「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(129ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film for processing a rare-earth magnet, capable of controlling an imparting amount of fine particles and selectively imparting the fine particles to a specific portion of the surface of a magnet, and having utility for improving magnetic characteristics of the rare-earth magnet, and to provide a rare-earth magnet using the same.例文帳に追加

微粒子の付与量を制御でき、さらに磁石表面の特定部位に選択的に付与でき、希土類磁石の磁気特性改善の為に有用である希土類磁石処理用フィルムおよびそれを用いた希土類磁石を提供する。 - 特許庁

To provide a steel panel, which has a resin film capable of being dissolved and removed by an alkali solution formed on the surface thereof, generating no dragging in a resin film even if the temperature of a mold rises to 100°C or higher at the time of press processing and excellent in retension of shape.例文帳に追加

表面にアルカリ溶液で溶解除去可能な樹脂皮膜を形成しためっき鋼板で、プレス加工の際に金型温度が１００℃以上に上昇しても樹脂皮膜にカジリが発生せず，形状凍結性に優れたものを提供する。 - 特許庁

To provide a fabric for an elastic roll that has good dimension stability against heat generated in a repetitive pressure treatment process in molding an elastic roll, is capable of a calendering processing at an elevated temperature, and has a good repair property of a damage on a surface of the elastic roll.例文帳に追加

弾性ロール成型時の繰返し加圧処理工程で発生する熱に対する寸法安定性が良く、高温下でのカレンダー加工処理が可能であり、弾性ロール表面にできた傷の修復性が良好な弾性ロール用布帛を提供する。 - 特許庁

Upon the light projection by two second light projection parts 20a, 20b projecting parallel light from the direction Ra, the image processing apparatus 40 detects the width of the image of a dark part in the captured image as the width of the chamfered end surface.例文帳に追加

また，前記方向Ｒａから平行光を投光する２つの第２投光部２０ａ，２０ｂによる投光時には，画像処理装置４０は，撮像画像における暗部の像の幅を面取り加工された端面の幅として検出する。 - 特許庁

To provide a precision polishing composition for hard brittle material usable in a precision polishing processing of a hard brittle material, able to polish the surface of the hard brittle material to high precision and able to realize excellent polishing speed and polishing life.例文帳に追加

硬脆材料の精密研磨加工に用いられて、硬脆材料の表面を高精度に研磨せしめることが出来ると共に、優れた研磨速度と研磨寿命とを実現し得る硬脆材料用精密研磨組成物を提供すること。 - 特許庁

In the method of removing a silicon oxide film formed on the surface of a workpiece W to be processed is removed in a processing vessel 18 which can be evacuated, a mixed gas of HF gas and NH_3 gas is used to remove the silicon oxide film.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器１８内にて、被処理体Ｗの表面に形成されているシリコン酸化膜を除去するための除去方法において、ＨＦガスとＮＨ_３ ガスとの混合ガスを用いて前記シリコン酸化膜を除去する。 - 特許庁

In the regeneration processing method of flaked wafer as byproduct in an ion implantation flaking method, in which a joint wafer is obtained, the surface of the wafer is polished after an ion implantation layer of at least a chamfered part of the flaked wafer is removed.例文帳に追加

イオン注入剥離法によって結合ウエーハを製造する際に副生される剥離ウエーハを再生処理する方法において、前記剥離ウエーハの少なくとも面取り部のイオン注入層を除去した後、ウエーハ表面を研磨する。 - 特許庁

To provide an ink-jet recording device capable of realizing the same finishing as when laminating the surface of an image without executing lamination processing, and also, capable of adjusting the glossy feeling of an image corresponding to use purposes of the image and user's preference.例文帳に追加

ラミネート加工を行うことなく、画像表面をラミネートしたのと同様な仕上がりを実現するとともに、画像の使用目的やユーザの好み等に応じて、画像の光沢感の調整を行うことのできるインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁

To perform film deposition processing with high in-plane uniformity in an ALD in which a plurality of semiconductor wafers are arranged along the circumferential direction of a table in a vacuum chamber and two reactant gases are sequentially supplied to the surface of the substrates for film deposition.例文帳に追加

真空容器内にてテーブルの周方向に沿って複数の半導体ウェハを配置し、２種類の反応ガスを順番に基板の表面に供給して成膜するＡＬＤにおいて面内均一性高く成膜処理を行うこと。 - 特許庁

To provide a release polyester film causing no defects derived from film surface asperities such as pinholes on a green sheet involving the film and capable of preventing occurrence of defects on such a green sheet due to flaows or shaving which may occur in the green sheet's production or processing line.例文帳に追加

