「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(126ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing method capable of pre-cleaning the front surface of a low dielectric constant film and effecting further hydrogen termination without giving damage to the low dielectric constant film, without inviting the increase of a specific inductive capacity, and, further, without generating the spatter of a metallic film.例文帳に追加

低誘電率膜にダメージを与えることなく、また比誘電率の増大を招くことなく、さらに金属膜のスパッタを生じることなく、低誘電率膜表面をプレクリーンし、さらに水素終端できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Radius of at least 0.1mm carries out R chamfering processing of the corners of semiconductor manufacturing equipment structural, and sharpening process to at most surface roughness Ra 1.6 μm is performed, thereby restraining concentration of electric charge in corners and preventing generation of arcing.例文帳に追加

半導体製造装置用部材の角部を半径０．１ｍｍ以上のＲ面取り加工処理し、かつ表面粗さＲａ１．６μｍ以下に研磨加工処理することで、角部における電荷の集中を抑制し、アーキングの発生を防止する。 - 特許庁

To provide an electrifying device which has a means not only for removing toner left after transfer on the surface of an image carrier by electric attraction but also for electrifying the image carrier, and whose efficiency of removing the toner left after transfer is not lowered even when processing speed is increased.例文帳に追加

像担持体表面の転写残りトナーを電気的吸着により除去すると共に像担持体を帯電させる手段を有し、プロセススピードが上がっても転写残りトナーのクリーニング効率が低下しない帯電装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, in which the connecting terminal of a semiconductor chip and the connecting terminal of an electronic component accompanying the chip are easily and connected immediately to a conductor pad on the surface of a wiring board, without using Pb-containing solder without requiring much processing.例文帳に追加

半導体チップと該チップに付随する電子部品との接続端子を配線基板表面の導体パッドに、公害の元凶となるＰｂ入りのはんだを用いずに手数を掛けずに容易かつ迅速に接続できる半導体装置を得る。 - 特許庁

To provide a fine particle fixing device which can fix fine particles to a substrate in a liquid environment with a low load to the substrate, and can be applied to processing of patterning and film formation on the surface of various kinds of substrates, and the like.例文帳に追加

基材に対して負担の少ない液体環境下において微粒子を固定することができ、幅広い種類の基材の表面に対してパターニングや膜の形成を行う加工などにも適用することができる微粒子固定装置を提供する。 - 特許庁

When the read circuit 14 cannot read valid image information from any backside of originals, the image information on the surface side of the original is transmitted to a receiver through a one-side transmission processing and a warning message denoting it is outputted.例文帳に追加

読取回路１４により原稿のいずれの裏面からも有効な画情報を読取れなかった場合は、原稿の表面のみの画情報を片面伝送処理により受信機に送信するとともに、その旨の警告メッセージを出力する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotography photoreceptor, having such as surface as is minimally scraped and is not irregularly scraped even under such a hard processing condition of electrophotography as to impose a large abrasive force on the photoreceptor, when used in an electrograph apparatus.例文帳に追加

電子写真装置において感光体に対する摺擦力が大きくなるような過酷な電子写真プロセスの条件でも感光体ドラム表面の削れ量が少なく、かつ、むら削れの発生がない電子写真感光体の製造を可能にする。 - 特許庁

While applying a voltage between the silicon substrate 1 and a counter electrode 5 in the processing bath 2, the oxidizing solution 3, such as nitric acid, is made to react with the silicon substrate 1 so that a silicon dioxide film 15 is formed on the surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

処理槽２内に設置した、シリコン基板１と対向電極５との間で電圧を印加した状態で、シリコン基板１に硝酸等の酸化性溶液３を作用させて、前記シリコン１の表面に二酸化シリコン膜１５を形成する。 - 特許庁

To provide a correcting device of the circumference which does not cause a damage to a roller even when foreign matter ( a cut metal piece or the like ) is adhered to the surface of a metallic ring in the preceding stage ( solution heat treatment or the like ) of the corrective processing, and a decrease in yield is evaded.例文帳に追加

補正処理の前工程（溶体化処理等）で金属リングの表面に異物（切削金属片等）が付着していた場合でもローラに損傷を与えず、且つ、歩留まりの低下を回避できる周長補正装置を提供する。 - 特許庁

