「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(134ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a boring processing method for enhancing a bored hole shape and dimensional accuracy, causing no burr on the peripheral edge of a bored hole, and boring the hole superior in quality when boring the hole on a side surface of a flexible tube.例文帳に追加

可撓性チューブの側面に穿孔する時、穿設された孔の形状および寸法の精度を高めることが可能であり、且つ穿設された孔の周縁にバリを生じさせることがない品質に優れた孔を穿設することが可能な穿孔加工方法を提供する。 - 特許庁

Energy light irradiation for obtaining a polycrystalline silicon film is conducted twice, and the first irradiation is made in a vacuum having no oxide film removal processing of a semiconductor film surface, or is made in the atmosphere or in the ambience in which any gas is filled up to the exclusion of vacuum.例文帳に追加

多結晶シリコン膜を得るためのエネルギー光照射を２回とし、その１回目は半導体膜表面の酸化膜除去処理なしで真空中にて行う、または大気中あるいは何らかのガスを充填した真空を除く雰囲気にて行う。 - 特許庁

An arbitrary design pattern is copied on the surface side of a fabric 1 by a copying machine 2 using a toner, a transparent transfer foil 7 is piled on a fabric 1A after copy processing and the foil is transferred by a hot-stamping method by using the toner of copied design pattern as a binder.例文帳に追加

布帛１の表面側に、トナーを使用する複写機２で任意の意匠模様を複写し、この複写加工後の布帛１Ａに透明転写箔７を重ね合わせ、複写意匠模様のトナーをバインダーとして、ホットスタンピング法により箔を転写する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of preventing a process liquid from flowing around the surface of a substrate to be processed and of easily maintaining the product quality of the substrate, and to provide a highly reliable semiconductor substrate, a semiconductor component, and a semiconductor device.例文帳に追加

処理液の基板の非処理面への回り込みを防止することができ、基板の製造品質維持を容易にすることができる基板処置装置を提供すること、信頼性の高い半導体基板、半導体部品および半導体装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a shaped structure which can develop antireflection effect and functions such as hydrophilicity, antifogging properties and self-cleaning properties only by processing of a base material surface without applying or laying a functional film or using a heating means such as a heater, and which has excellent durability.例文帳に追加

機能膜の塗布や積層、又はヒータなどの加熱手段に頼ることなく、基材表面の加工だけで、反射防止効果や、親水性、防曇性、セルフクリーニング性などの機能を発現することができ、なお且つ、耐久性に優れた成形構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably producing a vinyl chloride based resin for paste processing excellent in prevention of adhesion of a sieve screen and suppression of crushing of powder and quality when coarse particles in resin powder are removed by using a net surface-fixing type air sieve.例文帳に追加

網面固定式風力篩を用いて樹脂粉体中の粗大粒子を除去する際に、篩スクリーンの付着防止に優れ、粉体の破砕抑制、品質にも優れたペースト加工用塩化ビニル系樹脂を安定的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an approval system which electronically performs approval processing of a document which has been made by sealing the document on a paper surface, secures reliability in the aspect of security, reduces the burden to maintenance and management and is superior in convenience.例文帳に追加

紙面の文書への捺印により行われていた文書の承認処理を電子的に実行することが可能であり、セキュリティ面での信頼性を確保することが可能で、保守管理に係る負担が軽く、さらに利便性に富む承認システムを提供する。 - 特許庁

As a result, because this skin layer 2 is elastically superior compared to a hard coat treatment (coating), scattering of fragments of the lens 1 when the lens 1 breaks is positively prevented by the skin layer 2 of the TPU made by a dope treatment processing formed on the surface of the lens 1.例文帳に追加

この結果、レンズ１の表面に形成されたドープ処理加工によるＴＰＵのスキン層２により、そのスキン層２がハードコート処理（塗装）と比較して弾性に優れているので、レンズ１破損時にレンズ１の破片が飛散するのを確実に防止することができる。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by successively applying printing 3 due to ordinary ink and printing 4 due to foamed ink to a cover 1 and applying paper embossing processing to the printed cover and laminating middle paper 2 and/or backing paper 6 to the cover through an adhesive 5 and forming a surface treatment layer on the middle paper 2 and/or the backing paper 6.例文帳に追加

表紙１に通常インクによる印刷３が施され、発泡インクにより印刷４が施され、ペーパーエンボス加工が施され、中紙２および／または裏打紙６が接着剤剤５を介してラミネートされ、表面処理層７が形成されてなる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for artificial marble press molding preventing leakage of a resin material, discharging air in a mold, flattening and smoothing the surface of artificial marble after curing, causing no cavity, and saving the material and re-processing cost.例文帳に追加

