「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(124ページ目) - Weblio英語例文検索

A thin film pattern 10 is formed by preforming a water-soluble polymer film 4 on the surface of a film 2 to be processed, provided on a substrate 1, then performing ablation processing by irradiating the surface of the polymer film 4 with laser beam 8 through a pattern mask 7, and removing resin decomposed matters 6 and remaining water-soluble polymer film 5 by washing.例文帳に追加

基材１上に設けられた被加工膜２の表面に、予め水溶性の高分子膜４を形成し、その高分子膜形成面にパターンマスク７を介してレーザー光８を照射してアブレーション加工を行い、その後水洗を行うことにより、樹脂分解物６と残った水溶性高分子膜５を除去し、薄膜パターン１０を形成する。 - 特許庁

To provide a micro shape measuring apparatus capable of detecting the displacement of a probe vibration and the displacement of a cantilever caused by irregularities of a surface to be measured with a single displacement sensor, and not requiring high digital processing in separating the information of probe displacement into a component of probe vibration and a component of irregularities of the surface to be measured.例文帳に追加

１つの変位センサによって探針振動の変位と、被測定面の凹凸によるカンチレバーの変位との検出が可能な形状測定装置において、探針の変位情報を探針振動の成分と、被測定面の凹凸の成分とに分離するに際し、高度なデジタル処理を必要としない形状測定装置を提供すること。 - 特許庁

After the bonding surface of the disk substrate is coated with a cation polymerization type UV curing resin composition to a toric form, the surface is not irradiated with the UV rays during the standby time c after the start of the required process step time a set in a UV irradiation process step and thereafter the cation polymerization type UV curing resin composition is irradiated with the UV rays for the required processing time b.例文帳に追加

ディスク基板の貼合わせ面にカチオン重合型紫外線硬化性組成物を円環状に塗布した後、紫外線照射工程で設定した工程所要時間ａの開始後、待機時間ｃの間だけ紫外線照射せず、その後にカチオン重合型紫外線硬化性組成物に要処理時間ｂだけ紫外線照射する。 - 特許庁

To provide a protection film of a semiconductor wafer which has a favorable adhesive property and tackiness to a semiconductor wafer, is excellent in chemical resistance, heat resistance and low moisture permeability, and easily strippable from the wafer surface without leaving a residue after use, and a method for protecting the semiconductor wafer surface and a method for processing the semiconductor wafer using the protection film.例文帳に追加

半導体ウエハへの良好な密着性、粘着性を有し、耐薬品性、耐熱性、低透湿性に優れ、かつ、使用後は半導体ウエハ表面に残存せずに容易に剥離できる半導体ウエハの保護膜、ならびに該保護膜を利用する半導体ウエハ表面の保護方法および半導体ウエハの加工方法を提供する。 - 特許庁

Because a rotary grinding wheel 1 is scanned to a workpiece 10 in a direction inclined to its rotary surface by only a predetermined angle, an effective radius Re of the rotary grinding wheel 1 becomes large, and the grinding surface roughness is significantly reduced in comparison with the case using a conventional grinding method, so that there is no need of polishing processing as a post-step.例文帳に追加

被加工物１０に対して、回転砥石１をその回転面に対して所定の角度だけ傾斜した方向に走査するため、回転砥石１の実効半径Ｒｅが大きくなり、研削面粗さが従来の研削方法を用いた場合に比べて格段に小さくなり、後工程としての研磨加工が不要になる。 - 特許庁

The entire surface of a carrier tape obtained after completing the molding processing to produce the carrier tape with a plurality of recesses for storing components formed therein is covered with a resin layer which shows releasing or has adhesiveness to show the separation associated with the surface fracture of the carrier tape in the cross-cut adhesion test in accordance with JIS H 8602 for the carrier tape.例文帳に追加

複数の部品収納用凹部が成形されたキャリアテープを生産するための成形加工の終了後、得られたキャリアテープの表面全体を、該キャリアテープに対し、ＪＩＳ Ｈ ８６０２に準拠する碁盤目試験において、剥離を示さないか、または該キャリアテープの表面破壊を伴う剥離を示す密着性を有する樹脂層で被覆する。 - 特許庁