This pot for growing the tree made from a not yet dried raw wood material of the genus Pinus is constituted by resin-processing the cross section and side surface of the wood to seal off so as not to vaporize water to outside and so as to absorb water content discharged from the pine wood material to dry the wood, into cultivating soil.例文帳に追加

未乾燥生木の松属材を材料にして、木口、側面を樹脂加工することで水分が外部へ蒸散しないよう密封し、松材内から乾燥しようとして排出される水分を栽培用土に吸収させる。 - 特許庁

To prevent wrong detections of a boundary part of an oil adhering part as an edge in image processing due to excessive oil adhering to an inspected face, when a vehicle body panel is inspected in-line in a pressing process, for example, by means of a conventional surface-flaw inspecting device.例文帳に追加

従来の表面欠陥検査装置では、例えばプレス工程のインラインで車体パネルを検査しようとすると、被検査面に付着した過剰な油により、画像処理において油付着部分の境界部がエッジとして誤検出される。 - 特許庁

When the processing load of a control section is a predetermined value or more (S104:YES), a part of the avatar is arranged behind a background image such as the horizon and ground surface, and is drawn in an avatar direction region in the overlap state (S108).例文帳に追加

制御部の処理負荷が所定値以上である場合には（Ｓ１０４：ＹＥＳ）、アバターの一部が地平線や地面などの背景画像の後方に配置されて重なり合ってアバター演出領域中に描画されるようにする（Ｓ１０８）。 - 特許庁

The drip released from the fish block is dropped to the back side of the chopping block 20 through the holes 30, the lower surface of the fish block is prevented from being soaked in the drip liquid as much as possible during processing, and the taste of the fish or fish block is maintained.例文帳に追加

これにより、柵から出ているドリップは、穴３０を介してまな板２０の裏面に滴下されることで、調理中に柵の下面がドリップに浸かるということを可能な限り防ぐことができ、魚や柵のうま味を保持できる。 - 特許庁

The tool mounting shaft 60 has the surface processing work tool 70 arranged at a distal end part along an axial direction, is held by the guide shaft 20, and is easily removed from the guide shaft 20 to be replaced with another by operating a guide pin 50.例文帳に追加

ここで、工具取付軸６０は、軸方向に沿った先端部に表面加工作業工具７０が配置されるもので、案内軸２０に保持され、案内ピン５０を操作することで案内軸２０から容易に取り外して他のものと交換できる。 - 特許庁

A method of manufacturing a device includes repeating, inside a deposition device: an insulating film-forming step of forming an insulating film on a substrate where the functional film is formed so as to cover the functional film; and a plasma-processing step of exposing a surface of the formed insulating film to plasma.例文帳に追加

成膜装置内で、機能膜が形成された基板上に、上記機能膜を覆うように、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、形成した上記絶縁膜の表面をプラズマに曝すプラズマ処理工程とを繰り返すこと。 - 特許庁

The oxidized film-removing agent 11, because moisture is vaporized and a remaining flux component is activated by heat upon the subsequent thermal spraying formation, the oxidized film on the processing surface is dissolved and removed and the production of an additional oxidized film is suppressed.例文帳に追加

酸化皮膜除去剤１１は、その後の溶射皮膜形成時の熱によって、水分が気化するとともに残留するフラックス成分が活性化し、加工表面の酸化皮膜を溶解して除去し、かつ新たな酸化皮膜の生成を抑制する。 - 特許庁

Before development processing on a wafer W, pure water as a diffusion assisting liquid for easily spreading a developer over the surface of the wafer W is discharged from a pure water nozzle 40 to a center part of the wafer W to form a liquid reservoir.例文帳に追加

ウエハＷの現像処理を行う前に、前工程として現像液をウエハＷの表面に拡げやすくするための拡散補助液である純水を純水ノズル４０よりウエハＷの中央部に吐出して液溜りを形成する。 - 特許庁

To provide an image reader which can exhibit a diffusion effect and can surely reduce the unevenness of a light quantity without arranging a plurality of diffusion plates between an exit port of an optical fiber cable and the irradiation surface of a film and a photographic processing device having the same.例文帳に追加