グリーンシートにフィルム表面突起由来のピンホール等の欠点を発生させず、かつ製造工程や加工工程で発生する傷や削れに起因するグリーンシートの欠点の発生を抑制することができる離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

A spindle 34 integrally connected to the driven pulley 74 is supported on a supporting part 32 free to rotate and a metal saw 36 having a plurality of blade parts 54 on an outer peripheral surface is provided on a holding part 48 of the spindle 34 on the groove processing part 24.例文帳に追加

前記溝加工部２４は、従動プーリ７４と一体的に連結されたスピンドル３４が支持部３２に回転自在に支持され、前記スピンドル３４の保持部４８には外周面に複数の刃部５４を有するメタルソー３６が設けられている。 - 特許庁

A precoated steel panel excellent in processing adhesion is constituted by providing a lower org. coating layer I and an upper org. coating layer II on at least the single surface of a steel panel and characterized by that the org. coating layer I contains 2-50 wt.% of a polytetrafluoroethylene resin.例文帳に追加

鋼板の少なくとも片面に、下層の有機被覆層Ｉと上層の有機被覆層IIを有し、有機被覆層Ｉがポリテトラフルオロエチレン樹脂：２〜５０重量％を含有することを特徴とする加工密着性に優れたプレコート鋼板。 - 特許庁

In the wafer thermometer, the upper surface of the wafer 1 is classified into a plurality of domains, and a plurality of temperature sensors 21, 22, etc., are arranged on each classified domain, and each output signal from the plurality of temperature sensors 21, 22, etc., is converted into temperature data and processed by a conversion processing circuit 4.例文帳に追加

ウェハ１の上面を複数の領域に区分し、区分された各領域に複数の温度センサ２１，２２…２ｎを配置し、複数の温度センサ２１，２２…２ｎの出力信号を変換処理回路４により温度データに変換して処理する。 - 特許庁

To provide illumination structure for a measuring instrument, capable of preventing light emitted from a light source from reaching directly to a dial, of unformizing a light modulation conditions visible from the surface of the dial, and of facilitating light modulation processing for the display part of the dial.例文帳に追加

光源から照射される直接光が文字板に到達することを防止して文字板の表面から視認できる調光具合を均一化でき、文字板の表示部の調光処理を容易にした計器装置の照明構造を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming a photosensitive film layer which adequately excels in sandblasting resistance at the time of sandblasting processing, particularly under the high pressure condition when forming a concavo-convex pattern on the surface of a base material using sandblasting.例文帳に追加

サンドブラスト法を用い基板表面に凹凸パターンを形成する際、特に高圧条件下でのサンドブラスト加工時に耐サンドブラスト性に十分優れた感光性フィルム層を形成することのできる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating processing device capable of recovering a coating liquid excessively supplied, for example, at the time of forming a coating film using the coating liquid such as a resist liquid on the surface of a glass substrate for liquid crystal display or a substrate such as a semiconductor wafer.例文帳に追加

例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板や半導体ウエハ等の基板の表面にレジスト液等の塗布液を用いて塗布膜を形成する際、余剰に供給された塗布液の回収を可能とする塗布処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing method capable of removing a titanium element remaining on the back of a substrate in a shorter time than the conventional time when removing a titanium-containing film from the back of the substrate on which the titanium-containing film was formed on the surface and back of the substrate.例文帳に追加

表面及び裏面にチタン含有膜が形成された基板の裏面からチタン含有膜を除去するときに、基板の裏面に残留するチタン元素を従来より短い時間で除去することができる液処理方法を提供する。 - 特許庁

In the case of polishing an object 14 to be polished with an abrasive cloth 13, a surface shape of the abrasive cloth 13 is measured after polishing or during polishing, and a condition of flattering processing of the abrasive cloth 13 is optimized by feeding back the measurement results.例文帳に追加

研磨布１３を用いて被研磨物１４の研磨を行う場合に、研磨後および／または研磨中に研磨布１３の表面形状を測定し、その測定結果をフィードバックして研磨布１３の平坦化処理条件を最適化する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording medium, which controls foggy irregularities that are caused by the adhesion of a polyolefin resin or caused by indentations when processing an inkjet recording medium including a polyolefin layer provided on each side of a base paper by a surface take-up device.例文帳に追加

