「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(120ページ目) - Weblio英語例文検索

The transparent electrode layer 2 has at least one opening 5 formed through etching processing to expose a surface of the substrate 1, and the haze rate of the transparent electrode layer 2 to light in a wide wavelength range is equal to or larger than 60%.例文帳に追加

透明電極層２は、エッチング処理によって形成された基板１表面を露出させる少なくとも１つの開口部５を有し、透明電極層２の広い波長領域の光に対するヘイズ率が、６０％以上である。 - 特許庁

To provide an electronic equipment which is made by mounting electronic components on one surface of a substrate and which realizes a structure in which the electronic components do not protrude more than the substrate electrode without performing punching or additional processing to the substrate after mounting the electronic components.例文帳に追加

基板の一面上に電子部品を搭載してなる電子装置において、基板に対して穴あけ加工や電子部品搭載後の追加工を行うことなく、電子部品が基板電極よりも突出しない構成を実現する。 - 特許庁

The surface electrode and back electrode can be simultaneously subjected to the sintering processing at high temperature (for example, 900°C or above) needed for the back Ni-based electrode to have the ohmic junction with the semiconductor substrate, so the manufacturing processes can be simplified.例文帳に追加

裏面Ｎｉ系電極が半導体基板とオーミック接合するために必要な高温（例えば９００℃以上）で、表面電極と裏面電極のシンター処理を同時に行うことができるため、製造工程が簡略化される。 - 特許庁

A substrate W is immersed into the rinse liquid rC dissolving carbon dioxide stored in a processing tank 20 to clean the surface, and then the substrate W is pulled up into a chamber 10 under IPA gas atmosphere and dried.例文帳に追加

二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを貯留した処理槽２０内に基板Ｗを浸漬して表面洗浄を行った後に、ＩＰＡガス雰囲気下におかれているチャンバ１０内に引き上げて基板Ｗを乾燥する。 - 特許庁

The measuring part 12 measures the area of a plurality of beam spots s1 to s5 formed on the imaging surface 1A by condensing the laser beams LB1 to LB5 by the image processing of output from an imaging device 1.例文帳に追加

ビームスポット面積計測部１２は、平行光レーザビームＬＢ１〜ＬＢ５の集光によって撮像面１Ａ上に形成された複数のビームスポットｓ１〜ｓ５の面積を撮像素子１の出力を画像処理することによって計測する。 - 特許庁

By performing oxidation processing for the surface of an interlayer insulating film made of a metallic oxide thin film deposited by a sputtering method, a CVD method or the like, defects caused by an oxygen loss are reduced to prevent insulating failures.例文帳に追加

スパッタリング法、ＣＶＤ法などによって堆積させた金属酸化物薄膜からなる層間絶縁膜の表面を酸化処理することにより、酸素欠損に起因する欠陥を低減し、絶縁不良を防止することができる。 - 特許庁

To provide an afforestation/soil stabilization material which is used for thick-layer base material hydroseeding method or a soil stabilization processing method, is capable of forming an excellent surface within a short time and is capable of inhibiting elusion of pollutants from soil.例文帳に追加

厚層基材種子吹付工法や土壌安定加工法に用いられ、短時間で優れた施工面を形成できるとともに、土壌中の汚染物質が溶出することを抑制する緑化・土壌安定化材料を提供する。 - 特許庁

The processing part determines a surface force acting on triangular elements and node points based on the pressure difference and the coordinates of the node points in reference to a file storing the relation among node points, beam elements and triangular elements (S101 and S103).例文帳に追加

処理部は、結節点と梁要素と三角要素との関係を記憶したファイルを参照し、圧力差及び結節点の座標に基づき、三角要素及び結節点に働く表面力を求める（Ｓ１０１、１０３）。 - 特許庁

To perform fixing processing stably in a fixing device that uses a fixing belt, by restraining adverse effects even when a sliding sheet covering a pressing member pressing the inner circumferential surface of the fixing belt is broken by the friction with the fixing belt.例文帳に追加

