「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(131ページ目) - Weblio英語例文検索

When printing on both sides, a color image forming apparatus 100 independently sets a printing magnification and a processing speed and the rotating speed of a polygon mirror 34, which match the printing magnification, according to whether printing is carried out on the surface or the back.例文帳に追加

カラー画像形成装置１００は、両面印刷の際に、表面印刷を行う場合と、裏面印刷を行う場合とで、印刷倍率の設定と当該各印刷倍率に伴うプロセス速度及びポリゴンミラー３４の回転速度の設定とを各々独立して行う。 - 特許庁

To provide an inspecting device for a shape defect, etc., which can detect a defect of a printed board surface as to many items and a defect on the mounted board such as component absence, polarity inversion, a wrong article name, and fitting abnormality more speedily and automatically through optical processing.例文帳に追加

多項目のプリント基板表面の欠陥、また、実装基板上での部品欠落、極性反転、品名相違、取付異状、などの欠陥を、光学的処理により迅速、かつ、自動的に検出することができる形状欠陥等の検査装置を提供する。 - 特許庁

The method for processing the semiconductor wafer is characterized by including the step of bonding a support wafer with a double-faced adhesive sheet on the surface of the semiconductor wafer having a pattern formed thereon, and the step of thinning the back of the semiconductor wafer while the support wafer is fixed.例文帳に追加

パターンが形成された半導体ウエハ表面に、両面粘着シートで支持ウエハを貼付ける工程と、前記支持ウエハを固定した状態の半導体ウエハの裏面に薄型加工を施す工程とを含むことを特徴とする半導体ウエハの加工方法。 - 特許庁

Here, when the acquired reflectivity is less than the threshold, that means that the reflectivity of a display surface of the display medium 200 greatly decreases, for example, since the display medium 200 is left as it is in a high-temperature environment, so the control unit 110 proceeds to processing for photo-reset.例文帳に追加

ここで、取得した反射率が閾値以下であれば、表示媒体２００が高温環境に放置されているなどの理由でその表示面の反射率が大きく低下しているということを意味するので、制御部１１０は、フォトリセットの処理に進む。 - 特許庁

A distance by which crystal dislocation of an outer edge portion of the active layer 105 generated in selective oxidation processing for forming the oxide-confinement layer 107 is propagated to a center part of the active layer is made long to improve the long-period reliability of the surface emitting laser element.例文帳に追加

酸化狭窄層１０７を形成する選択酸化処理に際して発生する活性層１０５の外縁部の結晶転位が、活性層の中央部に伝搬する距離を長くすることで、面発光レーザ素子の長期信頼性を向上する - 特許庁

Thus, even when a deformation is generated in the dielectric material window 3 upon plasma processing, the surface of the window to be contacted with an antenna 4 can be made flat, an adhesive force between the dielectric material window 3 and the antenna 4 can be increased, and abnormal electric discharge can be prevented.例文帳に追加

そのため、プラズマ処理時に、誘電体窓３の撓みが発生した場合であっても、アンテナ４に接する面は平坦とすることができ、誘電体窓３とアンテナ４の密着性を向上させることができ、異常放電を防止することができる。 - 特許庁

To provide a polyphenylene sulfide(PPS) fiber having good fiber surface state and having stable tensile strength and elongation and knot strength and elongation in slight dispersion and excellent in step-through property in a processing step and a method for efficiently producing the PPS fiber.例文帳に追加

良好な繊維表面状態を有すると共に、バラツキが少ない安定した引張強度・伸度および結節強度・伸度を有し、加工工程での工程通過性が優れたＰＰＳ繊維およびこのＰＰＳ繊維を効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, post processing liquid (SB) containing the hardening initiator and the UV monomer is applied to the whole surface of the medium 16 to be recorded with a coating roller 12SB, and the image formed on the medium 16 to be recorded is hardened by irradiation with the UV light from a principal hardening light source 27B.例文帳に追加

その後、硬化開始剤とＵＶモノマーを含有する後処理液（ＳＢ）を塗布ローラ１２ＳＢで被記録媒体１６の全面に塗布し、本硬化光源２７ＢからＵＶ光を照射して被記録媒体１６に形成された画像を硬化させる。 - 特許庁

After the first resist pattern 201 is removed and the surface of the conductive film 13 is subjected to corrosive processing, with the conductive film 13 used as a mask, the structure film 11 part on the sacrificial layer 9 is etched according to the shape of the movable part to expose part of the sacrificial layer 9.例文帳に追加