原紙の両面にポリオレフィン層を設けたインクジェット記録媒体をサーフェイス巻取装置を用いて加工する時のポリオレフィン樹脂の付着によるクモリムラや押し跡によるクモリムラの発生が抑制されるインクジェット記録媒体を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to a kind of method of electron element heat conduction, and an insulating dielectric layer having high temperature resistance and high voltage resistance characteristics is formed by carrying out electrolytic oxidation processing on a surface of a highly conductive metal member having been processed, especially, by washing.例文帳に追加

本発明は一種の電子素子熱伝導の方法、特に洗浄処理を施した高伝導金属部材の表面を電解酸化加工処理により、耐高温及び耐高電圧特性を有する絶縁誘電体層を形成する。 - 特許庁

After a lower wire 6 including a lower barrier metal film 4a and a lower metallic film 5a embedded is formed in the low dielectric constant film 2 on a silicon substrate 1, the damaged layer 7 of a predetermined thickness is formed on the surface of the film 2 by plasma processing.例文帳に追加

シリコン基板１上の低誘電率膜２に下層バリアメタル膜４ａおよび下層金属膜５ａを埋め込んだ下層配線６を形成した後、プラズマ処理により低誘電率膜２の表面に所定厚さのダメージ層７を形成する。 - 特許庁

This method excavates multiple coniform holes 8 on the existing grass surface G1, sowing seed grass G2 or seed of a grass exhibiting stronger viability than the existing grass G1 as principally charged in the holes 8, compaction processing, topdressing with B and watering S.例文帳に追加

既存の芝Ｇ１面に、多数の円錘形の穴８をあけた後、既存の芝Ｇ１より生育力の強い芝の種芝Ｇ２または種子を、主として穴８に入るように播き、その後、転圧した後、目土Ｂを施し、かつ散水Ｓする。 - 特許庁

Out of surfaces opposed to a laminated surface of the piezoelectric curvature vibration member, a first electrode provided in a polarization processing part of surfaces opposed to a laminated surface of the piezoeletric expansion vibration member, a second electrode, provided in a polarization processing part of the piezoelectric expansion vibraton member, and a standard electrode standardised with the first and the second electrode are povided.例文帳に追加

また、前記圧電屈曲振動部材の積層面と対向する面のうち、前記圧電屈曲振動部材の分極処理する部分に設けられた第一の電極と、前記圧電伸縮振動部材の積層面と対向する面のうち、前記圧電伸縮振動部材の分極処理する部分に設けられた第二の電極と、前記圧電屈曲振動部材と前記圧電伸縮振動部材との積層面に設けられ、前記第一の電極と前記第二の電極との基準となる基準電極と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a photocatalyst element where a thin film of tungsten oxide is formed on a substrate includes a plating processing step that forms a thin film of tungsten on the surface of the substrate by a molten salt plating process, and an oxidization processing step that forms a thin film of tungsten oxide by oxidizing a thin film of tungsten.例文帳に追加

基板上にタングステン酸化物の薄膜が形成された光触媒素子の製造方法であって、溶融塩めっき法により、基板の表面にタングステンの薄膜を形成させるめっき処理工程と、タングステンの薄膜を酸化することにより、タングステン酸化物の薄膜を基板上に形成させる酸化処理工程とを有している光触媒素子の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device includes a step of forming an insulating film on a wafer whose surface is formed of a silicon carbide layer, and a nitriding processing step of nitriding an interface between the silicon carbide layer and an insulating film by heat-treating the wafer after insulating film formation at a predetermined processing temperature in a nitrogen oxide gas atmosphere to which carbon monoxide gas is added.例文帳に追加

本発明の炭化珪素半導体装置の製造方法は、表面が炭化珪素層から成るウエハ上に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜形成後のウエハを一酸化炭素ガスが添加された酸化窒素系ガス雰囲気中で所定の処理温度で熱処理することにより炭化珪素層と絶縁膜との界面を窒化する窒化処理工程と、を備える。 - 特許庁

First hydrophilic adjustment processing for including atoms for improving hydrophilicity on a hydrophilic film or second hydrophilic adjustment processing for improving hydrophilicity by deforming a shape of a surface before being covered with the hydrophilic film is applied to surfaces of base materials of the gas diffusion member and the separator so as to make a hydrophilicity of the separator higher than that of the gas diffusion member.例文帳に追加

ガス拡散部材とセパレータの基材表面には、セパレータの親水性の方がガス拡散部材の親水性よりも高くなるように、親水被膜に親水性を向上させるための原子を含有させる第１の親水性調整加工、または、親水被膜に被覆される前の面の形状を変形させて親水性を向上させる第２の親水性調整加工が施されている。 - 特許庁

