing.例文帳に追加

本発明は磁気ヘッドスライダの浮上面に付着した微小突起を研磨により除去する磁気ヘッドスライダの加工装置及び加工方法に関し、結晶レベルの微小突起を簡単かつ確実に除去することを課題とする。 - 特許庁

The chemically resistant gloves are each structured as follows: a layer of rubber selected from diene-based rubber, isoprene rubber, butyl rubber, and natural rubber is formed on the inner surface of a glove base body made of chloroprene rubber; and the layer of rubber is subjected to slide processing.例文帳に追加

クロロプレンゴムからなる手袋基体の内面に、ジエン系ゴム、イソプレンゴム、ゴチルゴム、天然ゴムから選ばれるゴム層が設けられ、該ゴム層に滑り加工処理が施されていることを特徴とする耐薬品性手袋である。 - 特許庁

The plant processing method further comprises forming a film of a liquid polysilazane-containing coating material on the surface of a plant base material, converting the polysilazane to silica, to form a primary coating layer, and forming a secondary coating layer of an organic material on the primary coating layer.例文帳に追加

また、植物基材の表面に液状のポリシラザン含有コーティング材の膜を形成し、ポリシラザンをシリカ転化して一次コーティング層を形成し、当該一次コーティング層の上に有機材料の二次コーティング層を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the copper damascine multilayer wiring in a semiconductor integrated circuit device, heating at 300-400°C is executed in a reductive gas atmosphere or plasma annealing is executed in a reductive gas plasma atmosphere after oxidation processing is executed on the surface of the copper.例文帳に追加

半導体集積回路装置における銅ダマシン多層配線の形成方法であって、銅表面の酸化処理を行った後に、還元性ガス雰囲気にて300〜400℃の加熱あるいは還元性ガスプラズマ雰囲気にてプラズマアニールを行う。 - 特許庁

To suppress an occurrence of a crystal defect, an interface state density or the like at a main surface side of a semiconductor substrate in a method for manufacturing an element isolation in a semiconductor memory or a semiconductor arithmetic processing unit.例文帳に追加

本発明は半導体記憶装置や半導体演算処理装置における素子分離の製造方法に関し、半導体基板の主表面側における結晶欠陥や界面準位等の発生を抑制することを目的とする。 - 特許庁

The image processing system and the method are provided to remove and smooth out irregularities from 3D image information reproduced from one scene, specially, multiple 2D image views from a uniform surface of an object in the scene.例文帳に追加

本発明によれば、１つのシーン、特にそのシーン内のオブジェクトの均一の表面からの複数個の２Ｄビューから再現させた３Ｄ画像情報からの不規則性を平滑化させる画像処理システム及び方法が提供される。 - 特許庁

To provide a plasma processing device that makes the unevenness of electric field distribution on a surface of an electrode small so that etching rate distribution is uniform in a plasma process using a high density plasma that can correspond to further fining.例文帳に追加

より微細化に対応可能な高密度プラズマを用いたプラズマ処理において、電極表面における電界分布の不均一を小さくすることが可能であり、エッチングレート分布が均一なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

When a Schottky diode is equipped with an electrode which is formed by processing an Al-Si thin film that is formed under conditions where a magnetic field is controlled as mentioned above, the Schottky diode can be restrained from varying in electrical properties within the surface of the work 8.例文帳に追加

このように磁場が制御された状況下で成膜されたＡｌ−Ｓｉ薄膜を加工して得られる電極をショットキーダイオードが有する場合、ショットキーダイオードの電気的特性の面内ばらつきが押えられる。 - 特許庁

To obtain a rubber composition to prevent a molded article from tearing caused by rapid pressure release at the cracked surface of a mold in a mold processing of a rubber molded part such as insulating tube or the like used at an intermediate connecting portion of a power cable.例文帳に追加

電力ケーブルの中間接続部に用いられる絶縁筒などのゴムモールド部品をモールド成形する際に、金型割れ面での圧力の急激な開放に起因して、成型品が裂けるのを防止するためのゴム組成物を得る。 - 特許庁

The curved surface processing part 45 calculates a coordinate on the plane buffer 44 corresponding to one point on a circular frame buffer 50, and image information stored in the coordinate is read out and is stored in a corresponding position of the circular frame buffer 50.例文帳に追加

曲面処理部４５は、円形フレームバッファ５０上の一点に対応する平面バッファ４４上の座標を計算し、この座標に格納された画像情報を読み出して、円形フレームバッファ５０の対応位置に格納する。 - 特許庁

The ratio of RF electronic currents radiated, respectively, from the central portion and the peripheral portion of the major surface of the susceptor 12 toward a processing space S can be adjusted arbitrarily and variably at the central and peripheral impedance adjusting portions 64 and 66.例文帳に追加