第１レジストパターン２０１を除去すると共に導電膜１３の表面の腐食処理を行った後、導電膜１３をマスクにして犠牲層９上の構造体膜１１部分を可動部形状にエッチングし、犠牲層９の一部を露出させる。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor, capable of always maintaining a process at a fixed etching rate and accurately processing with low micro loading effects, high selectivity, high reproducibility and a method for treating the surface of a substrate to be treated, by using the apparatus for manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

常に一定のエッチングレートでプロセスを維持することができ、低マイクロローディング効果、高選択性、高再現性、高精度加工を可能とする半導体製造装置および該半導体製造装置を用いた被処理基板表面の処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a thermal processor that can be used at a high temperature by electromagnetic induction heating a tube consisting of glassy carbon and having an anti-oxidation coating layer on an outer surface, and is capable of controlling a temperature at a high speed and improving a throughput in a processing work.例文帳に追加

ガラス状炭素からなり、外表面に耐酸化皮膜層を有する管体を電磁誘導加熱することにより、高温での使用を可能とし、温度制御を高速で行い処理作業のスループットを向上させることができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet of a polyester resin which shows good moldability during performing a complicated heat-molding processing and is free from the deterioration of an appearance due to the transfer of a press pattern in a moldable temperature region, with regard to the decorative sheet to be stuck to the surface of furniture, electrical appliances.例文帳に追加

家具や電製品などの表面に貼着する化粧シートに関し、複雑な熱成形加工を行う際の成形性が良好で、かつ成形可能温度域でプレス型の転写による外観低下のないポリエステル樹脂製化粧シートを提供せんとする。 - 特許庁

The process liquid supply means comprises a nozzle 30 for supplying the processing liquid almost uniformly in the one-side direction of the substrate 20, and the moving means moves the nozzle 30 on the principal surface of the substrate 20 orthogonal to the one-side direction.例文帳に追加

上記処理液供給手段は、基板２０の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル３０からなり、上記移動手段は、ノズル３０を前記一辺方向と直交する基板２０主表面上を移動させる手段である。 - 特許庁

When printing visible information on the label surface of an optical disk, a control unit uses a predetermined address among a plurality of addresses as a constant velocity rotation address and performs disk constant velocity rotation processing to continuously reproduce a constant velocity rotation address by an optical pickup.例文帳に追加

光ディスクのレーベル面に印刷を行う際に、制御部が、複数のアドレスのうち所定のアドレスを等速回転アドレスとすると共にその等速回転アドレスを光ピックアップにより連続して再生させるディスク等速回転処理を行うようにした。 - 特許庁

To provide a wafer holding ring and a method of manufacturing the same in which deterioration in mechanical strength with the fine polishing damages at the processing surface and breakdown due to thermal stress can be prevented, and also to provide a heat treatment method for semiconductor wafer provided with the same wafer holding ring.例文帳に追加

被加工面の微細な研磨傷などによる機械的強度の低下や熱応力による破損を防止したウェハ保持リング及びその製造方法、およびこのウェハ保持リングを備えた半導体ウェハの加熱処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a liquid body discharging method and a device therefor by which working efficiency is improved by completely realizing energy saving in surface processing work for objects to be discharged whose external shape and discharge range are different, and a manufacture method for an optical member.例文帳に追加

外形状や吐出範囲の異なる被吐出物に対して、表面処理作業の省エネルギー化を十分に図り、作業効率を向上できる液状体の吐出方法およびその吐出装置、ならびに光学部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When a crack reaching the surface processing indentation 11a and the internal crack 12c is formed in a process for dicing the silicon substrate 10 into element chips 10a by an external force, detection of a separated/unseparated part and redicing of a unseparated part are performed for the element chip.例文帳に追加

外力によってシリコン基板１０を素子チップに分割する割断工程で、表面加工痕１１ａと内部亀裂１２ｃとに至る亀裂を形成する際に、素子チップ１０ａについての分離／未分離部分の検出、未分離部分の再割断を行う。 - 特許庁

In a plasma processing chamber 152 of a reactor 150, plasma exposed surfaces of a plasma confinement ring (not shown), chamber wall 172, a chamber liner (not shown) and/or showerhead 154 can be provided with a plasma sprayed coating 160 with surface roughness characteristics that promote polymer adhesion.例文帳に追加

反応器１５０のプラズマ処理チャンバ１５２において、プラズマ閉じ込めリング（不図示）、チャンバ壁１７２、チャンバライナ（不図示）及び／又はシャワーヘッド１５４のプラズマ露出面は、ポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つプラズマ溶射された被膜１６０を備え得る。 - 特許庁

This ball is equipped with accelerometers (18) capable of detecting a displacement force on the ball as a result of a strike exerted on the ball, pressure sensors (19) capable of detecting a pressure force exerted on the surface of the ball, and a processing module (16).例文帳に追加