For the plasma etching by a microwave, a semiconductor processing apparatus includes the quartz-made transmission window 105 of the porous structure, a microwave introduction window 108 to which a heating medium flow path is added, and a heating medium circulation device so as to greatly reduce the production of foreign matter of fine particle size sticking on nearby a surface of the substrate 102 to be processed by optimizing a plasma processing method for the substrate 102 to be processed.例文帳に追加

被処理基板１０２に対するプラズマ処理方法を最適化し被処理基板１０２の表面近傍部に付着する微小粒径異物の発生を大幅に低減するために、マイクロ波によるプラズマ処理に際し、多孔構造の石英製透過窓１０５、熱媒体流路を付設したマイクロ波導入窓１０８、および熱媒体循環装置により構成する。 - 特許庁

To provide a laser processing method that removes an adhesive in the vicinity of a terminal portion, prevents an oxide film from being generated at the terminal portion due to a laser radiation, and improves a wettability as well as a conductivity on a surface of the terminal in order to addresses a problem in an exposure processing using laser beam for the terminals in an IC chip circuit or an antenna circuit embedded in a card substrate.例文帳に追加

レーザー加工によるカード基材内に埋め込まれているＩＣチップ回路の端子やアンテナ回路の端子の露出加工において問題となっている、端子部最近傍の接着剤の除去や、レーザー照射時に発生する端子部での酸化膜の発生防止、及び接続端子表面のぬれ性及び導電性の改善につながるレーザー加工方法を提供すること。 - 特許庁

In the positioning jig for a processing tool, a mounting section 11 mounted at a machining tool side by mounting on a rotary shaft capable of holding a workpiece of a machining tool and performing driving rotation and free rotation is integrally formed on one end side of a column 10 of the positioning jig, and an abutment section 12 abutting with a reference surface of the processing tool to be positioned is integrally formed on the other end side.例文帳に追加

円柱状の本体１０の一端側に、工作機械の被加工材を把持する駆動回転及び自由回転可能な回転軸に装着されることによって工作機械側に装着され、自由回転可能に支持される装着部１１が一体に形成され、他端側に位置決めする加工工具の基準面と当接する当接部１２が一体に形成されている。 - 特許庁

A nuclear reactor monitoring device 10 is mounted on the surface of a nuclear reactor pressure vessel 1 and comprises: an element 11 that transmits ultrasonic waves into the nuclear reactor pressure vessel 1 and receives reflected waves; a magnetic fixing part 16 where the element 11 is pushed by magnetic force against the nuclear reactor pressure vessel 1; and a signal processing part 20 that performs an arithmetic processing based on signals transmitted and received by the element.例文帳に追加

原子炉監視装置１０は、原子炉圧力容器１の表面に装着され、この原子炉圧力容器１内に超音波を送信して反射波を受信する素子１１と、素子１１を原子炉圧力容器１に磁力で押し付ける磁気固定部１６と、前記素子が送受信した信号に基づいて演算処理を実行する信号処理部２０と、を備える。 - 特許庁

To provide a coating for an insulating film capable of forming the insulating film exhibiting adhesive strength of a conductor to the insulating film formed on the conductor surface, particularly excellent adhesiveness not only in a state before carrying out winding processing but also even after the winding processing and a varnish impregnating treatment, and to provide an insulated electric wire having the insulating film formed by using the coating.例文帳に追加

導体と導体表面に形成される絶縁被膜の密着強度、特に巻線加工が行われる前の状態だけでなく、巻線加工、ワニス含浸処理後も、優れた密着性を示すことができる絶縁被膜を形成できる絶縁被膜用塗料、および当該塗料を用いて形成される絶縁被膜を有する絶縁電線を提供する。 - 特許庁

In the cleaning sterilization method of a vacuum cooler 1, equipped with an electrolytic water making device 10 for generating alkaline water and acid water, the alkaline water, the acid water, hot water or water, is sprayed selectively to the internal wall surface of a processing tank 2 of the vacuum cooler 1, when no object to be cooled is housed in the processing tank 2.例文帳に追加

アルカリ性水と酸性水とを生成する電解水製造装置１０を備えた真空冷却装置１の洗浄殺菌方法であって、前記真空冷却装置１の処理槽２内が被冷却物の非収容時、前記アルカリ性水，前記酸性水および温水または水を前記処理槽２の内壁面に選択的に噴霧することを特徴としている。 - 特許庁