A signal output from the piezoelectric effect element for detection is not processed up to an R point where specified time T passes from an electrification starting point (S point) of the piezoelectric effect element for driving, and a signal generated as the specified time passes and a head end of a processing tool makes contact with a surface of the work piece is processed as a surface detection signal M.例文帳に追加

駆動用ピエゾ圧電効果素子の通電開始点（Ｓ点）から所定時間Ｔが経過したＲ点までは検出用ピエゾ圧電効果素子から出力される信号を処理せず、所定時間Ｔが経過して加工具の先端が被加工材の表面に接して生じる信号を表面検出信号Ｍとして処理する。 - 特許庁

At least part of the region of a metallic surface of an apparatus used for preparing or processing a polycarbonate which comes into contact with reagents is pretreated with a polycarbonate melt containing at least one phosphorus compound to passivate the metallic surface of the apparatus in order to minimize the interaction between the polycarbonate and the metal.例文帳に追加

ポリカーボネートと金属との間の相互作用を最小にするために、ポリカーボネートを調製または加工するために用いられる装置の試薬と接触する金属表面の領域において少なくとも部分的に、１以上のリン化合物を含有するポリカーボネート溶融物溶融物を用いて前処理し、装置の金属表面を不動態化する。 - 特許庁

The method for fabricating a semiconductor device has processes of forming wiring 102 and 108 on the semiconductor device 100 formed a fixed circuit, forming a resin layer 112 whose surface is approximately flat, and processing the back surface of the semiconductor substrate 100.例文帳に追加

半導体装置の製造方法であって，所定回路が形成された半導体基板１００表面上に配線１０２，１０８を形成する工程と，前記配線上に，その表面が略平坦な樹脂層１１２を形成する工程と，前記樹脂層１１２を形成した後，前記半導体基板１００の裏面を加工する工程と，を有する。 - 特許庁

The method of fabricating a GeSbTe thin film includes: a first step of forming a GeSbTe thin film on a surface of a substrate by chemically reacting a first precursor including Ge, a second precursor including Sb, and a third precursor including Te in a reaction chamber; and a second step of processing the surface of the GeSbTe thin film with hydrogen plasma.例文帳に追加

反応チャンバ内でＧｅを含む第１前駆体、Ｓｂを含む第２前駆体及びＴｅを含む第３前駆体間の化学反応により基板の表面にＧｅＳｂＴｅ薄膜を形成する第１ステップ及び前記ＧｅＳｂＴｅ薄膜の表面を水素プラズマで表面処理する第２ステップを含むＧｅＳｂＴｅ薄膜の製造方法である。 - 特許庁

In other words, by applying a required arithmetic processing to the XY coordinate of a mounting stand 82a obtained using laser interferometers 83d and 83e and the Z coordinate of the stylus 11 obtained using a laser interferometer 91b while they are associated with each other by a controller 99, the three-dimensional surface shape of the optical surface of the optical element OE can be measured.例文帳に追加

つまり、レーザ干渉計８３ｄ，８３ｅを利用して得た載置台８２ａのＸＹ座標と、レーザ干渉計９１ｂを利用して得た触針１１のＺ座標とを、制御装置９９で対応付けつつ必要な演算処理を行うことにより、光学素子ＯＥの光学面の３次元的な表面形状を測定することができる。 - 特許庁

A spindle 2, a chuck 8 to which a wafer W supported by the spindle 2 is fixed, a solution nozzle 25 for supplying a wafer processing solution onto the wafer W, a gas supply path 4 for supplying gas to the rear surface of the wafer W, and a heater 30 for heating the gas supplied to the rear surface of the wafer W, are provided.例文帳に追加

回転軸２と、回転軸２によって支持されウェーハＷが固定されるチャック８と、ウェーハＷ上にウェーハ処理溶液を供給するための溶液ノズル２５、ウェーハＷの裏面にガスを供給するためのガス供給通路４及びウェーハＷの裏面に供給されるガスを加熱するためのヒータ３０を含めてなる。 - 特許庁

When the illuminance of light from a region to be detected in a combustion chamber 1 is lowered due to the adhesion of soot and organic or inorganic dirt to the surface of a lens 4 provided for a tip part 3 of the optical sensor 2, an image processing processor 12 of a control unit 11 energizes an interdigital electrode transducer 6 formed in the surface of the lens 4.例文帳に追加