光ファイバーケーブルの出射口とフィルム照射面との間に複数個の拡散板を配置することなく、拡散効果を発揮し得て、光量ムラを確実に低減し得る画像読取装置とこれを備えた写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a display apparatus, capable of repairing a pixel by irradiating a repair point of the pixel with a laser beam through a polarizing plate, even if the polarizing plate on which anti-glare processing is applied on a display surface side.例文帳に追加

表示面側にアンチグレア処理が施された偏光板を配置した場合でも、レーザ光を偏光板を透過させて画素の修理個所に照射することができ、画素の修理が可能となる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

While conveying a film-shaped base material a from a first winding roller 2_1 to a second winding roller 2_2 via a cooling drum 3, a pre-plasma process is performed by performing plasma processing on a surface of the film-shaped base material a by a plasma generation unit 6.例文帳に追加

第１巻出巻取ローラ２_１から冷却ドラム３を介して第２巻出巻取ローラ２_２にフィルム状基材ａを搬送しつつ、プラズマ発生ユニット６によりフィルム状基材ａの表面にプラズマ処理を施す前プラズマ工程を行う。 - 特許庁

In a processing method of granulated blast furnace slag intended for waste molten slag W, aluminum in the slag W is brought into contact with a fluid R capable of readily forming film to form a film so that hydrogen gas is hardly generated from the surface of aluminum.例文帳に追加

廃棄物溶融スラグＷを対象として処理する水砕スラグ処理方法において、スラグＷ中のアルミニウムに、皮膜形成自在な流体Ｒを接触させてアルミニウム表面から水素ガスが発生し難い皮膜を形成する。 - 特許庁

To provide a surface light-diffusing polyester film having excellent heat resistance, mechanical strength, thickness accuracy and the like, achieving both total light transmittance and light diffusivity, suppressing curling due to heat originating from a bimetal structure, and having excellent post-processing property.例文帳に追加

優れた耐熱性、機械的強度、厚み精度等を有し全光線透過率と光拡散性を両立し、バイメタル構造に由来する加熱カールの発生が抑制され、後加工性にも優れた表面光拡散性ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

Therefore, a measured signal is inputted to a differential amplifier 81 of a measurement processing part 2 from the surface electrodes Hp and Lp pasted on a human body B through the operation amplifiers 13a and 13b via measuring cables 11b and 11c.例文帳に追加

したがって、測定信号は、人体Ｂに貼り付けられた表面電極Ｈｐ，Ｌｐからオペアンプ１３ａ，１３ｂを通り、測定ケーブル１１ｂ，１１ｃを介して測定処理部２の差動増幅器８１に入力されるように構成されている。 - 特許庁

The production process of a silicon single crystal wafer comprises a first heat treatment process performing heat treatment on a silicon wafer obtained by processing a single crystal grown by Czochralski method, and a step for polishing the heat treated wafer surface until a device active layer becomes a predetermined thickness.例文帳に追加

チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハに熱処理を施す第１熱処理工程と、熱処理が施されたウェーハ表面を、所定厚さのデバイス活性層を残すように研磨する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of forming an optical waveguide with an optical path conversion function directly on a substrate by a simple process, the optical waveguide allowing fine processing and having high surface accuracy, and to provide the optical waveguide manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

微細な加工が可能で、面精度が高い、光路変換機能を有する光導波路を、簡略な工程で直接基板上に直接形成できる製造方法及び該製造方法により製造した光導波路を提供すること。 - 特許庁

The additional processing step is either a step wherein, after nickel plating, a surface onto which nickel is deposited is covered by plating having a higher covering power than that of nickel plating, a step wherein the nickel plating is passivated or a step wherein the nickel plating is replaced by another metal.例文帳に追加

すなわちその処理工程とは、ニッケルめっき後にニッケルめっきよりつきまわりの良いめっきを施しニッケルの析出面を覆う工程、ニッケルめっきを不動態化する工程、ニッケルめっきを他の金属で置換する工程である。 - 特許庁

To provide a method and apparatus of plasma surface treatment which can execute large area/equalizing processing by effectively solving a standing wave problem in application of VHF plasma and UHF plasma to a large area/equalization process.例文帳に追加

ＶＨＦプラズマ及びＵＨＦプラズマの大面積・均一化プロセスへの応用において、定在波問題を効果的に解決することにより、大面積・均一化処理が可能なプラズマ表面処理方法及び表面処理装置を提供すること。 - 特許庁