After performing crystal defect repair processing or crystal defect removal processing of the single crystal silicon layer, using stock gas at least containing silicon based gas, the stock gas is activated by plasma under the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure to cause single crystal silicon layer epitaxial growth and a second impurity silicon layer is formed on the epitaxial grown surface side.例文帳に追加

単結晶シリコン層の結晶欠陥修復処理又は結晶欠陥除去処理を行った後、シラン系ガスを少なくとも含む原料ガスを用い、大気圧或いは大気圧近傍下で生成したプラズマにより原料ガスを活性化させ、単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させ、該エピタキシャル成長させた表面側に第２不純物シリコン層を形成する。 - 特許庁

The substrate transfer device 1 is equipped with a mounting surface 11 where the glass substrates 5 are mounted, substrate transferring hot plates 10a to 10f for transferring the glass substrates 5 from a substrate processing device 2 to a substrate processing device 3, and heaters 12 for heating the glass substrates 5 which are transferred while being mounted on the mounting surfaces 11.例文帳に追加

基板搬送装置１は、ガラス基板５を載置するための載置面１１を有し、ガラス基板５を基板処理装置２から基板処理装置３まで搬送する基板搬送用ホットプレート１０ａから１０ｆと、基板搬送用ホットプレート１０ａから１０ｆに設けられ、載置面１１に載置されて搬送されているガラス基板５を加熱するための加熱ヒーター１２とを備える。 - 特許庁

The ultrasonic measuring device scans the surface of a specimen 15 with an ultrasonic probe 16, transmits ultrasonic waves U1 from the ultrasonic probe to the specimen, receives reflection echoes U2 returning from the specimen, and processes reception waveform data generated from the reflection echoes by an arithmetic processing means (waveform arithmetic processing program 37), so that the internal defects 51 of the specimen are inspected.例文帳に追加

超音波計測装置は、超音波探触子１６で被検体１５の表面を走査し、超音波探触子から被検体に向けて超音波Ｕ１を送出しかつ被検体から戻る反射エコーＵ２を受信し、反射エコーから生成される受信波形データを演算処理手段（波形演算処理プログラム３７）で処理し、被検体の内部欠陥５１を検査する。 - 特許庁

The developing method (substrate processing method) for developing a resist layer 101 disposed on a substrate 100 includes a solution layer formation step of supplying a developer onto the resist layer 101 and forming a solution layer 102 on the resist layer 101 using a surface tension of the developer, and a processing step of advancing development of the resist layer 101 by the solution layer 102.例文帳に追加

この現像方法（基板処理方法）は、基板１００上に配置されたレジスト層１０１を現像する現像方法であって、レジスト層１０１上に現像液を供給し、現像液の表面張力を利用してレジスト層１０１上に液層１０２を形成する液層形成工程と、液層１０２によるレジスト層１０１の現像を進行させる処理工程と、を備える。 - 特許庁

The charged particle beam device comprises a first element ion beam optical system device performing first FIB processing for forming a sample piece from a sample, a second element ion beam optical system device performing second FIB processing for removing a damage layer formed on the surface of a sample piece, and a first element detector which detects a first element existing in the damage layer.例文帳に追加

荷電粒子ビーム装置は、試料から試料片を形成する第１のＦＩＢ加工を行う第１の元素イオンビーム光学系装置と、試料片の表面に形成されたダメージ層を除去する第２のＦＩＢ加工を行う第２の元素イオンビーム光学系装置と、ダメージ層に存在する第１の元素を検出するための第１の元素検出器と、を有する。 - 特許庁

The optical disk having information recording area is provided with grooves or lands as servo information for tracking, a substrate 205 provided with the pits as format processing information for formatting the above information recording area, and a recording film 206 formed on the surface provided with the above servo information and the above format processing information in this substrate 205.例文帳に追加

情報記録領域を有する光ディスクであり、トラッキングのためのサーボ情報としてのグルーブ又はランドと、前記情報記録領域をフォーマットするためのフォーマット処理情報としてのピットとが設けられた基板２０５と、この基板２０５における、前記サーボ情報及び前記フォーマット処理情報が設けられた面に形成された記録膜２０６とを具備する。 - 特許庁

To provide an automatic wiring design method for executing wiring design processing for designing, on a virtual plane, a position of fan-out wire to be led from a bonding pad on a substrate surface of a semiconductor package without clearance error or wasteful wiring space by an arithmetic processor, and a computer program for making a computer execute the wiring design processing.例文帳に追加