樹脂材料の漏れを防止すると同時に、金型内の空気を排出し、硬化後の人工大理石の表面を平坦平滑にし、空洞が発生せず、さらに材料及び再加工費を節約する人工大理石プレス成形の方法及び装置を提供。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for which cleaning works can be stably performed by a cleaning means following the fluctuation even when the surface potential of the image carrier fluctuates, in a series of image forming processing.例文帳に追加

本発明は、一連の画像形成処理において像担持体の表面電位が変動した場合でもその変動に追従して清掃手段によるクリーニング作用を安定して行うことができる画像形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide an application film forming method for applying liquid raw material (vanish) which is obtained by dissolving a desired a material or the precursor in solvent to a substrate, processing the liquid film, volatilizing and removing solvent included in the film and obtaining the film whose surface is flat.例文帳に追加

所望の物質又はその前駆体を溶媒もしくは溶剤に溶解させてなる液状原料（ワニス）を基板に塗布し、この液状膜を処理してその中に含まれている溶剤を揮発除去して表面が平坦な膜を得る塗布膜形成方法。 - 特許庁

At that time, the processing section 30 calculates a distance from an intersection of the optical axis of the imaging lens and an imaging surface to a light receiving element, a focal length of the imaging lens, and an optical path length difference from a moving distance of the first reflected section 16, and corrects spectrum according to the optical path length difference.例文帳に追加

このとき、処理部３０は結像レンズの光軸と結像面の交点から受光素子までの距離、結像レンズの焦点距離、第１反射部１６の移動量から光路長差を算出し、光路長差に応じてスペクトルを補正する。 - 特許庁

The masking member 10 is a masking member for protecting a non-processed part from a hard particle such that a recessed part is formed by a predetermined pattern when the hard particle is injected to a surface of a cylindrical work to form the recessed part, that is, in the case of blast processing.例文帳に追加

本発明のマスキング部材１０は、円筒状ワークの表面に硬質粒子を噴射して凹部を形成する際、いわゆるブラスト加工の際に、該凹部が所定のパターンで形成されるように、非加工部を前記硬質粒子から保護するためのマスキング部材である。 - 特許庁

An immersion processing device 50b includes a conveying means composed of a set of a large diameter conveying roller 64 and a small diameter conveying roller 65 and reciprocally conveying a photographic paper sheet R2 between the liquid surface to the bottom, and ultrasonic vibrator arrays 80 are disposed opposing to each other along the vertical conveying passage of the conveying means.例文帳に追加

浸漬処理装置５０ｂにおいて、大径搬送ローラ６４および小径搬送ローラ６５の組から成り、印画紙シートＲ２を液面から底部の間で往復搬送する搬送手段の縦搬送路に、超音波振動子アレイ８０を対向配置させる。 - 特許庁

To provide an X-ray detector and an X-ray imaging instrument by which a proportion occupied by a dead area on an X-ray incident surface is minimized, the working cost of a scattered beam removing collimator is restricted and also a sufficient sensitivity correction processing is executed in collection data.例文帳に追加

不感領域がＸ線入射面に占める割合を最小化でき、散乱線除去コリメータの加工コストを抑え、且つ、収集データに十分な感度補正処理を施すことができるＸ線検出装置およびＸ線イメージング装置を提供する。 - 特許庁

The terminals 1014D for connecting elements, connecting terminals of a light source 1002, connecting terminals of a light receiving element 1004 and connecting terminals 1010A of a processing circuit 1010 are connected to one another by wire on the surface 1014A of the substrate 1014.例文帳に追加

基板１０１４の表面１０１４Ａにおいて、複数の素子接続用端子１０１４Ｄと、光源１００２の接続端子、受光素子１００４の接続端子および処理回路１０１０の接続端子１０１０Ａとの間がワイヤによって接続されている。 - 特許庁

To provide a processing device capable of easily aligning heights of a plurality of electrodes formed to protrude from the surface of a platelike object without short-circuiting, and preventing the deposition of cut chips to the plate-like object and the contamination in a processed region.例文帳に追加

板状物の表面に突出して形成された複数個の電極を短絡させることなくその高さを容易に揃えることができるとともに、加工屑の板状物への付着および加工領域の汚染を防止できる加工装置を提供する。 - 特許庁