定着ベルトを用いた定着装置において、定着ベルト内周面を押圧する押圧部材を被覆する摺動シートが、定着ベルトと擦れることによって破れた場合であってもその影響を抑え、安定して定着処理する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive lithographic printing material having high sensitivity to various lasers, having high processing stability even after storage in a high temperature and high humidity environment, and causing no surface stain in printing.例文帳に追加

各種レーザーに対して高い感度を有し、平版印刷材料が高温度且つ高湿度の環境下に保存されても、処理安定性が高く、印刷時に地汚れの発生しないネガ型感光性平版印刷材料を提供する。 - 特許庁

A first insulating film 101 is formed on a substrate to be processed 100 by oxidizing the surface to be processed 100a of the substrate to be processed 100 with oxygen atom active species produced from processing gas as first gas.例文帳に追加

被処理基板１００が有する被処理面１００ａを第１のガスとしての処理ガスにより生成された酸素原子活性種によって酸化することで、被処理基板１００に第１の絶縁膜１０１を形成する。 - 特許庁

To enlarge the applicability to a material to be treated having various thicknesses and shapes, and further enable a prescribed processing treatment to be very effectively carrying out only to the one-side surface without requiring previous treatment.例文帳に追加

厚みや形状などが多種多様な被処理物に対する適用性の拡充が図れるとともに、事前処理を要することなく片方の表面のみに対する所定の加工処理を非常に効率よく行なうことができるようにする。 - 特許庁

To evaluate distinctively radioactive contamination of the surface of a measuring object and radioactive contamination of the inside thereof without complicated operation processing, and to measure a trace amount of radioactivity accurately and infinitely close to the true value.例文帳に追加

煩雑な演算処理を行わなくとも、測定対象物の表面の放射能汚染と内部の放射能汚染とを区別して評価することができるとともに、微量放射能を真値に限りなく近く正確に測定することである。 - 特許庁

The road surface condition information providing system 100 includes on-vehicle systems 1 mounted on vehicles VE1-VEn and an information processing system 2 on the center side communicable with each of the on-vehicle systems 1 via a communication line.例文帳に追加

路面状況情報提供システム１００は、車両ＶＥ１〜ＶＥｎに搭載される車載システム１と、この車載システム１との間で通信回路を介して通信可能なセンター側の情報処理システム２とを含む。 - 特許庁

To provide a composite woven fabric having a combination of unique glossy feeling, drape property and refreshingly cool feeling each inherent in cellulose acetate filament yarn with puffy feeling and processing stability each inherent in polyester filament yarn, and free from fluffs on its surface after undergoing dyeing finish.例文帳に追加

セルロースアセテートフィラメント糸の独特な光沢感と軽やかなドレープ性、清涼感と、ポリエステルフィラメント糸の膨らみ感、加工安定性を兼備し、かつ染色仕上げ後の織編物の面に毛羽のない複合織編物を提供する。 - 特許庁

To optimally perform image correction processing in accordance with an image characteristics without deteriorating a display image even in the case of displaying a three-dimensional object obtained by mapping a natural image on a part of a surface as the display image.例文帳に追加

自然画を一部の表面にマッピングした３次元物体を表示画像として表示する場合でも、その表示画像の画質の低下を生じることなく、画像特性に応じて画像補正処理を最適に行うこと。 - 特許庁

The above purpose is resolved by lasing the laser light directly or indirectly to the surface of glass or resins materials by means of a scanner, a personal computer, a laser processing machine (including a laser source of electric power), a laser controller and a mask for example a glass mask of titanium powder).例文帳に追加

スキャナー、パソコン、レーザー加工機（レーザー電源を含む）、レーザー制御器、マスク（例えばチタン粉末ガラスマスク）これらを用い、ガラス、樹脂、表面にレーザー光を直接、間接的に照射する事により、上記課題を解決する。 - 特許庁

Plasma processing is performed on the surface of a sheet-like substrate, composed of aromatic polyamide and then a metal thin film layer, principally comprising an alloy of nickel and chromium and a thin-film layer of copper are formed thereon to produce a substrate for flexible printed circuit.例文帳に追加