半導体パッケージの基板面上においてボンディングパッドから引き出されるファンアウト配線の位置を基板面上に相当する仮想平面上においてクリアランスエラーや無駄な配線スペースが生じないよう設計する配線設計処理を、演算処理装置により実行する自動配線設計方法、およびこの配線設計処理コンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck that never varies in leak amount of cooling gas even when a large-sized body to be sucked is repeatedly attached and detached to maintain uniform controllability for a temperature distribution of a suction surface by the cooling gas, and then enhances uniformity, reproducibility, and yield of processing such as etching processing on the body to be sucked and so on.例文帳に追加

大形の被吸着物であっても、着脱の繰り返しによって、冷却ガスのリーク量が変化することはなく、吸着面の温度分布の冷却ガスによる制御性を均一に保つことができ、これにより、被吸着物に対するエッチング処理等の処理の均一性、再現性及び歩留まりの向上等を図ることができる静電チャックを提供する。 - 特許庁

The method of substrate treatment on an SOI substrate includes a step of processing the surface of the SOI substrate by a PACE method using plasma or a GCIB method using a gas cluster ion beam, and a step of annealing the SOI substrate subjected to the above processing by heat treating the SOI substrate in an argon atmosphere or in an inert gas atmosphere containing hydrogen of 4 vol% or less.例文帳に追加

少なくとも、ＳＯＩ基板の表面をプラズマを用いたＰＡＣＥ法、又は、ガスクラスターイオンビームを用いたＧＣＩＢ法によって処理する工程と、前記処理を施したＳＯＩ基板を、アルゴン雰囲気中、又は、水素を４体積％以下含む不活性ガス雰囲気中で熱処理してアニールする工程とを有する、ＳＯＩ基板の表面処理方法。 - 特許庁

To provide a method for modifying a surface of a fluororesin molding that has little hazard of processing and little environmental load, enables introducing an active site and forming a hydrophilic membrane in a same apparatus, does not cause a problem such as complexity of processing, can impart fully easy adhesive quality, and enables exerting the easy adhesive quality stably even with time.例文帳に追加

処理の危険性、環境負荷が小さく、活性点の導入、親水膜の形成を、同一装置で行うことができて、処理の煩雑性という問題が生じないとともに、充分な易接着性を付与することができ、かつ、この易接着性を経時的にも安定して発揮させることのできる、フッ素樹脂系成形物の表面改質方法を提供することである。 - 特許庁

A controller 14 controls the driving of the green laser 22 and CCD camera 24 of the measuring sensor 12 through a dedicated cable 18 and also calculates the distance to an object and its surface shape, etc., by performing arithmetic processing by triangulation based upon sensor information obtained as a result, or arithmetic processing for converting two-dimensional coordinate data into three-dimensional coordinate data.例文帳に追加

コントローラ部１４は、専用ケーブル１８を介して測定センサ部１２のグリーンレーザ２２とＣＣＤカメラ２４とを駆動制御すると共に、その結果得られたセンサ情報に基づいて三角測量による演算処理、あるいは２次元座標データを３次元座標データへ変換する演算処理を行って、対象物までの距離や表面形状などを算出する。 - 特許庁

The substrate processing method comprises steps of forming a prescribed pattern by etching a film to be etched formed on a substrate; denaturing a substance remained after ending etching processing so as to be soluble in a prescribed liquid; subsequently silylating a surface of the film to be etched on which a pattern is formed; and thereafter dissolving and removing the substance denatured by supplying the prescribed liquid.例文帳に追加

基板上に形成された被エッチング膜をエッチング処理して所定パターンを形成する工程と、エッチング処理を終了した後に残存する物質を所定の液に対して可溶化するように変性させる工程と、次いで、パターンが形成された被エッチング膜の表面をシリル化処理する工程と、その後、所定の液を供給して変性された物質を溶解除去する工程とを有する。 - 特許庁

Cutting processing is performed by arranging a workpiece in a vacuum chamber and irradiating the top surface of the workpiece with a laser beam from a laser source through a window set up in the vacuum chamber, in a state where pressure in the vacuum chamber is decompressed below to pressure at a triple point of the material constituting the workpiece when performing cutting processing of this workpiece.例文帳に追加

真空チャンバ内に被加工物を配置して、レーザ光源より前記真空チャンバに設けられた窓を通じて前記被加工物の上面にレーザ光を照射し、該被加工物の切断加工を行う際に、前記真空チャンバ内の圧力を前記被加工物を構成する材料の三重点における圧力以下に減圧した状態で切断加工を行う。 - 特許庁