このボールは、前記ボールに加えられた打撃の結果としてのボール上の変位力を検出することができる加速度計（１８）と、ボールの表面に加えられた圧力による力を検出することができる圧力センサ（１９）と、処理モジュール（１６）とを備える。 - 特許庁

This method includes the steps of: forming a magnetic layer 12 made of a cobalt containing maghemite thin film on a substrate 11; executing corona discharge processing for the surface of the magnetic layer 12; and forming a lubricant layer 13 by coating a lubricant on the magnetic layer 12.例文帳に追加

基体１１上にコバルト含有マグヘマイト薄膜からなる磁性層１２を形成する工程と、該磁性層１２表面にコロナ放電処理を行う工程と、前記磁性層１２上に潤滑剤を塗布して潤滑剤層１３を形成する工程とを備える。 - 特許庁

To improve the stability of a processing solution for imparting physical developing nuclei and a method for surface-treating an aluminum support, to enhance the adhesiveness of image silver and to provide a silver salt offset printing plate precursor ensuring few image defects and excellent in printing resistance of thin lines and in development latitude.例文帳に追加

物理現像核を付与する処理液の安定性とアルミニウム支持体の表面処理方法を改良して、画像銀の接着性を向上させ、画像故障の少ない、細線の耐刷性と現像ラチチュードに優れた銀塩オフセット印刷原版を提供する。 - 特許庁

Thereby, as the surface of the orientation film 15 draws gently-sloping inclination at the parts where the spacers present, the uniform orientation treatment of the whole parts including the parts where the spacers are present can be carried out in a process for performing orientation processing to the orientation film 15.例文帳に追加

これにより、配向膜１５の表面がスペーサ２１が存在する箇所においてなだらかな傾斜を描くので、配向膜１５に配向処理を行う工程において、スペーサ２１が存在する部分を含めて全体に均一に配向処理を行うことができる。 - 特許庁

The processing apparatus using a rotating drum is provided with a transmission mechanism on a peripheral wall surface around the rotary axis of the rotating drum so as to transmit the driving power of a motor to the transmission mechanism to rotate the rotating drum in the treatment liquid tank.例文帳に追加

本発明では、上記した課題を解決するため、回転ドラムを用いた処理装置で、回転ドラムの回転軸周りの周壁面上に伝達機構を設け、該伝達機構にモータの駆動力を伝達して、回転ドラムを処理液槽内で回転させることとした。 - 特許庁

The controller 90 adjusts the angles of inclination of the squeegees SQ1 and SQ2 with respect to the upper surface of the metal mask MK, the moving speeds of the squeegees SQ1 and SQ2 and the pressing forces of the squeegees SQ1 and SQ2 to the metal mask MK by program processing.例文帳に追加

この評価に基づいて、コントローラ９０は、プログラム処理により、メタルマスクＭＫの上面に対するスキージＳＱ１，ＳＱ２の傾斜角、スキージＳＱ１，ＳＱ２の移動速度、メタルマスクＭＫに対するスキージＳＱ１、ＳＱ２の押し付け力などを調整する。 - 特許庁

The tire performance analysis system numerically analyzing the performance of a pneumatic tire having a tread portion, comprises a center processing device (CPU) 10, a main memory device 11, a tire model memory device 12, a road surface model memory device 13, an input device 14, and an output device 15.例文帳に追加

トレッド部を有する空気入りタイヤの性能を数値解析するタイヤ性能解析システムであって、中央処理装置（ＣＰＵ）１０、主記憶装置１１、タイヤモデル記憶装置１２、路面モデル記憶装置１３、入力装置１４、及び出力装置１５を備える。 - 特許庁

A time data presentation formed on a PET sheet surface of the prepreg 3 having been laminated is read right before the machining, the formation position of the through-hole is corrected based on the information thereof, and hole processing by a laser is carried out according to the corrected formation position data.例文帳に追加

このとき加工する直前にラミネート済みプリプレグ３のＰＥＴシート表面に形成した時刻データ表示を読み取り、その情報によって貫通穴の形成位置を補正し、補正した形成位置データに応じてレーザーによる穴加工を行う。 - 特許庁

The composite material 10 suitable for the plastic processing with heat has a coating layer 14 of a heat-resistant resin of which the melting point or the thermal decomposition temperature is 150°C or above, on at least one surface of a magnesium alloy sheet 12, or preferably on both surfaces thereof.例文帳に追加

