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processing surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7705件
A correction function is previously stored in a correction processing unit 29 that is based on a relationship between a chamber temperature acquired by heat-treating a substrate 17 to be heat-treated which is placed on a hot plate 1 within a chamber 5, and a surface temperature of the substrate 17 to be heat-treated.例文帳に追加
補正処理部29には、予め、チャンバー5内のホットプレート1に載置した被熱処理基板17を加熱処理して得られたチャンバー温度と被熱処理基板17の表面温度との関係に基づく補正関数を格納しておく。 - 特許庁
To provide a looper device capable of simplifying constitution as much as possible and capable of achieving compactification of the device and lowering costs in the looper device placed in the process line of the surface- processing unit such as the pickling machine in the cold rolling equipment.例文帳に追加
冷間圧延設備における酸洗装置等の表面処理装置のプロセスラインに配置されたル−パ装置において、構成をできる限り簡素化し、装置のコンパクト化とコスト低減を図る様にしたものを提供することを課題とする。 - 特許庁
By the execution of the processing by the display correction means 131A, the image in which the partial region is caused to be non-display is projected from the projector 10, and a projection image in which a partial region is caused to be non-display is display on the projection surface WB.例文帳に追加
表示補正手段131Aにより処理が実行されることで、プロジェクタ10から一部の領域が非表示とされた画像が投射され、被投射面WBに一部の領域が非表示とされた投射画像が表示される。 - 特許庁
This sheet heater has a lath sheet heating element composed by forming a mesh-like lath mesh by lath-processing a heat-treated metal foil material, and by flattening it so as to be formed into a flat lath surface having a thickness nearly equivalent to that of the metal foil material.例文帳に追加
熱処理した金属箔材料をラス加工して網目状のラス目を形成し、さらに前記金属箔材料と略同一厚みの扁平なラス面となるようにフラット加工したラス面状発熱体を有する面状ヒータとした。 - 特許庁
According to the plasma processing apparatus, a process gas is taken in from a suction port 28 formed in an electrode 20, so that the adherence of the reaction product from the reaction between a radical and a substrate 16 to the surface of the substrate 16 can be suppressed.例文帳に追加
このプラズマプロセス装置によれば、電極20に形成された吸引口28から、プロセスガスを吸い込むので、ラジカルと基板16の表面との反応で生成した反応生成物が基板16の表面に付着することを抑制できる。 - 特許庁
The method further comprises the steps of calculating the height of the object from the relationship between the slit light reflected image of each image and the slit light reflected reference image formed on the reference surface to be measured, and processing the three-dimensional image to recognize the height side of the object.例文帳に追加
各画像におけるスリット光反射像とスリット光が測定基準面上につくるスリット光反射基準像との関係から物体の高さが算出され、物体の高さ寸法を認識する3次元画像処理が行なわれる。 - 特許庁
The mold 1 for manufacturing the fly-eye lens sheet is equipped with a main body 2 having a cylindrical outer peripheral surface and the ceramics layer 4 provided to the outer periphery of the main body 2 and having a large number of lens forming recessed parts 6 subjected to laser processing.例文帳に追加
本発明のフライアイレンズシート製造用型1は、円筒状の外周面を有する本体2と、該本体の外周に設けられ、レーザ加工された多数のレンズ形成用凹部6を有するセラミックス層4と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁
In a single piezoelectric ceramic material, only a part corresponding to a peripheral part of the ultrasonic radiation surface RP is subjected to polarization processing, to thereby form the dummy element block 131C and the piezoelectric element block 131S, integrally in the element plate 131.例文帳に追加
単一の圧電セラミック性素材において、超音波放射面RPの周辺部に対応する部分のみに分極処理を施すことにより、ダミー素子ブロック131Cと圧電素子ブロック131Sとが素子板131内に一体形成されている。 - 特許庁
This semiconductor board includes an underlayer wire 13 on a base film 11, and a position detecting channels 15 indicating a reference position of the processing pattern as well as a contact hole 14 is pattern-formed on an interlayer insulation film 12 formed on the upper surface.例文帳に追加
この半導体基板は、下地膜11上に下層配線13を有し、その上面に形成された層間絶縁膜12には、コンタクトホール14とともにその加工パターンの基準位置を示す位置検出溝15がパターン形成されている。 - 特許庁
To provide a disk having a smooth surface for producing powder which allows efficient production of impalpable powder for applications such as solder powder, precision metal powder injection molding (MIM) parts, powder for thermal spraying, and shot powder for micro processing.例文帳に追加