サセプタ１２主面の中心部および周辺部より処理空間Ｓに向けてそれぞれ放射されるＲＦ電子電流の比を中心および周辺インピーダンス調整部６４，６６により任意に可変調整することができる。 - 特許庁

To provide a surface processing method of nuclear power plant structure and a nuclear power plant capable of lowering corrosion potential of the nuclear power plant structure, regardless of the presence of injection of hydrogen.例文帳に追加

本発明の目的は、原子力プラントにおいて、水素注入の有無にかかわらず、原子力プラント構造物の腐食電位を低下できる原子力プラント構造物の表面処理方法及び原子力プラントを提供することである。 - 特許庁

To provide a smooth surfaced, inexpensive, and sheet-shaped resin composition having biodegradability that can safely be finished when processing it to a sheet-shaped product by rolling since it does not cause adhesion of resin components onto a roll surface.例文帳に追加

ロールによるシート状物への加工に際して、ロール表面への樹脂成分の付着が生ぜず、安定して加工できる樹脂組成物、及び表面が平滑でかつ安価な、生分解性を有するシート状物を提供する。 - 特許庁

To solve problems wherein a device constituting member in a chamber directly collided with abrasive coating is worn in a short period of time and parts have to be exchanged, when a membrane adhered on a processing object surface is scratched and removed by spraying abrasive coating in the chamber.例文帳に追加

チャンバー内で砥粒を吹き付けて、処理物表面に付着した皮膜を研創除去するに際し、砥粒が直接衝突するチャンバー内の装置構成部材が短期間で磨滅し、部材交換を余儀なくされる。 - 特許庁

The flash fixing means 60 is constituted of a conveying belt 61, suction fans 62a and 62b, surface heaters 63a and 63b, a preheating part 64 and a flash light projecting unit 65, and performs fixing processing to continuous paper (recording paper) 12 in a non-contact state.例文帳に追加

フラッシュ定着装置６０は、搬送ベルト６１、吸引ファン６２ａ、６２ｂ、面状ヒータ６３ａ、６３ｂ、プレヒート部６４、フラッシュ光投射装置６５から構成され、連続用紙（記録紙）１２に非接触で定着処理する。 - 特許庁

To output heat suitable for transmitting and processing causing no loss of the heat, by generating an eddy current with uniform density, on the entire or selected area of the outside surface of a roll jacket.例文帳に追加

ロールジャケットの外側表面の全体または適切に選択可能な領域に、均一な密度の渦電流を発生させることによって、加熱出力の損失のない伝達とプロセスに適応した加熱出力を発生させる。 - 特許庁

The carburizing method comprises a removing step (step S2) for removing a processing-deteriorated layer formed on the surface of steel containing Cr in a content of ≥1.5 mass%, and a step (step S3) for carburizing the steel after the removing step.例文帳に追加

浸炭方法は、１．５質量％以上のＣｒを含む鋼の表面に形成された加工変質層を除去する除去工程（ステップＳ２）と、除去工程後に鋼を浸炭する工程（ステップＳ３）とを備えている。 - 特許庁

To provide an optical device wafer processing method which makes it possible to move an optical device layer laminated on the surface of an epitaxy substrate constituting an optical device wafer smoothly from there to a transfer substrate without causing damage to the optical device layer.例文帳に追加

光デバイスウエーハを構成するエピタキシー基板の表面に積層された光デバイス層に損傷を与えることなく光デバイス層を移設基板に円滑に移し変えることができる光デバイスウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

The surface of an embedded implement is applied with a hydrophilic treatment by using a chemical processing such as electrical discharge machining such as plasma treatment, corona discharge, light radiation such as ultraviolet ray or the like, oxidation decomposition by an oxidizing agent, coating by hydrophilic material or the like.例文帳に追加

プラズマ処理やコロナ放電などの放電加工，紫外線等の光照射，酸化剤による酸化分解などの薬剤処理，親水性物質でのコーティング等を利用して埋設器具の表面を親水性処理する。 - 特許庁

In the hose reel, the outer peripheral surface 17a of the body 17 of the drum 15 and opposed inner side surfaces 18a of both flangs, i.e., a part slide-contacted with the hose 14 in winding are subjected to texture processing and are formed into recessed/projected surfaces having wrinkle-like recesses/projections.例文帳に追加

ドラム１５の胴部１７の外周面１７ａ及び両鍔部１８の対向する内側面１８ａ、すなわち巻取り時にホース１４が摺接する部位をしぼ加工し、皺状の凹凸を有する凹凸面を形成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a substrate, in which defects and contamination are prevented, while enhancing the yield and characteristics by removing dust adhering to the surface of a substrate and the cost can be reduced by increasing the number of times of utilizing a ply-sheet.例文帳に追加