制御装置１１の画像処理用プロセッサ１２は、光センサ２の先端部３に設けられたレンズ４の表面に煤や有機物或いは無機物の汚れが付着することにより燃焼室１における検出対象領域からの光の照度が低下した場合は、レンズ４の表面に形成された櫛歯状電極トランスデューサ６に通電する。 - 特許庁

To provide a tire vulcanizing mold constituted so as to facilitate processing of high precision with respect to a mold or the like, to effectively prevent the early occurrence of the settling phenomenon, damage or the like of a valve disc pressing spring and to form the earth surface of a molded block as an expected flat smooth surface to also effectively prevent the occurrence of unbalanced abrasion to the block.例文帳に追加

金型等に対する高精度の加工を容易にするとともに、弁体押圧ばねのへたり、破損等の早期の発生を有効に防止し、さらには、成形されたブロックの接地面を、所期した通りの平坦平滑面として、そのブロックへの偏摩耗の発生等をもまた有効に防止できる、タイヤ加硫金型のガス抜き装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high ductility and high strength alloyed hot-dip galvanized steel sheet capable of obtaining satisfactory alloyed hot-dip galvanizing properties without being subjected to a complicated process, and having excellent surface properties and brittle resistance to secondary processing by suppressing slab cracking upon continuous casting and surface defects upon hot rolling, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

煩雑な工程を経ることなく良好な合金化溶融亜鉛めっき性を得ることができ、連続鋳造時のスラブ割れおよび熱延時の表面欠陥を抑制した、表面性状および耐二次加工脆性に優れる高延性高強度合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The polycarbonate resin laminate for a liquid crystal display cover is a laminate of 0.5-1.2 mm total thickness in which an acrylic resin layer of 50-120 μm thickness is laminated to one surface of a polycarbonate resin layer by coextruding, and a hard coat processing is performed on the acrylic resin layer, and the surface in which the acrylic resin is not coextruded is used for a liquid crystal side.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂層の一方の面に、厚さ５０〜１２０μｍのアクリル樹脂層を共押出しによって積層した総厚さが０．５〜１．２ｍｍの積層体であって、アクリル樹脂層上にハードコート処理を施し、アクリル樹脂が共押出しされていない面が液晶側になる様に使用される液晶ディスプレーカバー用ポリカーボネート樹脂積層体。 - 特許庁

A group III nitride semiconductor 6 is processed by bringing the surface of the group III nitride semiconductor 6 fixed to the substrate stage 4 via a first substrate holder 11 into contact with the region, where the distribution of the amount of surface processing is gently distributed in all the regions of the plasma 10 between the cylindrical rotating electrode 2 and the substrate stage 4.例文帳に追加

上記円筒型回転電極２と基板ステージ４との間に生成されたプラズマ１０の全領域のうちの表面加工量の分布がなだらかな領域を、第１基板ホルダー１１を介して基板ステージ４に固定されたIII族窒化物半導体６の表面と接触させることによってIII族窒化物半導体６の表面を加工する。 - 特許庁

The optical filter arranged at the observation side front surface of a display part 1 has regions relatively high in light transmittance (light transmitting regions 5) and regions relatively low in light transmittance (light absorption regions 4) arranged intermingled, and the observation side surface of the region relatively low in light transmittance is subjected to light diffusion processing (or provided with a member).例文帳に追加

表示部１の観察側前面に配置される光学フィルタにおいて、光透過率が相対的に高い領域（光透過領域５）と相対的に低い領域（光吸収領域４）とを混在させて配置するとともに、光透過率が相対的に低い領域の観察側表面に光を拡散させる処理を施す（または部材を設ける）。 - 特許庁

This method for manufacturing the micro lens includes processes of: forming a resist pattern on a base surface; forming a thermal contraction membrane on the surface of the resist pattern; performing thermal processing at temperature equal to or higher than glass transition temperature of the resist pattern and equal to or hither than contraction starting temperature of the thermal contraction membrane and exfoliating the thermal contraction membrane.例文帳に追加