The image forming device includes a detecting member 32 to be pushed upward higher than the top surface of a printed medium as the paper sheet loading quantity on a delivery tray, onto which the printed paper sheets are loaded when the post-processing device is not installed, increases.例文帳に追加

画像形成装置は、後処理装置が装着されていないときに印刷後の用紙が積載される排出トレイ上の該用紙の積載量が増加するにしたがって、該印刷媒体の上面により上方に押し上げられる検知部材３２を備えている。 - 特許庁

To provide: a method of processing a base material for a nano-imprint mold, which is used for accurately detecting the surface position of the base material when drawing a pattern on a resist by means of an electron beam; and a method of manufacturing a nano-imprint mold having a highly accurate irregular pattern.例文帳に追加

電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide both a method and an apparatus for processing a raw meat, capable of thickening a protein denaturation layer on the surface of the raw meat and keeping shape retentivity by effectively utilizing heating characteristics of Joule heating and microwave heating, respectively.例文帳に追加

ジュール加熱とマイクロ波加熱の各加熱特性を有効に利用することにより、成形された原料食肉類の表面の蛋白変成層を厚くして保形力を高めることができる原料食肉類の成形方法及びその成形装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of fast processing without contamination in a primary apparatus body by preventing toner from leaking from a cleaner housing by forcibly moving toner cloud in timing where a cleaner blade and a seal separate from a carrier surface.例文帳に追加

担持体表面からクリーナブレードやシールが離間などするタイミングにトナークラウドを強制的に移動させることにより、クリーナハウジングからトナーが漏れてしまうことを制限して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an antireflection film forming method and a substrate processing apparatus capable of suppressing a pattern collapse by enhancing the adhesion between the antireflection film formed on a substrate and the resist film formed on the surface thereof, without impairing various characteristics of the antireflection film.例文帳に追加

反射防止膜の諸特性を損なうことなく、基板上に形成される反射防止膜と、この表面に形成されるレジスト膜との密着性を高めて、パターン倒壊を抑制することができる反射防止膜形成方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing box is heated under a vacuum to vaporize the metal vaporized material, vaporized metal atoms are stuck on a sintered magnet surface, and the stuck metal atoms are diffused to grain boundaries and/or a grain boundary phase of the sintered magnet.例文帳に追加

そして、真空中にて処理箱を加熱して金属蒸発材料を蒸発させ、蒸発した金属原子を焼結磁石表面に付着させ、前記付着した金属原子を焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of fast processing without contamination in a primary apparatus body by preventing toner from leaking from a cleaner housing by forcibly moving toner cloud in timing where a cleaner blade and a seal slide in contact with a carrier surface.例文帳に追加

担持体表面にクリーナブレードやシールが摺接するタイミングにトナークラウドを強制的に移動させることにより、クリーナハウジングからトナーが漏れてしまうことを制限して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The plasma-discharge generator has anode electrodes containing a plurality of rod-shaped electrodes 2b extended in a striped shape in the parallel direction with the processing surface of the substrate to be processed 4 and plate-shaped cathode electrodes 2a arranged at intervals at places opposed to the anode electrodes.例文帳に追加

プラズマ放電発生部は、被処理基板４の処理面と平行な方向にストライプ状に延びる複数の棒状電極部２ｂを含むアノード電極と、アノード電極と対向する位置に間隔をあけて配置されたプレート状のカソード電極２ａとを有する。 - 特許庁

The semiconductor substrate manufacturing method comprises forming the SiGe film on the substrate having a silicon layer on its surface, forming a mask pattern having grating-shaped grooves on the SiGe film, injecting ions to the substrate through the mask pattern, and then performing heat processing.例文帳に追加

表面にシリコン層を有する基板上に、ＳｉＧｅ膜を形成し、該ＳｉＧｅ膜上に格子状の溝を有するマスクパターンを形成し、該マスクパターンをとおして基板にイオン注入し、熱処理を行う半導体基板の製造方法が提供される。 - 特許庁

When a detection object in a specimen is detected by an immuno-chromatography method, a reagent composition for immuno-chromatography containing a nonionic surface active agent, an N,N-bis(2-hydroxyethyl)glycine buffer and casein is used as specimen processing liquid or developer.例文帳に追加

イムノクロマトグラフィー法により検体中の検出対象物を検出する際に、非イオン界面活性剤、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン緩衝剤およびカゼインを含むイムノクロマトグラフィー用試薬組成物を、検体処理液または展開液として用いる。 - 特許庁