芳香族ポリアミドからなるシート状基材表面にプラズマ処理を行い、その上にニッケルとクロムからなる合金を主成分とする金属薄膜層、および銅の薄膜層を有するフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

A fine unevenness 11 is formed only on a region where the ink receiving layer 40 is formed among the surface of an overcoat layer 20 laminated on the card base 10 by laser processing, and the ink receiving layer 40 is formed on the unevenness 11.例文帳に追加

カード基材１０上に積層されたオーバーコート層２０の表面のうちインク受理層４０が形成される領域のみにレーザ加工により微細な凹凸１１を形成し、凹凸１１上にインク受理層４０を形成する。 - 特許庁

Each color toner image obtained from a latent image on a photosensitive drum by image developing processing by each color toner is positioned on the same surface on an intermediate transfer belt, is superposed successively and transferred, and the toner image is transferred in bloc to a transfer material.例文帳に追加

感光体ドラム上の潜像を各色トナーにより顕像処理して得られた各色トナー像を中間転写ベルト上の同一面に位置合わせして順次重ねて転写し、そのトナー像を転写材に一括して転写する。 - 特許庁

To reduce electric charges on the surface of a substrate accompanying ion beam irradiation, without deteriorating the vacuum level in a beam line or a substrate processing chamber, by generating a large number of low energy electrons and utilizing them for neutralization.例文帳に追加

ビームラインや基板処理室の真空度悪化を惹き起こすことなく、低エネルギーの電子を大量に発生させてそれを中和に利用して、イオンビーム照射に伴う基板表面の帯電を小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

After the source drain portions 10, 13 are formed in the epitaxial layer 9, an interlayer film consisting of amorphous silicon is formed on these structure, and the interlayer film is removed by CMP processing until reaching the surface of the CMP stopper film 11.例文帳に追加

エピタキシャル層９にソースドレイン部１０，１３を形成した後、これらの構造上にアモルファスシリコンからなる層間膜を形成し、ＣＭＰストッパ膜１１表面に達するまで、ＣＭＰ処理により層間膜を除去する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus capable of excellently machining an object by a simple processing based on machining information inputted on a surface image of the object, and to provide its setting method and setting program.例文帳に追加

簡単な処理により、対象物の表面画像上で入力した加工情報に基づいて良好に加工を行うことができるレーザ加工装置並びにその設定方法及び設定プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photographic printed material, in which lustrous feeling as being obtained by silver salt photography can be obtained without performing secondary processing and lustrous feeling appealing to the sensual portion of a user and surface smoothness can be obtained.例文帳に追加

２次的処理を施さずとも、銀塩写真で得られているような光沢感を実現し、ユーザーの官能部分に訴えるような光沢感、表面平滑性を得ることが可能な印画物を提供することを可能にする。 - 特許庁

This image processing detects the inflection point of a inclined figure part from the background of the camera image by a water level measurement means, determines it as water surface position coordinates in the image, and obtains the water level of a world coordinate system by converting the coordinates.例文帳に追加

その処理は、水位計測手段17-4によりカメラ画像の背景から傾斜図形部の変曲点１０４を検知し該変曲点部分を画像内水面位置座標とし、座標変換により世界座標系の水位を求める。 - 特許庁

To provide a device and a method for processing wire electrode and a wire cut electric discharge machine capable of finely cutting or breaking and collecting used wire electrode without affecting the accuracy of the working surface of a workpiece.例文帳に追加

加工対象物の加工面精度に影響を与えずに、使用済みワイヤ電極を細かく切断もしくは破断して回収することができるワイヤ電極の処理装置とその処理方法、及びワイヤカット放電加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for semiconductor wafers whereby a semiconductor wafer (2) can be treated as required without damaging it even when its rear surface is ground remarkably thin.例文帳に追加