基体表面にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン表面に、熱収縮性皮膜を形成する工程と、前記レジストパターンのガラス転移温度以上であってかつ、前記熱収縮性皮膜の収縮開始温度以上の温度で熱処理を行う工程と、前記熱収縮性皮膜を剥離する工程とを含む。 - 特許庁

The image processor has an input unit to which an image is inputted, an image processing unit which specifies a portion of an image matching the display surface shape of the television displayed on the television based upon information regarding the display surface shape of the television to display the image, and an output unit which outputs the specified image to the television.例文帳に追加

画像が入力される入力部と、画像を表示すべきテレビの表示面形状に関する情報に基づいて、前記テレビに表示する、前記テレビの表示面形状に適合した前記画像の部分を特定する画像処理部と、前記特定された画像を前記テレビに出力する出力部とを有する画像処理装置とする。 - 特許庁

In the surface processing method of AlN crystal, for polishing the surface of AlN crystal 1 chemically and mechanically, slurry 17 that is used in chemical mechanical polishing, contains abrasive grains having hardness higher than that of the AlN crystal 1 and abrasive grains having hardness not higher than that of the AlN crystal 1.例文帳に追加

ＡｌＮ結晶１の表面を化学的機械的に研磨するＡｌＮ結晶の表面処理方法であって、化学的機械的研磨に用いられるスラリー１７の砥粒が、ＡｌＮ結晶１よりも硬度の高い高硬度砥粒と、ＡｌＮ結晶１以下に硬度の低い低硬度砥粒とを含むＡｌＮ結晶の表面処理方法。 - 特許庁

The detector 100 for detecting dryness of a coating film has a detecting section 1 detecting electric conditions of an object consisting of a coating film 4 formed on the surface of a substrate 5 and a data-processing section 2 which accumulates past data and compares the data from the detecting section 1 with the past data to judge whether or not the surface of the coating film 4 has become flat.例文帳に追加

塗膜乾燥検出装置１００は、対象物としての基板５の表面に設けられた塗膜４の電気的な状態を検出するための検出部１と、過去データを蓄積し、検出部１から得られるデータを過去データと比較して塗膜４表面が平坦になったかどうかを判断するためのデータ処理部２とを備える。 - 特許庁

To provide a foreign matter removing sieve net surface inspection mechanism in a disk type vibration sieve simplifying and facilitating work of removing the foreign matter and coarse products by processing powder such as wheat flour, buckwheat flour, starch flour or the like by the disk type vibration sieve and having a function of directly inspecting the sieve net surface every optional time.例文帳に追加

小麦粉、そば粉、でんぷん粉等の粉体を円型振動ふるい機で処理して異物の除去や粗大品の除去作業を簡単、且つ容易に行うことができると共に、任意時間毎にふるい網面を直接点検できる機能を備えた円型振動ふるい機における異物除去用のふるい網面点検機構を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reforming a film-formation surface and a method for manufacturing a semiconductor device using the same by which the base dependency to film formation can be thoroughly eliminated on a film- formation surface, by eliminating an additional energy such as plasma irradiation or high temperature heating, processing in a vacuum, etc., by an extremely simplified method.例文帳に追加

プラズマ照射或いは高温加熱、真空中の処理等の付加的なエネルギを用いることなく、極めて簡単な手法により被成膜面への成膜に対する下地依存性をほぼ完全に消去することができる被成膜面の改質方法及びこの改質方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process generally entails processing the surface of the substrate 20 to be substantially free of oxides, heating the substrate 20 in a non-oxidizing atmosphere to a carburization temperature, and then contacting the surface of the substrate 20 with a carburization gas mixture comprising a diluted low activity hydrocarbon gas while maintaining the substrate 20 at the carburization temperature.例文帳に追加

このプロセスでは、一般に、基材２０の表面を加工処理して酸化物を実質的に含まないようにし、基材２０を非酸化性雰囲気中で浸炭温度に加熱し、次いで基材２０を浸炭温度に維持しつつ基材２０の表面を希釈された低活性炭化水素ガスを含む浸炭ガス混合物と接触させる。 - 特許庁