Thereby, the ion exchange of a lithium ion and a sodium ion which exist in the vicinity of the surface of the glass substrate 23, and the potassium ion having larger ionic radius than that of the lithium ion and sodium ion in the processing liquid 14, and chemical strengthening is carried out.例文帳に追加

これにより、ガラス基板２３中の表面近傍に存在するリチウムイオン及びナトリウムイオンと、化学強化処理液１４中のリチウムイオン及びナトリウムイオンよりもイオン半径の大きいカリウムイオンとがイオン交換されて化学強化処理が行われる。 - 特許庁

The method for producing the carbon nano-structures comprises growing carbon crystal from the crystal growth surface of a catalyst base material containing a catalyst material, and in the method, the catalyst base material is formed by diameter reduction processing.例文帳に追加

触媒材料を含む触媒基材の結晶成長面から気相成長によってカーボン結晶を成長させるカーボンナノ構造体の製造方法であって、触媒基材が縮径加工により形成されるカーボンナノ構造体の製造方法に関する。 - 特許庁

To solve the problem on a photoresist coater and a method for processing a semiconductor substrate employing it that the surface of the semiconductor substrate is exposed by stripping liquid and roughened when photoresist is stripped because the semiconductor substrate is coated directly with photoresist.例文帳に追加

フォトレジスト塗布装置およびそれを用いた半導体基板の処理方法においては、半導体基板上に直接フォトレジストを塗布するため、フォトレジストを剥離する際に、剥離液によって半導体基板の表面がむき出しになり荒らされるといった問題を有する。 - 特許庁

The SOI substrate is heat-treated at a temperature of 600-1,250°C, and gettering is performed to metal impurities accidentally mixed into the interface of the SOI film and quartz substrate and into the SOI film in the process of plasma processing, or the like to the surface region of the silicon film 12.例文帳に追加

次にこのＳＯＩ基板を６００℃〜１２５０℃の温度で熱処理し、プラズマ処理等の工程においてＳＯＩ膜／石英基板界面およびＳＯＩ膜中に偶発的に混入した金属不純物をシリコン膜１２の表面領域にゲッタリングする。 - 特許庁

The three-dimensional image processing device univocally defines reference spheres BOL, BOR, BPL and BPR matching the surface shapes of the orbit and the external auditory meatus, and extracts fixed points Ps1, Psr, Psl' and Psr' corresponding to respective anatomical characteristic points by using the reference spheres BOL, BOR, BPL and BPR.例文帳に追加

３次元画像処理装置は、眼窩および外耳道のそれぞれの表面形状に合った各基準球ＢＯＬ，ＢＯＲ，ＢＰＬ，ＢＰＲを一義的に定義し、同各基準球ＢＯＬ，ＢＯＲ，ＢＰＬ，ＢＰＲを用いて、解剖学的な特徴点にそれぞれ対応する定点Ｐｓｌ，Ｐｓｒ，Ｐｓｌ’，Ｐｓｒ’を抽出する。 - 特許庁

To provide a mold release polyester film for hot press molding suitable as a film for processing, capable of reducing the stainability of a circuit portion and the surface of a circuit during hot press molding, especially during production of the flexible printed circuit board (FPC) and capable of providing mold releasability.例文帳に追加

熱プレス成型時、特にフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）製造時の回路部、回路表面の汚染性を低下させることができ、十分な離型性を付与することのできる工程用フィルムとして好適な熱プレス成型用離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

A plurality of detection areas which are formed on different positions at least in the vertical direction are set on an imaging surface of a solid state imaging device and an AF detection processing circuit 20 extracts a high frequency component of each detection area from an image signal obtained by image.例文帳に追加

固体撮像素子の撮像面上に少なくとも垂直方向に対する位置の異なる複数の検波領域が設定され、ＡＦ検波処理回路２０は、撮像により得られた画像信号から検波領域ごとに高周波成分を抽出する。 - 特許庁

A hardened layer 11 is formed by forming a carburized quenched layer by induction hardening in oil, in a surface hardened layer of a sliding part without performing finishing processing after the induction hardening of at least any one of the outside joint member and the inside joint member.例文帳に追加

外側継手部材および内側継手部材の少なくともどちらか一方の高周波焼入れ後の仕上げ加工を行わない摺動部位の表面硬化層に油中での高周波焼入れにて浸炭焼入れ層を形成した硬化層１１とした。 - 特許庁

In order to improve the uniformity of the projection size in the substrate top surface, an exposure quantity E is set to 1 to 3 times as large as the complete dissolution exposure quantity E0 (exposure quantity for eliminating the thickness of a resist after development) of a positive type photoresist in development processing.例文帳に追加