The chemical processing solution contains hydrofluoric acid and at least one inorganic acid selected from among hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid and/or a reattachment prevention agent to prevent the reattachment of the reaction products on the surface of the glass substrates.例文帳に追加

化学加工液は、フッ酸、並びに塩酸、硫酸、リン酸および硝酸から選ばれる１種以上の無機酸、及び／又は、ガラス基板表面に反応生成物が再付着することを防止する再付着防止剤を含有する液が使用される。 - 特許庁

Since the bonding regions are pressed and bonded with each other in the cleaned processing chamber, bonding of firm and high durability can be performed while preventing oxidation and degradation caused by pollution of the cleaned surface of the bonding regions.例文帳に追加

これにより、清浄化した同じ処理室内において接合部位どうしを圧接して接合するので、接合部位の清浄化された表面の酸化や汚染による劣化を防ぎつつ、強固で耐用性の高い接合を行うことができる。 - 特許庁

To provide a surface processing method of printed circuit board for forming a fine circuit pattern and enhancing adhesive force between a circuit pattern and printed circuit board resin, and provide printed circuit board resin processed by this method.例文帳に追加

微細な回路パターンを形成でき、かつ回路パターンと印刷回路基板樹脂との接着力を向上させることができる印刷回路基板樹脂の表面処理方法及びこの方法で処理した印刷回路基板樹脂を提供する。 - 特許庁

Then the entire surface including the interlayer insulating film 22D is subjected to metal oxidation processing and then subjected to ashing using oxidation reaction to remove the part (remaining film 22E) of the interlayer insulating film 22D corresponding to the predetermined region.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜２２Ｄを含む表面全体に対して金属酸化処理を行ったのち、酸化反応を利用したアッシングを行うことにより層間絶縁膜２２Ｄのうち上記所定の領域に対応する部分（残膜２２Ｅ）を除去する。 - 特許庁

To provide a rolling mechanical element capable of easily and effectively preventing surface damage of contact surfaces without using special material and applying processing such as special heat treatment even when the rolling mechanical element has poor lubrication.例文帳に追加

潤滑が希薄な転がり機械要素においても、特殊な材料の使用や、特殊な熱処理や表面処理等の加工を施すことなく、接触面の表面損傷を容易かつ効果的に防止できる転がり機械要素を提供すること。 - 特許庁

Thus, processing is performed by adding adjacent signals by every end surface of each screen separation as shown in (C) and when the added part of the adjacent signal is deleted after obtaining g of the shaded part of (B), the interpolated g having the continuity as shown in (D) is obtained.例文帳に追加

このため、（Ｃ）に示すように各画面分割の端面毎に隣接信号を付加して処理を行ない、（Ｂ）の斜線部のｇを得た後、隣接信号の付加部分を削除すれば、（Ｄ）に示すような連続性の有る補間されたｇが得られる。 - 特許庁

This starting member-supporting structure for an optical fiber production is characterized by that the pin-engaging hole provided at the fitting part of the above starting member is formed by heat-treating the surface of the hole part after forming the hole by the machine processing.例文帳に追加

前記出発部材の嵌合部に設けられたピン係止孔が、機械加工により孔を形成した後、孔部表面を加熱処理することによって形成したものであることを特徴とする光ファイバ製造用の出発部材支持構造。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a substrate to effectively remove surface coarseness generated around a circumferential part or the like of the substrate and a film adhering to the circumferential part or the like of the substrate and becoming a source of contaminant, in a manufacturing step of a semiconductor apparatus or the like.例文帳に追加

半導体装置の製造工程などにおいて、基板の周縁部等に発生する表面荒れや基板の周縁部等に付着し汚染源となる膜を効果的に除去することができる基板処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The wood processing method has a coating process for coating at least a part of the surface of the wood cut from material wood with predetermined coating and a compression process for compressing the wood coated in the coating process and the wood is processed into a predetermined three-dimensional shape.例文帳に追加

原木から形取った木材の表面の少なくとも一部を所定の塗料によって塗装する塗装工程と、前記塗装工程で塗装された木材を圧縮する圧縮工程と、を有し、木材を所定の３次元形状に加工する。 - 特許庁

In a X-ray generating equipment equipped with a rotating anode microfocus X-ray tube, processing is performed to the surface with which electron beams collide, while rotating the rotating anode in order to minimize the rotational wobbling of a target, after assembling a rotating anode of the X-ray tube.例文帳に追加