はんだ粉末や精密金属粉末射出成型(MIM)部品、溶射用粉末、微細加工用ショット粉等の用途向け微粉末を効率よく製造することを可能とした表面平滑化してなる粉末作製用ディスクを提供する。 - 特許庁
The adhesive film for processing a semiconductor wafer in which a bump electrode is formed to protrude from a main surface contains a separation layer and an adhesive layer on a base material tape in this order.例文帳に追加
本発明の半導体ウェハ加工用接着フィルムは、突出電極が主面から突出して形成された半導体ウェハの加工用接着フィルムであって、基材テープ上に分離層及び接着剤層をこの順に有してなることを特徴とする。 - 特許庁
First and second extension electrodes 91 and 92 which are connected with the first and second electrodes 41 and 42 at the piezoelectric element side at least during the polarization processing of the piezoelectric element 4 are formed at a circumferential fringe on the surface of the substrate 2.例文帳に追加
そして、基板2の表面の周端縁には、少なくとも圧電素子4の分極処理の際に第1および第2圧電素子側電極41,42と接続されている第1および第2延設電極91,92が形成されている。 - 特許庁
To reduce a growth lag time at the time of forming a boron containing amorphous silicon film on a substrate even when a natural oxide film is formed on the surface of a silicon substrate for film formation to improve productivity of substrate processing.例文帳に追加
成膜対象のシリコン基板の表面上に自然酸化膜が形成されている場合であっても、基板上にホウ素含有アモルファスシリコン膜を形成する際の成長遅れ時間を短縮させ、基板処理の生産性を向上させる。 - 特許庁
To perform residue processing simply and securely after forming a penetration part in an insulating protective film on a lower layer metal film, and to form an upper layer metal film securely by maintaining the exposed surface of the lower layer metal film in good condition.例文帳に追加
下層金属膜上の絶縁性保護膜に貫通部を形成した後の残渣処理を簡単かつ確実に行い、下層金属膜の露出面を良好な状態に維持することによって上層金属膜の形成を確実に行うこと。 - 特許庁
To provide a method for continuously orientating nematic liquid crystal without using an orientation film which is necessary for the conventional nematic liquid crystal orientation technology, without performing preprocessing such as surface processing of a base material and without changing the physical property of liquid crystal.例文帳に追加
従来のネマチック液晶の配向技術で必要であった配向膜の使用、基材の表面処理という事前処理を施すことなくかつ液晶の物性を変化させることなく持続的に配向する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The bonding film 433 consists of a specific conductive material which exhibits adhesiveness when being subjected to predetermined processing, and the conductor posts 33 and 43 are bonded by the adhesiveness appeared on the surface.例文帳に追加
この接合膜433は、導電性を有し、かつ、所定の処理を施すことにより接着性を発現する特定の材料で構成されており、その表面に発現した接着性によって、これら導体ポスト33、43同士を接合している。 - 特許庁
To provide a rewrite recording medium processing apparatus erasing displaying information of a rewrite recording medium which can repeatedly print/erase the displaying information by reversibly changing the color in accordance with temperature in a short time with no frost sticking to the medium surface.例文帳に追加
温度に応じて可逆的に変色して表示情報の印刷・消去の繰返しが可能なリライト記録媒体の表示情報を、媒体表面に霜が付着することなく短時間で消去可能なリライト記録媒体処理装置を提供する - 特許庁
To provide a substrate processing technique which accurately measures temperatures of an overall substrate in vacuum, and can attain temperature distribution management required to give a uniform temperature distribution on the entire surface of a substrate, and temperature control of the substrate based on the measurement result.例文帳に追加
真空中で基板全体の温度を正確に測定しその測定結果に基づいて、基板全面で均一な温度分布を与えるための温度分布の管理と、基板の温度制御と、が可能な基板処理技術を提供すること。 - 特許庁
The knurling (rouletting) processing is provided for imparting the unevenness on the surface of the metal tubular member.例文帳に追加
これらの処理により、金属製の管状部材の外側に成形されたポリオレフィン系樹脂と金属製の管状部材表面にローレット加工による凹凸で、互いに噛み合い接合しあい温度変化等による熱変形や、外力に対して耐性、耐力が強くなる。 - 特許庁
In the ceramic nozzle having an inflow port, an outflow port and the fine hole provided in the vicinity of the outflow port and ejecting a fluid, the fine hole has a surface subjected to thermal melting treatment by processing the fine hole by YAG laser.例文帳に追加
流入口、流出口と該流出口近辺に細孔を有し、流体を噴出させるためのセラミック製ノズルにおいて、細孔をYAGレーザにより加工することにより、少なくとも上記細孔が熱によって溶融処理された表面とする。 - 特許庁