The coating film surface 13 of the fitted part 2 of the stabilizer bar 1 is subjected to plasma processing by a plasma generating device 12, and then a bonding agent is applied to the coating film surface 13, and the rubber bushing formed through vulcanization molding is fitted on the fitting part 2, compressed in the radial direction and heated, and is fitted fast on the fitting part 2.例文帳に追加

プラズマ発生装置１２を用いてスタビライザーバー１の被嵌合部２の塗装膜面１３をプラズマ処理し、その後に、被嵌合部２の塗装膜面１３に接着剤を塗布し、加硫成形したゴムブッシュを被嵌合部２に外嵌し、ゴムブッシュを径方向に圧縮するとともに加熱してゴムブッシュを被嵌合部２に外嵌固定する。 - 特許庁

The edge processing structure of the skin surface material is composed in a way that a flexing part of each edge section comes close to each other using a first locking member 60 that holds a edge section 43 of the skin surface element 40 flexed towards the internal side and a tubular second locking member 70 that holds the first locking member 60 contained inside.例文帳に追加

本発明の表皮材の端末処理構造は、表皮材４０の端末部４３を内面側に屈曲させた状態で保持する第１係止部材６０と、第１係止部材を内部に格納した状態で保持する筒状の第２係止部材７０とを用いて、各端末部の屈曲部分同士を近接させる。 - 特許庁

The paper sheet conveying device comprises conveying roller pairs 32, 33, 34 for conveying paper sheets one by one, a jam processing member 40 having a space 41 for guiding surface and back sides of the paper sheet to be conveyed, and rotatable and drawn from a casing 31, and conveyance guide members 35, 36 arranged to guide the surface and back sides of the paper sheet to be conveyed.例文帳に追加

用紙を１枚ずつ搬送する搬送ローラ対３２，３３，３４と、搬送される用紙の表裏面をガイドする隙間４１を有し、回転可能であってかつ筐体３１から引出し可能なジャム処理部材４０と、搬送される用紙の表裏面をガイドするように配置された搬送ガイド部材３５，３６とからなる用紙搬送装置。 - 特許庁

To provide a moldable resin material for cutting, providing a resin for the cutting, capable of being cut to the smooth surface without requiring a finishing step even by a high-speed cutting because a conventional material for a model has problems of causing fine split and fuzz on the cut surface when subjected to the high-speed cutting to require the finishing as a post processing.例文帳に追加

従来の模型用材料では、高速切削加工すると切削表面にささくれや毛羽だちが生じ、後工程として仕上げ加工が必要となるという問題があったため、高速切削加工でも表面がなめらかに切削でき仕上げ工程が不要となる切削加工用樹脂を与える、該切削加工用樹脂形成性材料を提供する。 - 特許庁

A belt body 5 used in the transport conveyor is formed from an aluminum alloy plate having a high thermal conductivity, and the surface of the belt body 5 is subjected to alumite processing for giving it anti-corrosiveness, resistance against corrosion, anti-abrasiveness, etc. or to an embossing process, surface asperity process, satin finishing, etc. for preventing the unvulcanized rubber member W from tight attachment.例文帳に追加

この発明に実施するベルト本体５は、熱伝導率が高いアルミ合金板により形成され、ベルト本体５の表面６には、防食性，耐食性，耐摩耗性等を目的としてアルマイト加工を施したり、また未加硫ゴム部材Ｗの密着防止を目的として、エンボス加工や凹凸加工、或いは梨地加工等を施してある。 - 特許庁

In a method for processing a solid surface to make it even by using a gas cluster ion beam, at least during part of a period of a gas cluster ion beam radiation process, a radiation angle made by the normal line of a solid surface and the gas cluster ion beam is made larger than 70°, and the gas cluster ion beam is focused using a lens mechanism without separating the monomer ion, thus radiating it.例文帳に追加

ガスクラスターイオンビームを用い、固体表面を平坦に加工する方法において、ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす照射角度を７０度より大きくし、かつモノマーイオンを分離せずにガスクラスターイオンビームをレンズ機構によってフォーカスさせて照射する。 - 特許庁

To provide a sticking heat insulating material composition which makes it possible to prevent the conduction of heat at the thermal processing part of an article to another part thereof by sticking it to the surface of an article corresponding to the varied shape, is excellent in heat insulating properties and stickiness, can be easily removed after use, and scarcely causes discoloration and contamination on the surface of an article after removal.例文帳に追加