マグネシウム合金板１２の少なくとも片側表面、好ましくは両面に、融点或いは熱分解温度が１５０℃以上の耐熱性樹脂からなる被覆層１４を有することを特徴とする加熱塑性加工に適する複合材料１０である。 - 特許庁

In the thin plate processing vessel 1 which is used when a plurality of Si wafers are processed, a recessed part is formed in a main body of a rectangular parallelopiped, accommodation trenches 2 for accommodating the Si wafers in the recessed part are formed, and divider structures 3 are formed on a wall surface between the trenches 2.例文帳に追加

複数のＳｉウェハーを処理する際に使用される薄板処理容器１であって、直方体の本体に凹部を形成し、この凹部にＳｉウェハーを収納する収納溝２を形成し、収納溝２の間の壁面に、仕切り構造物３を形成する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and image processing method, wherein it has a small influence on an image even if both preliminary discharge onto a paper surface and electronic watermark embedding are simultaneously executed, to thereby have a small influence on an image quality.例文帳に追加

紙面予備吐と、電子透かしの埋め込みとをともに実行しても、画像への影響を少なくすることができ、したがって、画像品質への影響を少なくすることができる画像形成装置及び画像処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of judging the state of a road surface continuously day and night without the need for installing a new facility on a road by capturing a video image obtained from a visual camera and applying an image processing to a bit map image acquired from the video image and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

可視カメラから得られる映像を取り込み、この映像より取得したビットマップ画像を画像処理することにより、道路上に新たな設備を追加することなく、昼夜間連続で路面の状態を判断する方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a tile easily divisible in the desired size without particularly requiring a cutting tool, by facilitating processing of the tile stuck to a tail end part such as a corner part and the window member periphery, when advancing tile laying construction by adhering the tile to a construction object surface.例文帳に追加

タイルを被施工面に接着してタイル張り施工を進める際、コーナー部や窓部材周辺等の終端部に貼り付けるタイルの加工を容易にし、切断のための工具を特に必要とせず、容易に所望の大きさに分割可能なタイルを提供する。 - 特許庁

The ferromagnetic layer of which at least the surface is in an amorphous state is formed, and then the barrier layer of a magnesium oxide having a single crystalline structure wherein (001) planes are aligned in parallel with the interface throughout layers is formed by sputtering, and furthermore annealing processing is performed.例文帳に追加

少なくとも表面がアモルファス状態である強磁性層を成膜した後、スパッタリング法を用いて、全層にわたって（００１）面が界面に平行に配向した単結晶構造の酸化マグネシウムのバリア層を成膜し、更にアニーリング処理を行う。 - 特許庁

Next, the printing density is restored to the normal density in order to print image data other than the image data related to the watermark in the second printing (ST5), and the image data is superposed and printed on the watermark printing surface of the recording paper (ST6), then printing processing is finished.例文帳に追加

次いで、第２回目の印字でウォーターマークに係る画像データ以外の画像データを印字するために印字濃度を通常濃度に戻し（ＳＴ５）、その画像データを記録紙のウォーターマーク印字面上に重ねて印字し（ＳＴ６）、当該印字処理を終了する。 - 特許庁

To provide a vacuum treating apparatus for diffusing reaction gas across the whole surface of a substrate to be treated with uniform distribution by easily and quickly adjusting and controlling the feeding of reaction gas at the changing of the dimensions or processing condition of the substrate to be treated.例文帳に追加

被処理基板の寸法や処理条件などの変更に際しても反応ガスの供給を容易、且つ迅速に調節制御して、被処理基板の表面全体にわたり反応ガスを均等な分布で分散させることのできる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The road surface μ estimating part 100 of the central processing device (CPU) 21 of the control device 20 sets a right side steering evaluation function ratio αr and a left side steering evaluation function ratio αl based on a steer angle θ, a vehicle speed V, steer torque Th, and a motor current Im.例文帳に追加

制御装置２０の中央処理装置（ＣＰＵ）２１の路面μ推定部１００は、操舵角θ、車速Ｖ、操舵トルクＴｈ、モータ電流Ｉｍに基づいて右操舵評価関数比αｒ、左操舵評価関数比αｌを設定する。 - 特許庁

Because the load applied to the offset tool T can be suppressed; compared with a forming tool which cuts the wide region of the groove Da in the work D at one time, it is possible to enhance the durability of the offset tool T and improve the processing accuracy of the processed surface.例文帳に追加

ワークＤの溝Ｄａの広い領域を一度に切削する総形工具に比べてオフセット工具Ｔが受ける荷重を低く抑えることができるので、オフセット工具Ｔの耐久性を高めるとともに加工面の仕上げ精度を高めることができる。 - 特許庁