半導体ウエーハ（２）の裏面を研削してその厚さを著しく薄くした場合にも、半導体ウエーハを破損せしめることなく半導体ウエーハを所要とおりに取扱うことを可能にする、半導体ウエーハの処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for processing particles of the formulation additive comprises spraying of a liquid containing a basic or acidic stabilizing agent to a formulation additive, thereby applying a stabilization treatment to the surface of the particles of the formulation additive.例文帳に追加

製剤用添加剤に塩基性又は酸性の安定化剤含有液をスプレー添加することにより、製剤用添加剤の粒子表面に安定化処理を施した製剤用添加剤の粒子加工方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the meat product filled in a meat net comprises treating the surface of raw material meat with transglutaminase, milk protein, and vegetable protein, filling the raw material meat in a meat net, and heat processing the product.例文帳に追加

ミートネットに充填した食肉製品を製造する方法において、原料肉の表面を、トランスグルタミナーゼ、乳タンパク質、及び、植物性タンパク質で処理した後、当該原料肉をミートネットに充填し、加熱加工を行う。 - 特許庁

The product 10 is inserted into a serration mold 12 with the metal 11 held on the inside and a plurality of stripe grooves 2 extending in the axial direction are simultaneously formed on the outer circumferential surface of the product 10 by serration processing.例文帳に追加

芯金１１を挿入した状態で中間製品１０をセレーション型１２に挿入し、中間製品１０の外周面にセレーション加工によって軸方向に延びる筋状の溝２を複数本同時に形成する。 - 特許庁

The acrylic resin laminated film or the laminated molded product can be formed into a molded product having proper surface hardness and flexibility and reduced in whitening when it is adapted to molding processing including bending or drawing.例文帳に追加

これらのアクリル系樹脂積層フィルム又は積層成形品は、折り曲げ又は引張りを含む成形加工に適用した際に、適度の表面硬度及び柔軟性を有し、白色化の少ない成形品とすることができる。 - 特許庁

To further enhance the efficiency of particle removal in a method and apparatus for processing a substrate, in which a substrate surface is physically cleaned while a pattern is structurally reinforced by solidifying a liquid entering gaps of the pattern.例文帳に追加

パターンの間隙内部に入り込んだ液体を凝固させることでパターンを構造的に補強した状態で基板表面を物理洗浄する、基板処理方法および装置においてパーティクル除去効率をさらに高める。 - 特許庁

In this developing method, processing for developing a resist is performed to the base material where resist shapes of different patterns are formed on different spots on one surface having a three-dimensional shape.例文帳に追加

本発明の現像方法は、３次元形状に変化する一面に、特定の箇所に応じて異なる形状の所定パターンのレジスト形状が形成された基材に対して、前記レジストの現像を行うための現像処理を施すものである。 - 特許庁

This coated cutting tool insert is particularly useful for dry and wet machining, desirably, the milling cutter processing of a non-alloy, a low alloy, high alloy steel and cast iron having or without having an unprocessed surface area.例文帳に追加

本発明は、未加工の表面領域を持つ、または持たない非合金、低合金および高合金鋼ならびに鋳鉄の乾式および湿式機械加工、好ましくはフライス加工に特に有用な被覆切削工具インサートを開示する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device for preventing turbulence of the down air flow in a device, when a substrate to be processed is carried and for preventing decrease in yield, caused by the sticking of dust to the surface of the substrate.例文帳に追加

被処理基板の搬送時における装置内のダウンフローの気流の乱れを抑制し、被処理基板表面に塵埃が付着することに起因しての歩留りの低下を抑制することのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Because the abrasive is composed of electric rheorogiegel (ERG) 12 and abrasive grains 12A, it is possible to change the hardness of ERG in accordance with the surface roughness of work (object for processing), and to carry out polishing efficiently.例文帳に追加

本発明の研磨材は、電気レオロジーゲル（ＥＲＧ）１２と砥粒１２Ａとを含んで構成したので、ワーク（被加工物）の表面粗度に応じてＥＲＧの硬度を変化させることができ、研磨を効率的に行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a floor material having a cork layer as an upper layer and the composite floor material obtained thereby and to form a protective film on the surface of the cork layer at the time of molding processing to enhance the chemical resistance and gloss of the cork layer at the same time.例文帳に追加