様々な物品の形状に合わせてその表面に貼着することにより、物品の熱加工部位の熱が他の部位に伝導することを遮断できるものであって、断熱性、貼着性に優れ、しかも使用後に容易に除去でき、除去後の物品表面の変色や汚染の少ない貼着型断熱剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a sterilizing detergent composition for a hard surface, of course excellent in cleansing power of oily soil and storing stability of the composition at low or high temperatures, also excellent in sterilizing property, and used suitably for cleaning the hard surface, especially the cleaning of the floor of a backyard of a supermarket, kitchen, restaurant, dining room, food processing factory, etc.例文帳に追加

油汚れの洗浄力と低温乃至高温時における組成物の貯蔵安定性に優れることはもとより、除菌性にも優れる、硬表面の洗浄、特に、スーパーマーケットのバックヤード、厨房、レストラン、食堂、食品加工工場等の床の洗浄に好適に用いられる硬表面用除菌洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

The flexible printed wiring board has a circuit formed by etching electrolytic copper film stuck on a polyimide resin film base material, also has the surface with the circuit thereon coated with a cover lay film, and has a contactness improvement processing layer on the circuit surface which comes into contact with the cover lay film.例文帳に追加

ポリイミド樹脂フィルム基材と張り合わせた電解銅箔をエッチングすることにより形成した回路を備え、当該回路の存在する表面をカバーレイフィルムで被覆したフレキシブルプリント配線板において、カバーレイフィルムと接触する回路表面に密着性改良処理層を備えることを特徴としたフレキシブルプリント配線板等を採用する。 - 特許庁

The skin covering sheet for the cosmetic impregnation is obtained by entangling and integrating a filament nonwoven fabric with staple fibers by applying a water flow entanglement processing on a laminated body prepared by laminating a fiber layer comprising the staple fibers on at least one surface of the filament nonwoven fabric with a stretching property at least in one direction so as to make at least one surface.例文帳に追加

少なくとも一方向に伸縮性を有する長繊維不織布の少なくとも一方の面に、ステープル繊維から成る繊維層が少なくとも一表面となるように積層された積層体に、水流交絡処理を施すことにより、長繊維不織布とステープル繊維が交絡し、一体化されて化粧料含浸用皮膚被覆シートを得る。 - 特許庁

A coil unit 20 provided with a detecting surface, a transmission block 32 for supplying a drive signal to a source coil, a reception block 32 for receiving the signal detected by the detecting surface and a controller 30 containing a control block 34 having a CPU for executing calculation processing of the endoscope shape, etc., are integrally constituted via a strut 40.例文帳に追加

検出面２１を設けたコイルユニット２０と、ソースコイルに駆動信号を供給する送信ブロック３２、検出面２１で検出した信号を受信する受信ブロック３３及び内視鏡形状の算出処理等を行うＣＰＵを備えた制御ブロック３４を内蔵した制御装置３０とは支柱４０を介して一体的に構成されている。 - 特許庁

After finishing printing, ink and wetting water adhering to the surface of the material P is cleaned by a cleaning device 10, thereafter, the printing area on the surface of the material P is removed by a chemical processing liquid supply roller 11 to return the material P to the initial state and to make it reusable.例文帳に追加

印刷終了後は、クリーニング装置１０により当該印刷用版材Ｐ表面に付着したインキ、湿し水をクリーニングした後、化学処理液供給ローラ１１により、印刷用版材Ｐ表面における前記画線部を除去することによって、印刷用版材Ｐを初期の状態に戻し、これを再利用可能とするものである。 - 特許庁

The frequency adjustment method for the surface acoustic wave apparatus including a piezoelectric substrate 1 and an insulation film formed on the piezoelectric substrate 1 to cover interdigital electrodes 2 formed on the piezoelectric substrate applies plasma processing to the insulation film 3 to modify the surface of the insulation film 3 thereby changing the frequency.例文帳に追加