回転陽極型マイクロフォーカスX線管を備えたX線発生装置において、X線管の回転陽極を組み立てた後に、ターゲットの回転ぶれを小さくするために、回転陽極を回転させながら、電子ビームが衝突する面に加工を施す。 - 特許庁

The processing part 5 calculates a surface temperature of the thin metal film 71 based on the intensity of the reflected light 85 by a thermo-reflectance method, and receives separately an input about a film thickness of the thin metal film 71 from an input part 6 to calculate the thermal diffusivity of the thin metal film.例文帳に追加

処理部５は、サーモリフレクタンス法により反射光８５の強度から金属薄膜７１の表面温度を算出し、別途、入力部６から金属薄膜７１の膜厚の入力を受け、金属薄膜の熱拡散率を算出する。 - 特許庁

The backside of a digital image obtained by digitally inputting one side surface of an original of both sides printing is read, an image range having density equal to or greater than a certain regulated density G is determined, and the processing that eliminates an image visible from the other side is applied only to the image range.例文帳に追加

両面印刷の原稿の片面をデジタル入力して得られるデジタル画像の裏面を読み取り、ある規定の濃度Ｇ以上の画像範囲を判定し、該画像範囲に対してのみ裏写り除去処理を行うことを特徴としている。 - 特許庁

The coating is carried out by spraying the aggregate on a surface to be coated with the coating material at first and successively carrying out a second coating work with the coating material by mechanical processing to work with high quality uniform and free from fish eye, to save the futile use of the materials and to reduce the working period.例文帳に追加

１回目の塗料塗布面に骨材を散布し、続いて２回目の塗料を塗布する作業を機械施工する事により均一で斑の無い、施工品質の高い工事が出来る事と、材料の無駄を省き工事時間も短縮される。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of obtaining a high- quality image free from surface staining and character scattering by preventing the transfer of the fogging toner of a non-image part, and preventing a processing member such as an image forming body from being heated by heat generation at transfer and fixing parts.例文帳に追加

非画像部のかぶりトナーの転写を防止し、地汚れがなく、文字ちりのない高品質の画像を得ると共に、転写・定着部からの熱により像形成体等のプロセス部材の加熱を防止する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a protective diffusion film preventing burrs from being generated in single substance processing of the protective diffusion film and being excellent in punching compatibility and further in easiness for handling in single substance manipulation and to provide a method for manufacturing the same, surface light source device and a liquid crystal display device.例文帳に追加

保護拡散フィルムの枚葉加工時のバリ発生を抑えて、打ち抜き適性に優れ、且つ枚葉取り扱い時のハンドリング性に優れた、保護拡散フィルム及びその製造方法、面光源装置及び液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface mirror of a large size having no fine pinhole in diameter of 0.5 mm or less, the mirror that can be used for a rear projection television set using a light source with improved display luminance and image precision such as a DLP (digital light processing) system and a reflective liquid crystal panel.例文帳に追加

ＤＬＰや反射型液晶パネルなどの表示輝度や画像の精密さが向上した光源が用いられるリアプロジェクションテレビに使用可能な、直径０．５ｍｍ以下の微細なピンホールの無い大サイズの表面鏡提供する。 - 特許庁

Then, among the flat division surfaces, at least a partial flat division surface is formed as pollution restraining division surfaces 20 by performing pollution restraining processing on a concrete texture, and polished division surfaces 21 by polishing the concrete texture are included in residual flat division surfaces.例文帳に追加

平坦区画面のうちの少なくとも１部の平坦区画面がコンクリート地肌を汚損抑制処理した汚損抑制区画面２０に形成され、残りの平坦区画面の中には、コンクリート地肌を研摩加工した研摩区画面２１が含まれている。 - 特許庁

To prevent the failure at a printing-processing operation occurred in case that a recording medium is blocked at a designated conveying route at the time of reversing the recording medium due to the rear portion of the surface of the recording medium becoming the state of undulating caused by ink.例文帳に追加

記録媒体の表面の後端部分がインクにより波打つ状態になることによって、記録媒体を反転する際に所定の搬送経路において記録媒体が詰まることによる印字処理の失敗を防ぐことを目的とする。 - 特許庁