上層の表面にコルク層を有する床材の製造方法とそれによって得られる複合床材であって、成形加工時、コルク層の表面に保護膜を形成して耐薬品性と光沢とを同時に向上させる。 - 特許庁

To provide an interference fringe data generating device which is capable of generating the image data of interference fringes after half-zone-plate processing at high speed, even when an object is virtually arranged in front of and behind of a hologram surface.例文帳に追加

ホログラム面に対して前方及び後方の双方に被写体を仮想的に配置しても、ハーフゾーンプレート処理を行った干渉縞の画像データを高速に生成することができる干渉縞データ生成装置を提供する。 - 特許庁

When non-enlargement is selected by a zoom operating switch 18, an image processing circuit 49 extracts a sub-sensitivity region component (a capillary component of the mucous membrane surface layer) b' from a G pixel value g by correlative operation to an R pixel value r.例文帳に追加

画像処理回路４９は、ズーム操作スイッチ１８で非拡大が選択されたときに、Ｒ画素値ｒとの相関演算により、Ｇ画素値ｇから副感度領域の成分（粘膜表層の毛細血管の成分）ｂ’を抽出する。 - 特許庁

After a step of the CMP process of polishing the formed film on the semiconductor wafer by the polishing cloth, while the slurry containing polishing particles is supplied, a step of hydrophile-processing the surface of the polishing cloth is executed.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、研磨粒子を含むスラリーを供給しながら研磨布により半導体ウェーハ上の成膜をポリッシングするＣＭＰ処理工程の後に、研磨布表面を親水性処理する工程を実施する。 - 特許庁

In the image-formed paper processing device 60, a reading means 31 reading the surface and back of paper at every conveyance is disposed between a manual feed tray (paper feed apparatus) 30 and the manual feed port of the main body of an image forming apparatus.例文帳に追加

この作像済用紙処理装置６０は、手差しトレイ（給紙装置）３０と画像形成装置本体の手差し口との間に、一度の搬送で表裏を読み取ることのできる読み取り手段３１が構成されている。 - 特許庁

To provide a linear motion device capable of eliminating expensive devices and processing such as spattering and CVD and capable of obtaining sufficient lubrication, fatigue-resistant strength and impact-resistance at low costs, while preventing peeling of a material surface.例文帳に追加

材料表面が剥離を生じることがなく、スパッタリングやＣＶＤ等の高価な装置、処理を不要にでき、更には、十分な潤滑性、疲労強度及び耐衝撃性を得ることができる直動装置を低コストで提供する。 - 特許庁

Impulse wave is generated by introducing the gas for processing timely and intermittently into the plasma producing chamber 1 from the gas introducing unit 101 to remove the reaction product stagnated on the surface of the workpiece 6 by the impulse wave.例文帳に追加

ガス導入部１０１からプラズマ生成室１内に時間的に間欠的に加工用ガスを導入することによって衝撃波を発生させ、この衝撃波によって被加工物６表面に滞留する反応生成物を除去する。 - 特許庁

In the vacuum processing system 11 comprising first and second vacuum chambers 13, 15 independently, a cup-like structure 33 is provided upside down in the second vacuum chamber while surrounding the surface 27a of a substrate 27 to be treated.例文帳に追加

この互いに独立した第１及び第２真空室１３及び１５を具える真空処理装置１１では、第２真空室内に、椀を伏せた状態に基板２７の被処理面２７ａを囲い込む椀状構造体３３を有している。 - 特許庁

When the sample 6 is given in executing the analysis, a sample identification part 18 recognizes the sample number thereof, an image processing part 21 detects a defective part by the image of the analysis surface of the sample 6 obtained by a CCD camera 12.例文帳に追加

分析実行時に試料６が与えられると試料識別部１８がその試料番号を認識し、が層処理部２１はＣＣＤカメラ１２により得られた試料６の分析面の画像により欠陥部を検出する。 - 特許庁