To provide a metal roll and rubber rolls for an embossment apparatus for a thermoplastic resin film which can stably perform embossing processing with the surface temperature of the rolls kept within a predetermined constant range by sufficient heat exchange with a heating medium.例文帳に追加
熱媒体との熱交換を十分に行なって、表面の温度が予め定めた一定の範囲に止まっており、かくして、安定して、エンボス加工することができる熱可塑性樹脂フィルムのエンボス装置用金属ロールとゴムロールを提供する。 - 特許庁
A processing electrode device which is placed on an electrode 2 to process a texture in a vacuum atmosphere comprises an electrode integrating a magnet configured so that the magnetic line can be at least 45° relative to the surface of a silicon spherical body 14.例文帳に追加
電極2上に載置して真空雰囲気内でテクスチャーを加工される加工電極装置は、シリコン球状体14の表面に対して、磁力線が少なくとも45°の角度になるように構成した磁石組み込み電極を有する。 - 特許庁
A third conductive layer having an extension part extending along a first principal surface of the first conductive layer on the side opposite to the second semiconductor layer and containing at least one of aluminum, argentine and rhodium is formed by processing the highly-reflective conductive film.例文帳に追加
高反射導電膜を加工して、第1導電層の第2半導体層とは反対の側の第1主面に沿って延在する延在部を有し、アルミニウム、銀及びロジウムの少なくともいずれかを含む第3導電層を形成する。 - 特許庁
The through electrode circuit substrate has a through electrode 9 formed by inserting a metal conductor 8 into a through-hole 2, wherein the through-hole 2 has an electroless copper-plated film 6 formed on the inner wall surface subjected to smoothing processing by etching.例文帳に追加
貫通孔2内に金属導体8を充填してなる貫通電極9を有する貫通電極回路基板であって、前記貫通孔2は、エッチングにより平滑処理された内壁面に無電解銅めっき膜6が形成されている。 - 特許庁
To provide a dynamic pressure gas bearing device at low cost which has high reliability and high accuracy and which dispenses with a surface finishing processing after formation of an electroless nickel plated coating, and provide a manufacturing method of the dynamic pressure gas bearing device.例文帳に追加
信頼性が高く、高精度な動圧気体軸受装置を低コストで提供するとともに、無電解ニッケルめっき皮膜形成後の表面仕上げ加工を不要にした動圧気体軸受装置及びその製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁
The method supplies cover gas generated by mixing the molten metal processing agent containing fluorinated ketone and inert gas with other inert gas and by diluting the mixture, the cover gas not containing carbon dioxide gas, so that the cover gas contacts a surface of the molten metal.例文帳に追加
フルオロケトン(fluorinated ketone)及び不活性ガスを含む溶融金属処理剤を他の不活性ガスにより混合及び希釈させることで生成され、かつ炭酸ガスを含まないカバーガスを、溶融金属の表面と接触するように供給する。 - 特許庁
In the adhesive sheet for semiconductor processing having an adhesive layer (2) on at least one surface of a base film (1), the base film contains polyethylene having a density of 0.915 g/cm^3 or lower.例文帳に追加
基材フィルム(1)の少なくとも片面に粘着剤層(2)を有する半導体加工用粘着シートにおいて、前記基材フィルムが、密度0.915g/cm^3 以下の低密度ポリエチレンを含有してなることを特徴とする半導体加工用粘着シート。 - 特許庁
The method for drying the substrate after cleaning comprises at least the steps of processing the substrate by a warmed pure water, then lowering the temperature of the surface of the substrate, and drying it after that.例文帳に追加
洗浄後の基板の乾燥方法であって、少なくとも、基板を加温した純水で処理する工程を行った後に、該基板の表面温度を下げる工程を行い、その後乾燥工程を行うことを特徴とする基板の乾燥方法。 - 特許庁
Even if the lens is shifted from the position meeting the center projecting condition, it is converted to the center projected image by image processing, and the lens position is made remote from another focusing position of the hyperboloid mirror 1 to be focused on the whole surface.例文帳に追加
レンズが中心射影条件を満足する位置からずれても画像処理により中心射影像に変換可能であり、レンズ位置を双曲面ミラー の他方の焦点位置から遠ざけて、全面にピントを合わせることが可能となる。 - 特許庁
In the optical device dehydrating method, an optical element is introduced into a processing chamber and irradiated with ultraviolet rays having wavelength of 180 nm or below, in an atmosphere of gas having a moisture content of 3 ppm or below to remove moisture and hydroxyl groups attached on the surface of the optical device.例文帳に追加
処理室に収められた光学素子に、水分濃度3ppm以下の雰囲気ガス中で、波長180nm以下の紫外線を照射し、光学素子表面の水分・水酸基を除去することを特徴とする光学素子の脱水方法 - 特許庁