圧電基板１と、圧電基板上に形成されたくし型電極２を覆うように圧電基板１上に形成された絶縁膜とを有する弾性表面波装置の周波数調整に際し、絶縁膜３をプラズマ処理し、該絶縁膜３の表面を変質させることにより、周波数を変化させる、弾性表面波装置の周波数調整方法。 - 特許庁

A second processing means 23A fetches the deviation A1 between the center of the photodetective surface 12 of the detector 2 and the projected aneurysm M' from a selective image photographed in an optional direction to obtain the coordinate ratio of an actual aneurysm M to the projected aneurysm M' on the photodetective surface 12 to calculate the dimension of the actual aneurysm M.例文帳に追加

また、第２の処理手段２３Ａは、任意の方向で撮影した選択画像から、検出器２の受光面１２中心と写し出された動脈瘤Ｍ’との間のずれＡ１を取り込み、実際の動脈瘤Ｍと受光面１２上で投影される動脈瘤Ｍ’との座標比を求めて、実際の動脈瘤Ｍの寸法を算出する。 - 特許庁

The substrate transfer robot used for receiving and delivering a substrate between processing units has a robot hand to which a substrate support A for supporting the substrate in contact with the back surface of the substrate is fixed, and a robot hand equipped with substrate flexure prevention means which includes a substrate support B for supporting the substrate in contact with the back surface of the substrate.例文帳に追加

処理装置間で基板の受け取り、受け渡しを行う基板搬送ロボットであって、基板の裏面に接して基板を支持する基板支持体Ａを固定して備えたロボットハンドと、基板の裏面に接して基板を支持する基板支持体Ｂを有する基板たわみ防止手段を備えたロボットハンドと、を有することを特徴とする基板搬送ロボット。 - 特許庁

The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the picture viewing side surface of a 1st component element, providing a light absorbing layer having finite width at the mutual boundary part of the aperture parts, and performing antireflection processing to the picture viewing side surface of a 2nd component element, and then coupling the 1st component element and the 2nd component element.例文帳に追加

スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

To provide a high pressure processor and a high pressure processing method which stably applies a cleaning process having a superior cleaning effect to the surface of a target object while a treating fluid of high pressure carbon dioxide or a mixture of carbon dioxide with chemicals are contacted to the surface of the work.例文帳に追加

高圧二酸化炭素あるいは高圧二酸化炭素と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して洗浄処理を施すに際して、優れた洗浄効果で、しかも安定して洗浄処理を行うことができる高圧処理装置および高圧処理方法を提供する。 - 特許庁

In the member for the semiconductor processing apparatus, super-fine solid particles mainly consisting of carbon and hydrogen are allowed to enter an undercoat layer in a surface of a base material having the undercoat layer composed of a plating film, a PVD film or the like, and a film consisting of the aggregate of the super-fine solid particles is formed to cover a surface of the undercoat layer.例文帳に追加

めっき皮膜やＰＶＤ皮膜等からなるアンダーコート層を有する基材の表面に、そのアンダーコート層中に炭素と水素を主成分とする超微小固体粒子を侵入させると共に、該アンダーコート層材表面にも、これらの超微小固体粒子の集合体からなる皮膜を被覆形成してなる半導体加工装置用部材である。 - 特許庁

The method and device for three-dimensional image processing derives the data which presents the normal direction of each part of the object's surface based on the image information obtained by photographing the object 10 that is projected by structure light from a projecting means 40 and estimates the surface attribute of the real object using the data which presents the normal direction.例文帳に追加

本発明の三次元画像処理方法および三次元画像処理装置では、投影手段４０からの構造光が投影された実物体１０を撮影して得られた画像情報に基づいて、実物体の表面各部の法線方向を示すデータを取得し、この法線方向を示すデータを用いて実物体の表面属性を推定する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 comprises a first process liquid supply unit 6 which supplies a first process liquid onto the surface of a substrate W having a metal layer formed of a transition metal, and a second process liquid supply unit 7 which supplies a second process liquid, containing molecules having the adsorption characteristics for a transition metal, onto the surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置１は、遷移金属により形成された金属層を有する基板Ｗの表面に第１の処理液を供給する第１の処理液供給装置６と、基板Ｗの表面に遷移金属に対して吸着特性を有する分子を含む第２の処理液を供給する第２の処理液供給装置７とを備える。 - 特許庁