基板の表面に付着したダストを除去して欠陥やコンタミを防止し、歩留りや特性を向上させ、合紙の利用回数を増やしてコストを低減できる基板処理方法およ基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The variability of pressurizing force at a pressurizing point of the pressurizing member 3 which is generated by a reason such as the polishing board 1 has warpage, is relieved by deformation of the soft elastic member 4, so that pressure applied on a processing surface can be made uniform.例文帳に追加

研磨基板１に反りがあるなどの理由で発生する加圧部材３の加圧点での加圧力のばらつきは、軟弾性部材４の変形により緩和されるので、加工面に加わる圧力を実質的に均一にできる。 - 特許庁

To provide a roller member production method by which bend of the roller member is reduced even when its circumferential surface is roughened, and mechanical trouble is not caused, and to provide the roller member, a development roller, a development device, a processing cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

外周面に粗面化処理をおこなう場合であってもフレが少なく機能的な不具合の発生しないローラ部材の製造方法、ローラ部材、現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The inside in the bearing breadthwise direction of the opposed surface 3a is formed as an area A, and the outside is formed as an area B, and oil repellent processing is performed only on the area B, and thereby, the lubricant 2 exists only in the area A, and is repelled in the area B.例文帳に追加

対向面３ａの軸受幅方向内側を領域Ａ、外側を領域Ｂとし、領域Ｂのみを撥油処理することで、潤滑剤２が領域Ａにのみ存在し、境域Ｂでは弾かれるようにする。 - 特許庁

An image processing apparatus 100 reads multiple business cards BC arranged on a reading surface C at one time and cuts a read image G into an image of each business card BC by an image obtaining part 211 to obtain multiple business card images MG.例文帳に追加

画像処理装置１００は、読み取り面Ｃに配置された複数の名刺ＢＣを一度に読み取り、画像取得部２１１により、読み取り画像Ｇを各名刺ＢＣの画像に切り分けて、複数の名刺画像ＭＧを取得する。 - 特許庁

In the surface processing method of the member for OA equipment, the functional layer is peeled off by spraying a projection material to the member for OA equipment having at least one functional layer consisting mainly of resin or rubber formed on a metal base.例文帳に追加

金属基材上に、樹脂またはゴムを主成分とする機能層を少なくとも一層備えるＯＡ機器用部材に対し、投射材を吹き付けて機能層を剥離するＯＡ機器用部材の表面処理方法である。 - 特許庁

An analytic model generating processing part 110 prepares correspondent relation data 134 showing correspondence between each of parts of a CAD model 132 expressing the surface form of an object and each of nodal points of an analytic model 136 prepared therefrom.例文帳に追加

解析モデル生成処理部１１０は、対象物の表面形状を表すＣＡＤモデル１３２の各部位と、これから作成した解析モデル１３６の各節点との対応を示す対応関係データ１３４を作成する。 - 特許庁

To form a moderate solidification layer on the surface of a liquid film while keeping the bulk portion of a coating film in a liquid or half-dried state moderately without using the technique of reduced pressure drying, for a film of processing liquid applied onto a substrate to be treated.例文帳に追加

被処理基板上に塗布された処理液の膜に対して、減圧乾燥の手法を用いずに塗布膜のバルク部分を程よく液状ないし生乾き状態に保ったまま液膜の表面に適度な固化層を形成すること。 - 特許庁

By providing a curved part 28 at the end surface of the mask 25 facing a boundary part 26 between the pre-exposure part 23 and the unexposed part 22, light sneaking permission processing for permitting the sneaking of light into the boundary part 26 is executed.例文帳に追加

事前露光部２３と未露光部２２との境界部分２６に臨む遮光マスク２５の端面に湾曲部２８を設けることにより、境界部分２６への光の回り込みを許容する光回り込み許容処理を施す。 - 特許庁

To provide a substrate support boat which is hardly warped even if thin pillars are used, excellent in processing precision, and capable of preventing the occurrence of particles and shortening the time required for making a semiconductor substrate uniform in temperature through its surface.例文帳に追加

本発明の目的は、細い柱でも反りが生じず、加工精度が高く、パーティクルの発生を防止し、かつ半導体基板面内の温度が均一になるまでの時間が短縮される基板支持ボートを与えることである。 - 特許庁

In the whole surface OCR processing, the layout of items of the business form is recognized, thereby flexibly coping with business forms different in the layout of items, without preparing layout information of items need for each business form, in advance.例文帳に追加

全面ＯＣＲ処理において、帳票の項目のレイアウトを認識するので、予め帳票毎に項目のレイアウト情報を準備することなく、項目のレイアウトが異なる帳票に対して柔軟に対応することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method and device for processing a substrate capable of properly removing a resist that comprises a solidified layer from a substrate while suppressing or avoiding damages on the substrate or a thin film formed on its surface.例文帳に追加

基板またはその表面に形成された薄膜に対するダメージを抑制または回避しながら、硬化層を有するレジストを基板から良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