To a method for producing a plate using a thick lathe veneer in which a base material can not be seen even when groove processing is applied on the surface and which is stable in quality and can obtain lengthy and wide products.例文帳に追加
厚剥きのレース単板材を利用し、表面に溝加工を施しても基材が見えるようなことがなく、しかも、品質が安定し、長尺ならびに幅広製品を得ることができるレース単板材を利用した板材の製造方法を提供する。 - 特許庁
A substantially cylindrical bearing sleeve 1 is formed using a porous material containing 2-15 wt.% graphite to the total weight, and then a dynamic pressure groove 1v is formed in the inner surface 1a of the bearing sleeve 1 by ball rolling (plastic processing).例文帳に追加
総重量に対して2〜15wt%の黒鉛を含有する多孔質材料を用いて、略円筒状の軸受スリーブ1を形成した後、ボール転造(塑性加工)によって、この軸受スリーブ1の内周面1aに動圧溝1vを形成する。 - 特許庁
The digital processing circuit 32 selects the first peak appearing in a light-receiving signal when the mode setting signal MD shows the normal mode, and selects the second peak appearing in the light-receiving signal when the mode setting signal MD shows the surface reflection mode.例文帳に追加
デジタル処理回路32は、モード設定信号MDがノーマルモードを示すときに受光信号に現れる1番目のピークを選択し、モード設定信号MDが表面反射モードを示すときに受光信号に現れる2番目のピークを選択する。 - 特許庁
To provide a wafer processing tape which will not oversoften, in heat treatment which uses a thermosetting-type surface protective film, can be used in an expansion step for splitting an adhesive layer, and has uniform and isotropic expansion property.例文帳に追加
熱硬化タイプの表面保護テープを使用する場合の加熱処理において過剰軟化せず、しかも、接着剤層を分断するエキスパンド工程において使用可能な均一且つ等方的な拡張性を有するウエハ加工用テープを提供すること。 - 特許庁
To provide an adhesive composition which is preferably used as an adhesive for wood processing such as sliced veneer facing process, etc., does not ooze out to the surface, exerts a sufficient initial adhesion strength, has a high workability and is easily prepared.例文帳に追加
いわゆる突板化粧加工等の木質加工用接着剤として好適に使用でき、その際に表面に滲み出すことが無く、十分な初期接着力を示し、作業性に優れ、製造が容易である接着剤組成物の提供。 - 特許庁
A semiconductor wafer-retaining protective hot-melt sheet is a sheet for retaining and protecting semiconductor wafers which is heated and applied to the surface of a semiconductor wafer in processing semiconductor wafers and has at least a hot-melt layer 1 having a melting point of not higher than 105°C.例文帳に追加
半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシートは、半導体ウエハ加工時において、半導体ウエハ表面に加熱して貼り付けて半導体ウエハを保持保護するためのシートであって、融点105℃以下のホットメルト層Aを少なくとも有している。 - 特許庁
To provide a laser processing method which makes it possible to cut an object to be processed having a substrate and a plurality of functional elements formed on the surface of the substrate, even when the substrate is thick, accurately in a short time along a cutting schedule line.例文帳に追加
基板と、基板の表面に形成された複数の機能素子とを備える加工対象物を、その基板が厚い場合であっても、切断予定ラインに沿って短時間で精度良く切断することを可能にするレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁
To miniaturize a head part and a grip part and to improve the followup ability to the surface of a processing object of the head part in a motor-driven instrument (hair cutter) in which the head part with a trimmer blade for performing reciprocating linear movement is swingable to the grip part.例文帳に追加
往復直線運動を行うトリマー刃を備えたヘッド部がグリップ部に対して揺動可能な電動器具(毛刈り機)において、ヘッド部及びグリップ部の小型化及びヘッド部の処理対象物の表面への追従性を向上させる。 - 特許庁
To provide the cutting depth adjusting instrument for a slide type circular saw capable of adjusting a cutting depth rapidly, easily and precisely to perform the cutting processing of a set depth of a material to be processed while smoothly sliding the material to be processed regardless of the plate surface shape thereof.例文帳に追加
切込み深さを迅速に且つ容易に精度良く調整でき、しかも被加工材の板面形状に係らず円滑にスライドさせながら設定深さの切込み加工を行えるスライド式丸鋸の切込み深さ調整器具を提供する。 - 特許庁
The structural component for the speaker device is applied to, for example, a diaphragm, frame, voice coil bobbin, center cap or dust cap of the speaker device, and has a configuration in which a titanium oxide film is formed by titanium oxide coating processing on the surface of a magnesium-based material used as a base material.例文帳に追加
スピーカー装置用構成部材は、例えばスピーカー装置の振動板、フレーム、ボイスコイルボビン、センターキャップ又はダストキャップなどに適用され、基材であるマグネシウム系素材の表面に、酸化チタンコーティング処理により酸化チタン膜が形成されている。 - 特許庁