The display controller switches display conditions for the plurality of kinds of parallax images according to a switch-over of viewpoint position around the objects displayed on the display surface and controls the image processing system so as to display the plurality of kinds of parallax images in a superimposed manner.例文帳に追加

表示制御部は、前記表示面上に表示された前記対象物の周囲における視点位置の切り替えに応じて、前記複数種類の視差画像群の表示条件を切り替え、該複数種類の視差画像群を重畳表示するように制御する。 - 特許庁

The antenna freeder circuit is provided with a Si group substrate 1, high frequency semiconductor integrated circuits 2, 3 and a digital integrated circuit 4 that are formed integrally inside or on the surface of the Si group substrate 1, a system processing integrated circuit 11 and a dielectric multi-layer board 24.例文帳に追加

アンテナ給電回路はＳｉ系基板１と、Ｓｉ系基板１内部あるいは表面に一体に形成された高周波半導体集積回路２，３およびデジタル集積回路４と、システム化集積回路１１と、誘電体多層基板２４とを備えている。 - 特許庁

When performing sheet sorting loading processing, a second offset position for collating the sheet S by a side surface of the lowered stamp 400 and a first offset position for collating the sheet S by the slide guide 301, are allocated to the job sheet of an even number and the job sheet of an odd number.例文帳に追加

シート仕分け積載処理を行う場合には、下降させたスタンプ４００の側面でシートＳを整合する第２のオフセット位置と、スライドガイド３０１でシートＳを整合する第１のオフセット位置とを偶数番のジョブシートと奇数番のジョブシートとに割り当てている。 - 特許庁

A model data generation part 32 generates model data by executing a model data generation processing correspondingly to the shape data or surface color data of a measured object which are supplied from a measurement control part 31 and outputs the generated model data to a model data optimizing program part 33.例文帳に追加

モデルデータ生成部３２は、測定制御部３１から供給される、測定された測定物体の形状データや表面色データとを対応させて、モデルデータ生成処理を施し、モデルデータを生成して、モデルデータ最適化プログラム部３３に出力する。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition apparatus and a vapor phase deposition method, capable of uniformizing the surface temperature of a substrate as compared with the conventional art when performing a film formation treatment by using the vapor phase deposition method for the substrate as a processing object to be held by a holding member.例文帳に追加

保持部材に保持される処理対象物としての基板に対して気相成長法を用いて成膜処理を行なうときに、基板の表面温度を従来よりも均一化することが可能な気相成長装置および気相成長方法を提供する。 - 特許庁

A conveyance guide member 21 is positioned at a first position by making positioning protrusions 37 protrusively provided to both ends of the conveyance guide member 21 run onto the upper end of an inclined surface 39a of a supporting member 39 in a state where a fixing jam processing cover 35 is closed.例文帳に追加

定着ジャム処理カバー３５を閉じた状態では、搬送ガイド部材２１の両端に突設された位置決め用突起３７が支持部材３９の傾斜面３９ａの上端部に乗り上げることで、搬送ガイド部材２１が第１の位置に位置決めされている。 - 特許庁

To provide a silicon wafer for metal contamination evaluation which can improve the reliability of the measured result of the outer peripheral part of a monitor wafer in evaluation of metal impurity contaminants by photo conductivity decay (PCD), surface photo-voltage (SPV) or the like for contamination management in semiconductor processing.例文帳に追加

半導体プロセス中の汚染管理のためのＰＣＤ、ＳＰＶ等による金属不純物汚染の評価における、モニターウエーハ外周部の測定結果の信頼性向上を実現することができる金属汚染評価用シリコンウエーハを提供する。 - 特許庁

While the substrate W is transferred by the shuttle transfer mechanism 7, the substrate W being transferred is irradiated with the ultraviolet rays to carry out processing wherein organic matter sticking on the substrate W is decomposed and removed and an oxide film is formed on a surface of the substrate W.例文帳に追加

シャトル搬送機構７によって基板Ｗを搬送するのと同時に、搬送中の基板Ｗに紫外線を照射することによって、基板Ｗに付着している有機物を分解・除去したり、基板Ｗ表面に酸化膜を形成する処理を行う。 - 特許庁

The chips deposited on the top face 5a of the spindle head 5 during work processing are dropped from the inclined surface 5b while being swept away backward by coolant jetted from the nozzle 23, so that chips drop from ahead of the spindle head 5 for no adhesion to the tool.例文帳に追加

ワークの加工時に主軸頭５の上面５ａに堆積した切粉はノズル２３から噴射されたクーラントにより後方に押し流されながら傾斜面５ｂから落とされるので、主軸頭５の前方から切粉が落ちて工具等に付着することが無い。 - 特許庁