基板表面内の突起寸法の均一性を向上させるため、露光量Ｅは、現像処理時のポジ型フォトレジストの完全溶解露光量Ｅ０（現像後のレジストの厚みがなくなる露光量）の１倍より大きく３倍未満に設定される。 - 特許庁

To provide a program capable of enhancing visual effects, while expressing determination of the optimal arrangement position of an effect object in a pseudo manner, expressing the appearance that light of the sun, and the like, shines on the water surface, using a simple processing, within a game space, such as action game.例文帳に追加

アクションゲーム等のゲーム空間内で、水面に太陽等の光が差し込む様子を擬似的に表現した効果オブジェクトの最適な配置位置の決定を簡易な処理で表現しつつ、視覚的な効果を向上させることができるプログラムを提供する。 - 特許庁

It is preferable that the change of the tapping holes is performed according to the molten iron surface position of the molten iron layer 11 varied with the processing of the wearing of internal refractory in the furnace under condition that the mass of the molten iron layer 11 held in the furnace is kept in a fixed range.例文帳に追加

前記タップホールの切り替えは、炉内に保持される溶鉄層１１の質量を一定の範囲に維持する条件下において、炉内張り耐火物の損耗の進行に伴って変化する溶鉄層１１の湯面位置に応じて行うのが好ましい。 - 特許庁

The substrate processing apparatus comprises a substrate holder 22 for retaining the substrate W; and dry gas supply sections 32, 36 for setting an atmosphere in which at least one portion of the surface of the substrate W retained by a substrate holder 22 is exposed to a dry gas atmosphere whose moisture is controlled.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、基板Ｗを保持する基板ホルダ２２と、基板ホルダ２２で保持した基板Ｗの表面の少なくとも一部が曝される雰囲気を、湿度が制御されたドライガス雰囲気にするドライガス供給部３２，３６とを有する。 - 特許庁

In the housing 2 of the wafer processing apparatus 1, a plating-liquid supply means 19 that supplies plating liquid to a surface of the wafer W, a slurry supply means 20 that supplies slurry, and a cleaning liquid supply means 21 that supplies cleaning liquid, are installed.例文帳に追加

さらに、ウエハ処理装置１のハウジング２には、ウエハＷの被メッキ面にメッキ液を供給するメッキ液供給手段１９と、スラリを供給するスラリ供給手段２０と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段２１とが配設されている。 - 特許庁

To provide a laminated structure being good in surface flatness and appearance, large in an inter-layer peeling strength and capable of carrying out an after processing such as co-drawing or the like without occurring an inter layer peeling and a phase difference film made by uni-axially stretching the structure.例文帳に追加

本発明は、表面平滑性と外観が良好であり、層間剥離強度が大きく、層間剥離を起こすことなく共延伸などの後加工が可能な積層構造体及び該積層構造体を一軸延伸してなる位相差フィルムを提供する。 - 特許庁

The controller 40 for the game machines has a circuit board 113 on which an image control CPU 114, adapted to carry out the processing related to the games with the seal display on the rear side of the core part, is mounted with the seal display facing the surface side.例文帳に追加

遊技に関連する処理を行い、コア部分の裏側に捺印表示が施されている画像制御ＣＰＵ１１４を捺印表示が表側を向くようにして実装した回路基板１１３を有する遊技機用制御装置４０が以下の構成を有する。 - 特許庁

Even when the size of the first and second photodiodes PD31 and PD32 is reduced and the size in the passing direction of the light beam is reduced on the light receiving surface, an output pulse having a width not causing any trouble in signal processing in the post-stage circuit can be obtained.例文帳に追加

これにより、第１および第２フォトダイオードＰＤ３１，ＰＤ３２を小型化してその受光面における光ビームの通過方向のサイズが小さくなった場合でも、後段回路での信号処理に支障を来たさない幅の出力パルスが得られる。 - 特許庁

Then, the laser device 3 and the condensing lens 5 are moved to the outside in the diametric direction of the ingot 1 at a predetermined speed while rotating a turntable 2, on which the ingot 1 is placed, in a direction α to move the focus point of the laser beam on a processing surface in a whirled state.例文帳に追加

そして、インゴット１を載置しているターンテーブル２をα方向に回転させながらレーザー装置３および集光レンズ５を、インゴット１の径方向外方に所定の速度で移動させて、レーザー光の集光点を、加工面上を渦巻き状に移動させる。 - 特許庁