To fit a braid exposed at the terminal part of a shielded cable to the surface of an envelope in processing the terminal of the shielded cable, by reversing the exposed braid completely with a machine so as to be rolled up on the envelope and form a constant curl at a folded part.例文帳に追加
シールド電線の端末加工において、端末部に露出させた編組を機械で確実に反転させて外皮上にまくり上げ、折り返し部にきっちりとした曲げぐせをつけて外皮の表面に添わせられるようにすることである。 - 特許庁
In the case of processing the stacked medium 41 and the stacked medium 42 at one time, first the stacked medium 41 having a smaller width is set between the first side wall 44 as the reference surface of the hopper head 27 and the upward lifted medium pressing guide 43.例文帳に追加
重積媒体41と重積媒体42を一度に処理する場合は、まず幅の小さな重積媒体41をホッパベッド27の基準面である第1の側壁44と上方向に持ち上げられている媒体押えガイド43の間にセットする。 - 特許庁
Although the partition wall 15 has a plurality of openings 31, the total area of the openings 31 is sufficiently small compared to the whole surface area of the partition wall 15, so that the inner pressure of the piping chamber 12 can be kept high than in the processing chamber 11.例文帳に追加
隔壁15には開口31,31‥が形成されているが、隔壁15全体の表面積に対しては開口31,31‥全体のの面積は充分に小さいので、処理室11より配管室12の内圧を高く保つことができる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a process for forming a silicon oxide film that can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed; and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加
低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成工程を有する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide an electron beam irradiation device and irradiation method, capable of radiating an electron beam over an entire number of matters to be irradiated and uniformly to the surface of each matter to be irradiated, without increasing facility cost, processing man-hours or the time.例文帳に追加
設備費や処理工数及び時間を増大させることなく、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表面にまんべんなく電子線を照射することができる電子線照射装置及び照射方法を提供する。 - 特許庁
To provide a developing device, a processing cartridge and an image forming device realizing a developer surface capable of coping with both of a requirement for improving stirring ability and a requirement for improving toner concentration detecting accuracy with a simple constitution and having excellent quality.例文帳に追加
簡易な構成で、攪拌性向上の要求とトナー濃度検知精度向上の要求のいずれにも対応することのできる剤面を実現した品質性に優れた現像装置およびプロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a blower housing of a hydrogen recycle device in which a fluid separation point on an external surface is retreated to an rear end portion of the housing body in a fuel processing system (FPS) and a cooling effect is increased and a uniform temperature difference can be obtained.例文帳に追加
水素供給モジュール(FPS)において、外部表面の流動剥離点をハウジング体の後端部に後退させ、冷却効果を増大させ、均一な温度偏差を得ることができる水素再循環装置のブロワーハウジングを提供する。 - 特許庁
Thus, even an extremely slight error caused by not only center dislocation of the rotary drum 16 and a rotary encoder 250 but also eccentricity in assembling the rotary drum 16 itself and processing irregularities of a peripheral surface of the rotary drum 16 can be coped with.例文帳に追加
このため、回転ドラム16とロータリーエンコーダ250との間の芯ずれはもちろん、回転ドラム16自体の組み付け時の偏心や、回転ドラム16の周面の処理むらに起因する極めてわずかな誤差に対しても対応可能となる。 - 特許庁
A heat transfer system 118, which is capable of producing a high degree of processing uniformity across the surface of a substrate 110, comprises a uniformity pedestal 112 supported on and in good thermal contact with a heat transfer member 114.例文帳に追加
熱伝達システム118は、基板110の表面にわたる高度な処理の均一性を生成することができ、熱伝達部材114の上に支持され、熱伝達部材114と良好に熱接触する均一性ペデスタル112を備える。 - 特許庁
The paper sheet handling apparatus includes: an image detection unit 112 configured to detect an image on the surface of a paper sheet 101 as an inspection target; and a detected information processing unit configured to process detected information from the image detection unit and determine a defacement degree of the paper sheet.例文帳に追加
紙葉類判別装置は、検査対象となる紙葉類101の表面の画像を検出する画像検知部112と、画像検知部からの検知情報を処理し、紙葉類の汚損度を判別する検知情報処理部と、を備えている。 - 特許庁
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